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公开(公告)号：CN114965369B
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN202210377804.8
申请日：2022-04-06
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种掩模基板表面微纳缺陷检测装置和检测方法，该装置采用双方位角斜入射和垂直入射照明，本发明通过反射物镜高效收集不同散射角下的表面缺陷散射信号，提高缺陷探测灵敏度。本发明通过分别采集斜入射照明下的缺陷散射图像和垂直照明下的缺陷散射图像，比较表面缺陷在不同照明方式下的散射信号差异可以判别缺陷的类型，提高检测准确性。
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公开(公告)号：CN114428057B
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN202210038701.9
申请日：2022-01-13
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种材料宽谱吸收特性测量装置和测量方法，该装置包括宽谱泵浦光路和探测光路。本发明采用常用的高功率宽谱照明光源实现材料在宽波段范围内的吸收光谱直接测量，显著降低成本。解决了泵浦光束聚焦后光斑中心空洞的问题。基于声光调制，并通过光束调控获得强单色泵浦光，提高了光源使用效率，增强了探测信号强度，提升了系统的吸收测量灵敏度和信噪比。
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公开(公告)号：CN115824087A
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN202211551439.4
申请日：2022-12-05
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G01B11/24
Abstract: 一种超米级平面元件面形拼接检测装置，包括：干涉仪、二维移动拼接平台、机械辅助搬运系统、光学平台、电气控制系统和计算机，通过机械辅助搬运系统将待测平面反射镜放置于二维移动拼接平台上，干涉仪的部分出射光经TF标准镜的后表面反射形成参考光束，另一部分透过TF标准镜经待测样品反射形成测量光束，参考光束和测量光束沿原光路返回形成清晰的明暗相间的干涉条纹；计算机对干涉条纹进行解包获得待测样品在该子孔径区域的面形误差；通过电气控制系统控制二维拼接平台，将待测件移动至下一子孔径位置，并且与上一子孔径保持部分重叠，重复上述测量步骤直至完成对所有子孔径区域面形误差的测量，使用拼接软件计算得到待测样品全口径面形误差。
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公开(公告)号：CN111948223B
公开(公告)日：2023-01-20
申请号：CN202010580232.4
申请日：2020-06-23
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G01N21/95
Abstract: 一种介质高反膜元件表面缺陷测量装置和测量方法，该装置包括环形光源、样品、陷波滤波系统、显微系统、相机、XYZ位移平台、光束收集器、光纤、光谱仪和计算机。本发明利用宽光谱光源照明，计算高反膜光滑表面散射光谱特性，陷波滤波系统滤除强散射背景光，增强缺陷图像对比度，提高了测量灵敏度，解决了传统技术对介质高反膜元件表面缺陷大量漏检的问题。
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公开(公告)号：CN115369370A
公开(公告)日：2022-11-22
申请号：CN202211003352.3
申请日：2022-08-19
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 本发明属于半球谐振陀螺仪领域，特别涉及卫星惯性导航系统中半球谐振陀螺仪谐振子金属化镀膜工艺；具体为一种用于半球谐振子金属化镀膜的夹具装置；所述装置包括谐振子自转结构，谐振子整体摆动结构以及两者之间的连接控制结构；所述谐振子的自转结构是通过步进电机轴承连接谐振子支撑杆，实现谐振子的自转；所述谐振子的整体摆动装置是指通过另外一个电机带动前述自转电机进行特定角度范围内的往返摆动；所述自转电机和整体摆动电机之间的连接控制结构是指通过一个L型金属板结构，将两个电机连接控制在一起；通过本发明设计的镀膜夹具装置，可分别用于谐振子外球面、内球面以及谐振子中间支撑杆上的均匀性镀膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111412852B
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202010285846.X
申请日：2020-04-13
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 本发明公开了一种双波长双模式的动态数字散斑干涉测量装置及方法，通过开关可变扩束器，以及标准球面镜头和可变倍成像镜头的切换，形成紧凑式双波长激光干涉系统和双波长散斑干涉系统两种模式共用的测量装置。利用双波长产生的合成波长干涉信号可以提高系统的测量动态范围，同时利用偏振同步移相技术可以实现系统的动态测量，降低测量环境的抗振要求。本发明测量装置及方法可以实现高精度复合材料曲面元件的大视场、大动态范围和实时动态的光滑表面形貌及粗糙表面形变的在线原位精确测量。
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公开(公告)号：CN109060816B
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN201810605232.8
申请日：2018-06-13
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G01N21/88
Abstract: 一种大口径元件体内缺陷快速检测装置和方法，该装置主要包括激光器、半波片、偏振片、光束整形器、第一成像镜头、第一CCD相机、第二成像镜头、第二CCD相机、显微镜照明光源、光纤、YZ二维移动平台、XYZ三维移动平台、扫描同步控制系统和计算机。本发明利用YZ二维移动平台和XYZ三维移动平台分别控制光源和高、低倍成像系统运动，避免了大口径元件快速运动导致的危险性和测量结果不稳定性。本发明采用低倍全口径激光散射快速扫描成像和高倍定点明场成像相结合的方式，不仅实现体缺陷快速定位，而且能准确测量其尺寸，为元件质量评价、分级提供可靠依据。
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公开(公告)号：CN112234420A
公开(公告)日：2021-01-15
申请号：CN202011144722.6
申请日：2020-10-23
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所 , 上海恒益光学精密机械有限公司
IPC: H01S3/083
Abstract: 一种基于混沌激光的光学元件高反射率的测量系统，包括激光器、光电探测器和示波器，还包括光纤隔离器、第一光纤耦合器、供待测光学元件放置的样品台、第一姿态调节机构、第二姿态调节机构和第二光纤耦合器。本发明的测量灵敏度大大提高，测量系统可以实现小型化。
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公开(公告)号：CN112229606A
公开(公告)日：2021-01-15
申请号：CN202011014593.9
申请日：2020-09-24
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 本发明提出了一种光学元件多模态原位缺陷测量装置和测量方法，包括泵浦激发系统、散射照明系统、吸收探测系统、光致发光探测系统、发光光谱探测系统和散射探测系统。本发明基于光学元件加工过程中产生的各类缺陷的吸收、光致发光和散射效应实现了不同类型缺陷原位测量，解决了单一测量技术漏检，不同测量装置之间错位测量、表征不准确的问题，根据缺陷的发光光谱可以判定缺陷物质类型，能够更准确评价同一位置的缺陷性质，为客观完整地评价光学元件加工质量提供有力支撑。
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公开(公告)号：CN109029244B
公开(公告)日：2020-08-28
申请号：CN201810749061.6
申请日：2018-07-10
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G01B9/02
Abstract: 一种多波长激光干涉仪，该装置包括：激光器、孔径光阑、扩束次镜、针孔光阑、分光棱镜、准直主镜、透射标准镜、压电陶瓷换能器、待测平面元件、反射标准镜、成像透镜、高光谱相机和计算机。本发明装置中的准直主镜为三透镜，成像透镜与扩束次镜参数完全相同且为单透镜；为了减小本发明装置中透镜的加工难度和降低整套系统光路装调的难度，本发明装置中的扩束次镜和准直主镜各有1个面可为平面。本发明能在600nm～1600nm波长范围内，能对待测的平面光学元件的透射波前或反射波前进行测量。
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