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公开(公告)号：CN114420523B
公开(公告)日：2025-04-15
申请号：CN202210041735.3
申请日：2016-11-30
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/145 , H01J37/05 , H01J37/153 , H01J37/28 , G01N23/2251
Abstract: 披露了多个带电粒子束的设备。提出了一种多束设备中的二次投影成像系统，该二次投影成像系统使二次电子检测具有高收集效率和低串扰。该系统采用一个变焦透镜，一个投影透镜和一个防扫描偏转单元。变焦透镜和投影透镜分别执行变焦功能和防旋转功能，以相对于多个一次细束的着陆能量和/或电流保持总成像放大倍率和总图像旋转。防扫描偏转单元执行防扫描功能以消除由于多个一次细束的偏转扫描而导致的动态图像移位。
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公开(公告)号：CN119340181A
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202411696009.0
申请日：2019-11-26
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/147 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J37/317
Abstract: 公开了包括改进的源转换单元的多束检查装置。改进的源转换单元可以包括微结构偏转器阵列，微结构偏转器阵列包括多个多极结构。微偏转器的偏转器阵列可以包括具有距阵列中心轴线第一径向偏移的第一多极结构以及具有距阵列中心轴线第二径向偏移的第二多极结构。第一径向偏移大于第二径向偏移，并且第一多极结构包括比第二多极结构更多数量的极电极，以在多个多极结构将多个带电粒子束偏转时减少偏转像差。
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公开(公告)号：CN111681939B
公开(公告)日：2023-10-27
申请号：CN202010663424.1
申请日：2016-07-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/147 , H01J37/06 , H01J37/12 , H01J37/141 , H01J37/145 , H01J37/28
Abstract: 提出了一种用于以高分辨率和高生产能力观察样本的多束装置。在该装置中，源转换单元通过使来自一个单电子源的平行初级电子束的多个小束偏转来形成该单电子源的多个且平行的图像，并且一个物镜将多个偏转的小束聚焦到样本表面上，并在样本表面上形成多个探测点。可移动聚光透镜用于使初级电子束准直，并改变多个探测点的电流，预小束形成部件弱化初级电子束的库仑效应，并且源转换单元通过最小化并补偿物镜和聚光透镜的离轴像差来最小化多个探测点的尺寸。
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公开(公告)号：CN111164725B
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN201880063509.7
申请日：2018-09-25
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 本文公开了一种设备，该设备包括：带电粒子源，被配置为沿设备的主束轴发射带电粒子束；聚束透镜，被配置为使得束围绕主束轴集中；开孔；第一多极透镜；第二多极透镜；其中第一多极透镜相对于聚束透镜处于下游、并且相对于第二多极透镜处于上游；其中第二多极透镜相对于第一多极透镜处于下游、并且相对于开孔处于上游。
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公开(公告)号：CN114830287A
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202080088481.X
申请日：2020-12-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/28 , H01J37/141 , H01J37/153 , H01J37/244 , H01J37/29
Abstract: 公开了使用多束设备形成样本的图像的系统和方法。该方法可以包括在与多个初级电子束相互作用时从样本上的多个探测斑生成多个次级电子束。该方法还可以包括：调整与样本相互作用的多个初级电子束的取向，将多个次级电子束引导离开多个初级电子束，补偿多个被引导的次级电子束的像散像差，将多个被引导的次级电子束聚焦到焦平面上，通过带电粒子检测器检测多个被聚焦的次级电子束，以及将带电粒子检测器的检测平面定位在焦平面处或靠近焦平面。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110574139B
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN201880027803.2
申请日：2018-04-04
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/317 , H01J37/147 , H01J37/12
Abstract: 本文中公开了一种设备，其包括：第一导电层；第二导电层；多个光学元件，在第一导电层和第二导电层之间，其中多个光学元件被配置为影响多个带电粒子束；第三导电层，在第一导电层和第二导电层之间；以及电绝缘层，物理连接到光学元件，其中电绝缘层被配置为使光学元件与第一导电层和第二导电层电绝缘。
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公开(公告)号：CN108738343B
公开(公告)日：2022-02-01
申请号：CN201680069949.4
申请日：2016-11-30
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G01N23/2251 , H01J37/10 , H01J37/153
Abstract: 提出了一种多束设备中的二次投影成像系统，该二次投影成像系统使二次电子检测具有高收集效率和低串扰。该系统采用一个变焦透镜，一个投影透镜和一个防扫描偏转单元。变焦透镜和投影透镜分别执行变焦功能和防旋转功能，以相对于多个一次细束的着陆能量和/或电流保持总成像放大倍率和总图像旋转。防扫描偏转单元执行防扫描功能以消除由于多个一次细束的偏转扫描而导致的动态图像移位。
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公开(公告)号：CN113614873A
公开(公告)日：2021-11-05
申请号：CN201980087246.8
申请日：2019-11-26
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/147
Abstract: 公开了微结构偏转器阵列(622)，微结构偏转器阵列(622)包括多个多极结构(622‑1至622‑47)。微偏转器的偏转器阵列包括具有距阵列中心轴线第一径向偏移的第一多极结构(622‑26、……622‑47)以及具有距阵列中心轴线第二径向偏移的第二多极结构(622‑1)。第一径向偏移大于第二径向偏移，并且第一多极结构包括比第二多极结构更多数量的极电极，以在多个多极结构将多个带电粒子束偏转时减少偏转像差。微结构偏转器阵列可以被包含在多束检查装置的改进的源转换单元中。
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公开(公告)号：CN110352469A
公开(公告)日：2019-10-18
申请号：CN201780081259.5
申请日：2017-12-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/141 , H01J37/145 , H01J37/317
Abstract: 本公开提出一种防旋转透镜，并将其用作具有预子射束形成机构的多射束装置中的防旋转聚光透镜。防旋转聚光透镜在改变其电流时保持子射束的旋转角度不变，从而使得预子射束形成机构能够尽可能多地阻断未使用的电子。以这种方式，多射束装置可以以高分辨率和高吞吐量观察样本，并且能够用作检查和/或查看半导体制造工业中的晶片/掩模上的缺陷的产量管理工具。
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公开(公告)号：CN119343738A
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202380046126.X
申请日：2023-07-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/21 , H01J37/244 , H01J37/28
Abstract: 优化次级带电粒子收集效率的测量系统和方法包括：多射束检查装置(104)，其被配置为扫描(226)样品(230)并且包括透镜(242)；检测器(244)，其被配置为响应于扫描样品而接收多个次级带电粒子束(236,238,240)；以及控制器(296)，其包括通信地耦合到多射束检查装置和检测器通信的电路系统，其被配置为：聚焦透镜以调节次级束斑的尺寸，其中次级束斑由检测器上的多个次级带电粒子束形成；对于多个次级带电粒子束中的每个次级带电粒子束，使得每个次级带电粒子束的离群带电粒子不被检测器检测到；以及重新聚焦透镜以调节由检测器检测到的多个次级带电粒子束的部分的电流，其中离群带电粒子不对电流产生贡献。
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