高效发光二极管及其制造方法

    公开(公告)号:CN1084055C

    公开(公告)日:2002-05-01

    申请号:CN98100008.8

    申请日:1998-01-06

    Abstract: 本发明涉及基本电气元件中的一种半导体及其器件方法。它主要是通过减小发光二极管发光侧电极对光的吸收,利用金属气相淀积法制造的高效发光二极管,它包括有衬底、下限制层、活型区、上限制层、扩展层、欧姆接触层,其中磷化铝镓铟(AlGaInP)混晶层12、13、14形成双异质结或多量子阱发光区,各结晶层是用有机金属气相淀积法连续形成的。本发明具有结构简单、制造技术可靠、以及成本低,因此具有实用性。

    LED与OLED结合的可调谐白光三端发光器件及制备方法

    公开(公告)号:CN111370543A

    公开(公告)日:2020-07-03

    申请号:CN202010207119.1

    申请日:2020-03-23

    Abstract: 一种LED与OLED串联的可调谐白光三端发光器件,所述器件包括:透明衬底;蓝光LED结构,其形成在所述透明衬底上,包括P电极与N电极;OLED结构,其形成在所述LED结构上,包括阳极与阴极;所述蓝光LED结构的P电极作为所述器件的阳极;所述OLED结构的阴极作为所述器件的阴极;所述OLED结构的阳极为透明导电层;所述蓝光LED结构的N电极与OLED结构的透明导电层实现电互联,并作为器件的中间电极;所述蓝光LED结构的P电极、中间电极和OLED结构的阴极构成三端可调控电极。该器件将蓝光LED高光效与黄光OLED宽光谱的优势相结合,可获得高效率、高品质、可调谐、长寿命、低成本的白光光源。

    采用复合透明导电层的发光二极管及其制备方法

    公开(公告)号:CN103730558B

    公开(公告)日:2017-07-14

    申请号:CN201310750549.8

    申请日:2013-12-31

    Abstract: 本发明提供了一种采用复合透明导电层的发光二极管及其制备方法。该发光二极包括:衬底;依次沉积于衬底上的缓冲层、n型GaN层、多量子阱层、p型AlGaN层和p型GaN层,其中,该发光二极管一侧的p型GaN层、p型AlGaN层、多量子阱和部分的n型GaN层被刻蚀形成台阶;p型复合透明导电层,形成于发光二极管未经刻蚀一侧的p型GaN层上,自下而上依次包括:ITO透明接触层、ZnO基电流扩展层、ITO导光层;p型金属电极层和n型金属电极层,分别形成于发光二极管未经刻蚀一侧的ITO导光层上和发光二极管被刻蚀一侧的台阶上。本发明提高了透明导电层的抗腐蚀能力,进而提高整个发光二极管器件的合格率。

    制备晶圆级全彩LED显示阵列的方法

    公开(公告)号:CN103579461B

    公开(公告)日:2016-04-13

    申请号:CN201310553763.4

    申请日:2013-11-08

    Abstract: 本发明提供了一种制备晶圆级全彩LED显示阵列的方法。该方法包括:步骤A,在衬底上生长GaN材料,制备GaN外延片;步骤B,通过深刻蚀工艺在所述GaN外延片上形成多个独立的LED结构;以及步骤F,对准不同列的LED结构,在蓝宝石衬底背面涂敷不同荧光粉,以形成红、绿、蓝LED芯片,从而形成晶圆级全彩LED显示阵列。本发明制备晶圆级全彩LED显示阵列的方法由逐列涂覆的荧光粉直接在LED蓝宝石wafer上实现全彩显示,从而实现了晶圆级LED显示阵列的像素尺寸小于500um。

    一种半导体激光器引脚式封装结构及方法

    公开(公告)号:CN104377542A

    公开(公告)日:2015-02-25

    申请号:CN201410730192.1

    申请日:2014-12-04

    Abstract: 本发明公开了一种半导体激光器引脚式封装结构及方法。所述封装结构包括:正极管舌、负极管舌、环氧树脂透镜;半导体激光器芯片的负极通过焊料粘结在负极管舌上,芯片与负极管舌平行;所述半导体激光器芯片的正极通过金线与正极管舌相连;所述正极管舌和负极管舌由所述环氧树脂透镜所封装,所述正极管舌和负极管舌作为所述半导体激光器的正极引脚和负极引脚自所述环氧树脂透镜引出。本发明具有封装结构简单、封装工艺简化、成本低、可靠性好等优点。

    制备氮化镓绿光发光二极管外延结构的方法

    公开(公告)号:CN102623588B

    公开(公告)日:2014-07-09

    申请号:CN201210093564.5

    申请日:2012-03-31

    Abstract: 一种制备氮化镓绿光发光二极管外延结构的方法,包括以下步骤:步骤1:取一衬底;步骤2:在衬底上依次外延生长u-GaN层、n-GaN层、多量子阱层和p-GaN耦合层;步骤3:在p-GaN耦合层上生长纳米金属层;步骤4:在纳米金属层上生长一P-GaN盖层;步骤5:在P-GaN盖层上生长一p-GaN电流扩展层,完成外延结构的制备。本发明是利用金属的核壳结构的等立体增强绿光发光二极管的内量子效率。

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