公开(公告)号：CN112635278B

公开(公告)日：2025-05-09

申请号：CN202010993810.7

申请日：2020-09-21

Applicant: 日本株式会社日立高新技术科学

Inventor： 麻生拓笃 ,  满欣 ,  佐藤诚 ,  麻畑达也

IPC: H01J37/22 ,  H01J37/244 ,  H01J37/28

Abstract: 提供粒子束照射装置，进行基于多个检测器的观察时，能缩短多个检测器的亮度调整的时间。粒子束照射装置具有照射粒子束的照射部、检测第1粒子的第1检测部、检测第2粒子的第2检测部、像形成部和控制部，像形成部进行如下处理：形成基于第1检测部检测到第1粒子的第1信号的观察像；形成基于第2检测部检测到第2粒子的第2信号的观察像，控制部进行如下处理：计算形成的第1观察像的第1区域的亮度，第1区域的亮度与第1目标亮度不同时，根据第1目标亮度进行第1检测部的亮度调整作为第1亮度调整；计算形成的第2观察像的第2区域的亮度，第2区域的亮度与第2目标亮度不同时，根据第2目标亮度进行第2检测部的亮度调整作为第2亮度调整。

公开(公告)号：CN119943632A

公开(公告)日：2025-05-06

申请号：CN202411953389.1

申请日：2024-12-27

Applicant: 中国航空制造技术研究院

Inventor： 杨波 ,  巩水利 ,  许海鹰 ,  王壮 ,  桑兴华

IPC: H01J37/065 ,  H01J37/244

Abstract: 本申请涉及一种电子枪束斑品质优化装置，包括束流品质优化调控系统和束斑形貌检测传感器；束斑形貌检测传感器内设置有分别与束流品质优化调控系统连接的束斑形貌检测基板和钨探针阵列；束流品质优化调控系统分别与电子枪的消像线圈和合轴线圈连接；束斑形貌检测基板用于检测电子枪产生的电子束的束斑形貌，并将检测结果传输至束流品质优化调控系统；钨探针阵列用于检测电子束的束斑能量分布，并将检测结果传输至束流品质优化调控系统；束流品质优化调控系统用于根据束斑形貌检测基板的检测结果调整消像线圈的驱动电流，使电子束的束斑形貌为圆形；根据钨探针阵列的检测结果调整合轴线圈的驱动电流，使电子束的束斑能量从中心向四周呈高斯分布。

公开(公告)号：CN119943631A

公开(公告)日：2025-05-06

申请号：CN202411905120.6

申请日：2024-12-23

Applicant: 北京烁科中科信电子装备有限公司

Inventor： 李进 ,  陈辉 ,  林萍 ,  尚成国 ,  徐志华

IPC: H01J37/02 ,  H01J37/244 ,  H01J37/30 ,  H01J37/317 ,  H01L21/265

Abstract: 本发明公开了一种离子注入机的束流Glitch恢复方法及系统，方法包括步骤：实时监测束流Glitch；当发生束流Glitch时，立即关断束流，同时记录晶圆注入中断位置，记为第一中断位置，同时晶圆运动到安全位置；监测束流稳定性和均匀性达到指标后，立即启动一次Glitch的反向补打，晶圆进行一次Glitch的反向补打；在进行晶圆一次Glitch反向补打时，晶圆从未注入区域开始补打，当晶圆运动到注入第一中断位置时关断束流，至此，一次Glitch补打注入结束。本发明不仅能够完成一次束流Glitch的补打，还可以实现多次Glitch的补打，为离子注入机产品安全的重要补救方法。

公开(公告)号：CN114937585B

公开(公告)日：2025-05-06

申请号：CN202210698168.9

申请日：2018-04-10

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： L·迪努-格尔特勒 ,  E·P·霍杰沃斯特 ,  J·范索伊斯特

IPC: H01J37/065 ,  H01J37/067 ,  H01J37/07 ,  H01J37/10 ,  H01J37/244 ,  H01J37/317 ,  H01J37/04 ,  H01J1/88 ,  H01J3/02 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种用于产生和发射带电粒子束的带电粒子源模块，包括：框架，包括第一框架部分、第二框架部分以及布置在第一框架部分和第二框架部分之间的并且刚性地连接至它们的一个或多个刚性支撑构件，框架包括安装构件，安装构件通过挠曲连接件而连接到第二框架部分；用于产生带电粒子束的带电粒子源装置，其中带电粒子源装置被布置在第二框架部分处，包括：发射器装置，被配置用于发射带电粒子；以及电极，用于从由发射器装置发射的带电粒子形成带电粒子束；和布置在第一框架部分处的电力连接组件，电力连接组件刚性地连接到第一框架部分，并且带电粒子源装置刚性地连接到第二框架部分，其中带电粒子源装置经由电线电连接至电力连接组件。

公开(公告)号：CN119890024A

公开(公告)日：2025-04-25

申请号：CN202510081991.9

申请日：2025-01-17

Applicant: 中国人民解放军国防科技大学

Inventor： 石峰 ,  周港 ,  田野 ,  巩保启 ,  郭双鹏

IPC: H01J37/32 ,  H01J37/244 ,  H01J37/24

Abstract: 本申请公开一种微波‑射频混频耦合等离子体放电与调制系统及方法，涉及离子束加工技术领域，其中，气体分配器将工艺气体分别输送至ECR区和射频增强放电室；调节微波天线功率，使ECR区中工艺气体形成初始等离子体；调节电子引出栅极的电压，将初始等离子体中的电子引出至射频增强放电室中；射频功率电源将射频电压加载至射频线圈上，使电子在射频增强放电室与工艺气体碰撞，形成高密度等离子体；调节离子引出栅极，使高密度等离子体内的离子形成离子束流；若离子束流的密度满足稳定性要求，将离子引出栅极输出的离子束流确定为刻蚀的目标离子束流；否则，调节各电源，直到得到目标离子束流。本申请实现了离子源长时间高效稳定刻蚀。

公开(公告)号：CN119852152A

公开(公告)日：2025-04-18

申请号：CN202510042717.0

申请日：2025-01-10

Applicant: 纳克微束(北京)有限公司

Inventor： 胡继闯 ,  李小文 ,  李经纬 ,  台晓凯 ,  张景龙 ,  宋航 ,  张月新 ,  连志强 ,  袁良经

IPC: H01J37/244 ,  H01J37/28 ,  G01N23/2206 ,  G01N23/2251 ,  G01N23/2254 ,  G01N23/203

Abstract: 本发明提供了一种多成像模式的复合探测器，属于成像装置技术领域。本发明包括探测器主体安装梁、真空馈通密封法兰、探测器支撑臂、R轴往复旋转驱动机构、X2轴驱动机构、探测器A、信号放大器A及屏蔽壳、探测器B、信号放大器B及屏蔽壳、多通道信号处理器、探测器密封安装法兰、可压缩和扭转金属波纹管。本发明通过将多个探测器融合在单一附件中同步捕获BSE信号/X射线信号/阴极荧光信号和STEM信号。无需在多个设备间频繁切换，显著提升了实验效率，同时有效削减了用户的设备购置与维护成本。不同探测器集成在一个附件中，只需占据一个接口，这精简了设备的结构，也可为别的附件留出空间，使得电镜功能最大化。

公开(公告)号：CN113892163B

公开(公告)日：2025-04-08

申请号：CN202080039350.2

申请日：2020-05-18

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 任伟明 ,  胡学让 ,  席庆坡 ,  刘学东

IPC: H01J37/09 ,  H01J37/244 ,  H01J37/28

Abstract: 公开了通过减少多射束设备中的二次带电粒子检测器的检测元件之间的串扰，来增强成像分辨率的系统和方法。多射束设备包括用于将来自样品的多个二次带电粒子射束投射到带电粒子检测器(140)上的电光系统。该电光系统包括第一预限制孔径板(155P)和射束限制孔径阵列(155)，第一预限制孔径板(155P)包括被配置为阻挡多个二次带电粒子射束的外围带电粒子的第一孔径；射束限制孔径阵列(155)包括被配置为修整多个二次带电粒子射束的第二孔径。带电粒子检测器可以包括多个检测元件(140_1、140_2、140_3)，其中多个检测元件中的一个检测元件与多个二次带电粒子射束中的对应修整后的射束相关联。

公开(公告)号：CN119673733A

公开(公告)日：2025-03-21

申请号：CN202410925418.7

申请日：2024-07-11

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 李东穆 ,  尚特·阿拉克良

IPC: H01J37/244 ,  H01J37/32 ,  H01L21/67 ,  G01R31/12 ,  G01R31/16

Abstract: 本申请涉及用于衬底处理装置的环组件测试装置，包括：电极本体，包括设置在包括环组件的测试对象下方的底部电极和设置在所述测试对象上方的顶部电极；以及功率应用模块，用于向所述电极本体施加功率，其中，向所述电极本体施加功率，以在处理衬底的所述衬底处理装置外部，测试所述环组件的电弧的发生。

公开(公告)号：CN119581302A

公开(公告)日：2025-03-07

申请号：CN202411819622.7

申请日：2024-12-11

Applicant: 合肥综合性国家科学中心能源研究院(安徽省能源实验室)

Inventor： 钱玉忠 ,  朱振清 ,  梁立振 ,  李猛猛 ,  陶鑫 ,  胡纯栋

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/30 ,  H01J37/08 ,  H01J37/244 ,  H01J37/18 ,  H01L21/265

Abstract: 本发明涉及一种基于射频离子源的离子注入机装置，属于离子注入技术领域。本发明由离子源部分、真空腔室部分以及靶室部分三部分组成。本发明通过使用射频离子源结构简单紧凑，在靶室中馈入栅极可以实时在线监测束流大小，使得注入离子的浓度精确可控，另一方面使用插板阀把真空腔室和靶室隔离，缩短了更换样品后的抽气时间，可迅速启动，为离子注入领域提供良好的技术基础。

公开(公告)号：CN114373665B

公开(公告)日：2025-03-07

申请号：CN202111585443.8

申请日：2021-12-22

Applicant: 江苏鲁汶仪器股份有限公司

Inventor： 李雪冬 ,  刘海洋 ,  刘小波 ,  朱小庆 ,  许开东 ,  陈璐

IPC: H01J37/244 ,  H01J37/305 ,  H01J37/32

Abstract: 本发明公开了一种具有终点检测功能的离子束刻蚀系统，离子束刻蚀系统包括载台和聚焦环；载台包括晶圆承载面、厂务连接板和载台座，聚焦环包括固定部、环体和台阶部，环体通过固定部固定于载台上，台阶部下表面与环体外径相连，台阶部上表面高于晶圆上表面；终点检测装置包括信号收集探头、信号传输线和信号处理器；信号收集探头的采集端放置在台阶部的孔内，信号收集探头的数据输出端与信号传输线连接，信号收集探头对临近晶圆处的实时光谱信号进行实时采集，并将采集结果经由信号传输线发送至信号处理器，信号处理器根据实时光谱信号计算得到相应的产物基团浓度。本发明能够提高终点检测信号强度、稳定性和重复性，并且不会影响腔室内真空。