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公开(公告)号：CN110352469B
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN201780081259.5
申请日：2017-12-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/141 , H01J37/145 , H01J37/317
Abstract: 本公开提出一种防旋转透镜，并将其用作具有预子射束形成机构的多射束装置中的防旋转聚光透镜。防旋转聚光透镜在改变其电流时保持子射束的旋转角度不变，从而使得预子射束形成机构能够尽可能多地阻断未使用的电子。以这种方式，多射束装置可以以高分辨率和高吞吐量观察样本，并且能够用作检查和/或查看半导体制造工业中的晶片/掩模上的缺陷的产量管理工具。
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公开(公告)号：CN115428116A
公开(公告)日：2022-12-02
申请号：CN202180027392.9
申请日：2021-04-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/244 , H01J37/145
Abstract: 公开了使用带电粒子束装置对样品进行成像的系统和方法。带电粒子束装置可以包括复合物镜，该复合物镜包括磁透镜和静电透镜，该磁透镜包括空腔，以及位于紧邻磁透镜的极片的上游并且在磁透镜的空腔内部的电子检测器。在一些实施例中，偏转器可以位于电子检测器和与样品相邻的极片的开口之间以实现大视场。通过改变静电物镜中的(多个)控制电极的电位，可以在不改变着陆能量的情况下操纵检测器之间的电子分布。电子源可以用若干离散电位来操作以覆盖不同的着陆能量，而电子源和提取器之间的电位差是固定的。
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公开(公告)号：CN115335950A
公开(公告)日：2022-11-11
申请号：CN202180020567.3
申请日：2021-03-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/04 , H01J37/244
Abstract: 公开了使用电子束装置观察样品的系统和方法。该电子束装置包括：电子源，其被配置为沿着主光轴(404)产生初级电子束；以及第一电子探测器(420)，其具有基本上平行于主光轴的第一探测层(421)，并且被配置为探测从样品上的探测斑点产生的多个信号电子(412)的第一部分。该方法可包括产生多个信号电子、并使用基本上平行于初级电子束的主光轴的第一电子探测器探测信号电子。第二电子探测器(407)的第二探测层可以基本上垂直于主光轴。通过在静电或磁性元件的内表面上设置第一电子探测器，静电元件或磁性元件可以被配置为探测背散射电子。
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公开(公告)号：CN113646865A
公开(公告)日：2021-11-12
申请号：CN202080025519.9
申请日：2020-03-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 公开了一种支持多种操作模式的多束检查设备。支持多种操作模式的用于检查样品的带电粒子束设备包括被配置为沿着主光轴发射带电粒子束的带电粒子束源、在第一位置与第二位置之间能够移动的可移动孔板、以及控制器，控制器具有电路系统并且被配置为改变该设备的配置以在第一模式与第二模式之间进行切换。在第一模式下，可移动孔板位于第一位置并且被配置为允许源自带电粒子束的第一带电粒子束波穿过。在第二模式下，可移动孔板位于第二位置并且被配置为允许第一带电粒子束波和第二带电粒子束波穿过。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108885187B
公开(公告)日：2021-05-25
申请号：CN201780019776.X
申请日：2017-01-27
Applicant: ASML 荷兰有限公司
IPC: G01N23/2251
Abstract: 提出了一种具有尺寸、取向和入射角可变的总FOV的新多束装置。新装置提供了加速样本观察和使得更多样本可观察的更大灵活性。更具体地，作为在半导体制造工业中检查和/或审查晶片/掩模上的缺陷的产量管理工具，新装置提供了实现高吞吐量和检测更多种类的缺陷的更多可能性。
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公开(公告)号：CN112567493A
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：CN201980053848.1
申请日：2019-07-31
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/28 , H01J37/04 , H01J37/153 , H01J37/05
Abstract: 公开了用于在多束装置中观察样品的系统和方法。一种带电粒子光学系统可以包括：偏转器，其被配置为形成带电粒子源的虚像；和转印透镜，其被配置为在图像平面上形成带电粒子源的实像。图像平面可以至少形成在光束分离器附近，该光束分离器被配置为分离由源生成的初级带电粒子和由初级带电粒子与样品的交互而生成的次级带电粒子。图像平面可以形成在光束分离器的偏转平面处。多束装置可以包括带电粒子色散补偿器以补偿光束分离器的色散。在转印透镜与带电粒子色散补偿器之间，图像平面可以被形成为与光束分离器相比更靠近转印透镜。
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公开(公告)号：CN108738363B
公开(公告)日：2020-08-07
申请号：CN201680051694.9
申请日：2016-07-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/147 , H01J37/06 , H01J37/10 , H01J37/28
Abstract: 提出了一种用于以高分辨率和高生产能力观察样本的多束装置。在该装置中，源转换单元通过使来自一个单电子源的平行初级电子束的多个小束偏转来形成该单电子源的多个且平行的图像，并且一个物镜将多个偏转的小束聚焦到样本表面上，并在样本表面上形成多个探测点。可移动聚光透镜用于使初级电子束准直，并改变多个探测点的电流，预小束形成部件弱化初级电子束的库仑效应，并且源转换单元通过最小化并补偿物镜和聚光透镜的离轴像差来最小化多个探测点的尺寸。
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公开(公告)号：CN110945621A
公开(公告)日：2020-03-31
申请号：CN201880048462.7
申请日：2018-07-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/05 , H01J37/147 , H01J37/28 , H01J37/244
Abstract: 提供了用于补偿单束或多束设备中的分束器的色散的系统和方法。本公开的实施例提供了分散装置，分散装置包括被配置为诱导束色散的静电偏转器和磁性偏转器，束色散被设置以消除由分束器生成的色散。静电偏转器和磁性偏转器的组合可以用于在所诱导的束色散被改变以补偿由分束器生成的色散变化时，将由于分散装置引起的偏转角保持不变。在一些实施例中，由于分散装置而引起的偏转角可以被控制为零，并且没有由于分散装置而引起的初级束轴变化。
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公开(公告)号：CN119343738A
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202380046126.X
申请日：2023-07-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/21 , H01J37/244 , H01J37/28
Abstract: 优化次级带电粒子收集效率的测量系统和方法包括：多射束检查装置(104)，其被配置为扫描(226)样品(230)并且包括透镜(242)；检测器(244)，其被配置为响应于扫描样品而接收多个次级带电粒子束(236,238,240)；以及控制器(296)，其包括通信地耦合到多射束检查装置和检测器通信的电路系统，其被配置为：聚焦透镜以调节次级束斑的尺寸，其中次级束斑由检测器上的多个次级带电粒子束形成；对于多个次级带电粒子束中的每个次级带电粒子束，使得每个次级带电粒子束的离群带电粒子不被检测器检测到；以及重新聚焦透镜以调节由检测器检测到的多个次级带电粒子束的部分的电流，其中离群带电粒子不对电流产生贡献。
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