氮化物纳米带的制备方法

    公开(公告)号:CN106952856B

    公开(公告)日:2021-03-02

    申请号:CN201710063306.5

    申请日:2017-01-26

    Abstract: 本发明提供了一种氮化物纳米带的制备方法,包括:刻蚀硅衬底,得到图形化硅衬底;在图形化硅衬底的壁面上生长氮化物外延层;对粘连在一起的图形化硅衬底与氮化物外延层结构,进行腐蚀去除图形化硅衬底,得到氮化物纳米带。本发明对Si衬底的晶向没有苛刻的要求,在Si(100)和Si(111)衬底上皆可进行降低生产成本,采用图形化衬底生长氮化物,生长氮化物的尺寸可控。

    一种热原子束流分布的测量装置及方法

    公开(公告)号:CN114689556A

    公开(公告)日:2022-07-01

    申请号:CN202210289638.6

    申请日:2022-03-23

    Abstract: 本申请公开了一种热原子束流分布的测量装置及方法,利用激光与原子的共振跃迁谱线,通过测量荧光信号强度,获取原子束流沿出射路径的分布。原子炉口及准直狭缝等物理结构的设计影响了原子束流的分布,目前物理结构的设计仅以原子束流分布的仿真结果为依据,实验测量原子束流的分布不仅对原子炉口设计进行了工程验证,而且对炉口的加工装配情况进行了工程测试。此外,为优化炉口的参数设计进一步改善原子束流分布提供了实验参考。根据实测的原子束流分布验证并优化物理系统的结构设计,抑制原子束流的发散角,改善原子束流的准直特性,有利于减少原子损失、提高原子利用效率、增加原子使用寿命,推动对原子束流分布的监测和控制。

    非平面硅衬底LED器件及其制作方法

    公开(公告)号:CN106558637A

    公开(公告)日:2017-04-05

    申请号:CN201611027044.9

    申请日:2016-11-16

    CPC classification number: H01L33/0066 H01L33/0075 H01L33/16 H01L33/22

    Abstract: 一种非平面硅衬底LED器件及其制作方法,其中,所述方法包括:处理硅衬底,得到包含有斜侧面的非平面硅衬底;在斜侧面上生长第一外延层;在下平面上依次生长N电极和隔离层;在第一外延层上生长第二外延层;在N电极和隔离层上生长P电极;所述器件包括:基底和倒坑阵列结构,所述基底为非平面硅衬底,包含下平面和斜侧面,所述倒坑阵列结构包括:斜侧面上生长的自内而外的第一外延层和第二外延层;所述下平面上依次叠置的N电极、隔离层和P电极。本发明利用非平面硅衬底制作LED器件,具有工艺成熟、低成本、大尺寸和和实现高质量氮化物外延等诸多优点。

    一种钙原子束光钟的原子束流准直特性的测量装置及方法

    公开(公告)号:CN114659470B

    公开(公告)日:2024-08-02

    申请号:CN202210290307.4

    申请日:2022-03-23

    Abstract: 本申请公开了一种钙原子束光钟的原子束流准直特性的测量装置及方法。测量方法为:利用电动位移平台系统,对探测激光与钙原子共振跃迁的辐射荧光信号进行扫描测量,得到原子束流发射路径上不同位置的钙原子分布,实现原子束流准直特性的测量,包括束流发散角α和偏转角β。测量装置包括钙原子束流真空物理系统,激光锁频光路,探测光路,斩波器,锁相放大器及相应的电控装置。本申请在已有的原子炉口准直管设计基础上,利用原子与激光相互作用的荧光信号强度测量原子束流的z向分布边界,得到原子束流发射路径上不同位置的原子分布,以突破工程应用中加工及装配的限制,进一步提高原子束流量及原子束流准直特性。

    一种钙原子束光钟的原子束流准直特性的测量装置及方法

    公开(公告)号:CN114659470A

    公开(公告)日:2022-06-24

    申请号:CN202210290307.4

    申请日:2022-03-23

    Abstract: 本申请公开了一种钙原子束光钟的原子束流准直特性的测量装置及方法。测量方法为:利用电动位移平台系统,对探测激光与钙原子共振跃迁的辐射荧光信号进行扫描测量,得到原子束流发射路径上不同位置的钙原子分布,实现原子束流准直特性的测量,包括束流发散角α和偏转角β。测量装置包括钙原子束流真空物理系统,激光锁频光路,探测光路,斩波器,锁相放大器及相应的电控装置。本申请在已有的原子炉口准直管设计基础上,利用原子与激光相互作用的荧光信号强度测量原子束流的z向分布边界,得到原子束流发射路径上不同位置的原子分布,以突破工程应用中加工及装配的限制,进一步提高原子束流量及原子束流准直特性。

    氮化物纳米带的制备方法

    公开(公告)号:CN106952856A

    公开(公告)日:2017-07-14

    申请号:CN201710063306.5

    申请日:2017-01-26

    Abstract: 本发明提供了一种氮化物纳米带的制备方法,包括:刻蚀硅衬底,得到图形化硅衬底;在图形化硅衬底的壁面上生长氮化物外延层;对粘连在一起的图形化硅衬底与氮化物外延层结构,进行腐蚀去除图形化硅衬底,得到氮化物纳米带。本发明对Si衬底的晶向没有苛刻的要求,在Si(100)和Si(111)衬底上皆可进行降低生产成本,采用图形化衬底生长氮化物,生长氮化物的尺寸可控。

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