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公开(公告)号：CN119343738A
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202380046126.X
申请日：2023-07-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/21 , H01J37/244 , H01J37/28
Abstract: 优化次级带电粒子收集效率的测量系统和方法包括：多射束检查装置(104)，其被配置为扫描(226)样品(230)并且包括透镜(242)；检测器(244)，其被配置为响应于扫描样品而接收多个次级带电粒子束(236,238,240)；以及控制器(296)，其包括通信地耦合到多射束检查装置和检测器通信的电路系统，其被配置为：聚焦透镜以调节次级束斑的尺寸，其中次级束斑由检测器上的多个次级带电粒子束形成；对于多个次级带电粒子束中的每个次级带电粒子束，使得每个次级带电粒子束的离群带电粒子不被检测器检测到；以及重新聚焦透镜以调节由检测器检测到的多个次级带电粒子束的部分的电流，其中离群带电粒子不对电流产生贡献。
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公开(公告)号：CN119314849A
公开(公告)日：2025-01-14
申请号：CN202411696033.4
申请日：2019-09-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/244 , H01J37/28 , H01J37/32 , G01N23/225 , G01N21/95
Abstract: 公开了一种改进的带电粒子束检查装置，并且更具体地，公开了一种包括改进的对准机制的粒子束检查装置。一种改进的带电粒子束检查装置可以包括第二电子检测器件，该第二电子检测器件用以在该对准模式期间生成多个次级电子束中的一个或多个束斑点的一个或多个图像。该束斑点图像可以被用来确定该多个次级电子束中的一个或多个次级电子束的对准特性，并且调节次级电子投影系统的配置。
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公开(公告)号：CN119170471A
公开(公告)日：2024-12-20
申请号：CN202411313436.6
申请日：2019-06-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 本公开涉及用于使用多束检查装置扫描样品的系统和方法。一种多束工具，包括：束配置系统，包括被配置为生成带电粒子的一次束的带电粒子源、被配置为保持样品的载物台、以及位于带电粒子源与载物台之间配置成将一次束分成束阵列的偏转器系统；其中所述束配置系统被配置为提供旋转束配置，所述旋转束配置具有基于所述束阵列的行中的束数量而确定的旋转角度。
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公开(公告)号：CN113892165B
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202080039403.0
申请日：2020-05-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 任伟明 , 刘学东 , 胡学让 , 陈仲玮 , M·G·M·J·玛森
Abstract: 公开了减轻多射束设备中的库仑效应的系统和方法。该多射束设备可以包括：带电粒子源，被配置为沿着初级光轴生成初级带电粒子束；第一孔阵列，该第一孔阵列包括第一多个孔，该第一多个孔具有形状并且被配置为生成源自初级带电粒子束的多个初级子束；聚光透镜，包括沿着初级光轴可调的平面；以及第二孔阵列，该第二孔阵列包括第二多个孔，该第二多个孔被配置为生成与多个子束相对应的探测子束，其中多个探测子束中的每个探测子束包括至少基于聚光透镜的平面的位置和第二孔阵列的特性的对应初级子束的带电粒子的部分。
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公开(公告)号：CN116864359A
公开(公告)日：2023-10-10
申请号：CN202311033092.9
申请日：2018-09-25
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/12 , H01J37/147 , H01J37/28 , H01J37/06
Abstract: 本文涉及一种用于带电粒子束检查的样本预充电方法、设备和计算机可读介质。设备包括：带电粒子源，被配置为沿设备的主束轴发射带电粒子束；聚束透镜，被配置为使得束围绕主束轴集中；孔径；第一多极透镜；第二多极透镜；其中第一多极透镜相对于聚束透镜处于下游、并且相对于第二多极透镜处于上游；其中第二多极透镜相对于第一多极透镜处于下游、并且相对于孔径处于上游。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116830236A
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN202180092944.4
申请日：2021-12-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/244
Abstract: 一种检测带电粒子的方法可以包括当初级带电粒子束沿着第一方向移动时，检测束强度；当初级带电粒子束沿着第二方向移动时，获取次级束点投射图案；以及基于所获取的次级束点投射图案来确定次级束点的参数。一种补偿检测器上的束点变化的方法可以包括获取检测器上的束点投射图案，确定束点投射图案的变化，以及基于该变化来调节检测器的检测器单元的参数。可以提供另一种用于相对于检测器的检测器单元来形成虚拟孔径的方法。
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公开(公告)号：CN113892165A
公开(公告)日：2022-01-04
申请号：CN202080039403.0
申请日：2020-05-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 任伟明 , 刘学东 , 胡学让 , 陈仲玮 , M·G·M·J·玛森
Abstract: 公开了减轻多射束设备中的库仑效应的系统和方法。该多射束设备可以包括：带电粒子源，被配置为沿着初级光轴生成初级带电粒子束；第一孔阵列，该第一孔阵列包括第一多个孔，该第一多个孔具有形状并且被配置为生成源自初级带电粒子束的多个初级子束；聚光透镜，包括沿着初级光轴可调的平面；以及第二孔阵列，该第二孔阵列包括第二多个孔，该第二多个孔被配置为生成与多个子束相对应的探测子束，其中多个探测子束中的每个探测子束包括至少基于聚光透镜的平面的位置和第二孔阵列的特性的对应初级子束的带电粒子的部分。
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公开(公告)号：CN113632196A
公开(公告)日：2021-11-09
申请号：CN202080024585.4
申请日：2020-03-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/05 , H01J37/147 , H01J37/28
Abstract: 公开了一种包括可调射束分离器的多射束检查装置。可调射束分离器被配置为改变次级粒子射束的路径。可调射束分离器包括第一维恩过滤器和第二维恩过滤器。两个维恩过滤器都与初级光学轴线对准。第一维恩过滤器和第二维恩过滤器是分别经由第一激励输入和第二激励输入而独立可控的。可调射束分离器被配置为基于第一激励输入和第二激励输入，沿着初级光学轴线来移动可调射束分离器的有效弯曲点。
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公开(公告)号：CN110574139A
公开(公告)日：2019-12-13
申请号：CN201880027803.2
申请日：2018-04-04
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/317 , H01J37/147 , H01J37/12
Abstract: 本文中公开了一种设备，其包括：第一导电层；第二导电层；多个光学元件，在第一导电层和第二导电层之间，其中多个光学元件被配置为影响多个带电粒子束；第三导电层，在第一导电层和第二导电层之间；以及电绝缘层，物理连接到光学元件，其中电绝缘层被配置为使光学元件与第一导电层和第二导电层电绝缘。
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公开(公告)号：CN114420523B
公开(公告)日：2025-04-15
申请号：CN202210041735.3
申请日：2016-11-30
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/145 , H01J37/05 , H01J37/153 , H01J37/28 , G01N23/2251
Abstract: 披露了多个带电粒子束的设备。提出了一种多束设备中的二次投影成像系统，该二次投影成像系统使二次电子检测具有高收集效率和低串扰。该系统采用一个变焦透镜，一个投影透镜和一个防扫描偏转单元。变焦透镜和投影透镜分别执行变焦功能和防旋转功能，以相对于多个一次细束的着陆能量和/或电流保持总成像放大倍率和总图像旋转。防扫描偏转单元执行防扫描功能以消除由于多个一次细束的偏转扫描而导致的动态图像移位。
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