公开(公告)号：CN106462083B

公开(公告)日：2019-08-13

申请号：CN201580032779.8

申请日：2015-05-21

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： P·德维特 ,  Y·德沃斯 ,  P·赫姆佩纽斯 ,  N·科姆珀 ,  R·M·G·里杰斯 ,  F·范德梅尤伦 ,  S·博伊瑞

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F9/7073 ,  G03F7/20 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70875 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/709

Abstract: 本发明涉及提供一种用于光刻设备的温度调节系统。对象中的温度变化引起对象变形，这阻碍了对象被精确定位。温度调节系统使用对象中或上的设置有流体的导管系统以控制对象的温度，从而减小对象变形。以这种方式，可以更精确地定位对象的部分。然而，对象的加速和温度调节系统引发对象上或中的导管系统内的流体的压力变化，这也会引起对象变形。为了提供改进的导管系统，光刻设备还包括控制系统，其用于基于表示导管中的压力变化的测量值来控制对象的移动。

公开(公告)号：CN105408991B

公开(公告)日：2019-07-16

申请号：CN201380078446.X

申请日：2013-05-23

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 一之濑刚

IPC: H01L21/683

CPC classification number: H01L21/68742 ,  G03F7/20 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70733 ,  H01L21/6838 ,  H01L21/6875

Abstract: 本发明提供一种保持晶圆的晶圆保持装置，该晶圆保持装置具有：晶圆保持件，其载置有晶圆；以及升降销，其设为能够相对于晶圆保持件沿着晶圆的载置面的法线方向升降。升降销具有前端部，该前端部具有形成吸附区域的底部、以及在吸附区域内支承晶圆的背面的凸部，其中该吸附区域吸附晶圆的背面。当将基板载置于作为目标的位置上时，即使该基板是大型的，也能够抑制载置该基板的局部的平整度降低。

公开(公告)号：CN104685976B

公开(公告)日：2019-05-31

申请号：CN201380051742.0

申请日：2013-09-27

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 田边美晴 ,  井口雄一朗 ,  草野一孝

IPC: H05K3/06 ,  G03F7/20 ,  G06F3/041 ,  H01B13/00 ,  H05K3/12

CPC classification number: G03F7/20 ,  G03F7/0043 ,  G03F7/028 ,  G03F7/2022 ,  G06F3/041 ,  G06F3/047 ,  G06F2203/04103 ,  G09G5/003 ,  G09G2300/0404 ,  H05K3/1283 ,  H05K2203/1131

Abstract: 本发明的目的在于提供如下导电图案的制造方法，该方法能够获得导电性良好的导电图案、能够显著提高生产效率而无需伴随高温且长时间的加热处理。本发明提供导电图案的制造方法，其具备如下曝光工序：用具有广谱的光对包含导电性颗粒A和有机化合物B的基板上的膜或图案进行曝光，从而得到导电膜或导电图案。

公开(公告)号：CN104508557B

公开(公告)日：2019-05-31

申请号：CN201380039975.9

申请日：2013-09-19

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 上村聪 ,  高桥秀知 ,  加藤启太

IPC: G03F7/038 ,  C08F212/14 ,  C08F220/04 ,  C08F220/18 ,  C08F220/26 ,  C08F220/28 ,  C08F220/58 ,  C08F232/00 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0388 ,  C08F212/14 ,  C08F212/32 ,  C08F220/04 ,  C08F220/18 ,  C08F220/26 ,  C08F220/28 ,  C08F220/58 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/30 ,  G03F7/325 ,  G03F7/40

Abstract: 本发明的图案形成方法包括(i)使用光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物形成膜，所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物含有具有包含能够通过归因于酸的作用的分解而生成极性基团的基团的重复单元和包含羧基的重复单元的树脂(A)，根据使用光化射线或放射线的照射生成酸的化合物(B)，以及溶剂(C)；(ii)使用KrF准分子激光、极紫外线或电子束将所述膜曝光；以及(iii)通过使用包含有机溶剂的显影液将已曝光的膜显影而形成阴图型色调图案。

公开(公告)号：CN108027557B

公开(公告)日：2019-05-28

申请号：CN201680052638.7

申请日：2016-09-20

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 荘司优 ,  增田有希 ,  矶部王郎 ,  奥田良治

IPC: G03F7/023 ,  C08G69/02 ,  G03F7/20 ,  G03F7/40

CPC classification number: G03F7/0387 ,  C08G69/02 ,  C08G69/40 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/023 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/16 ,  G03F7/161 ,  G03F7/168 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  G03F7/40 ,  H01L23/293 ,  H01L23/3192 ,  H01L23/562 ,  H01L24/02 ,  H01L24/03 ,  H01L24/05 ,  H01L24/13 ,  H01L2224/02331 ,  H01L2224/024 ,  H01L2224/03462 ,  H01L2224/03515 ,  H01L2224/0362 ,  H01L2224/0401 ,  H01L2224/05008 ,  H01L2224/13022 ,  H01L2224/13024 ,  H01L2224/13026 ,  H01L2224/131 ,  H01L2924/0695 ,  H01L2924/3511 ,  H01L2924/014

Abstract: 本发明提供高伸长性、低应力性、金属铜高密合性的固化膜。本发明的固化膜是将感光性树脂组合物固化而得到的固化膜，其特征在于，所述感光性树脂组合物含有聚羟基酰胺，所述固化膜中的所述聚羟基酰胺的闭环率为10％以下。

公开(公告)号：CN109791371A

公开(公告)日：2019-05-21

申请号：CN201780061213.7

申请日：2017-05-15

Applicant: 株式会社 ,  尼康

Inventor： 加藤正纪 ,  中山修一

IPC: G03F7/20 ,  G02B26/10 ,  G02B26/12 ,  H05K3/00

CPC classification number: G02B26/10 ,  G02B26/12 ,  G03F7/20 ,  H05K3/00

Abstract: 本发明的图案描绘装置(EX)具备：位置计测部(MU)，其计测应藉由多个描绘单元(Un)描绘的基板(P)上的被曝光区域的位置；第1调整构件(HVP)，其是为了使利用描绘单元(Un)的各个描绘的图案相对于被曝光区域的位置误差减少，而根据利用位置计测部(MU)计测出的位置对基于描绘单元(Un)的各个的光点(SP)的位置于基板(P)的移动中于第2方向上进行调整；及第2调整构件(AOM1)，其是为了使利用描绘单元(Un)的各个描绘的图案于第2方向上的接合误差减少，而对基于描绘单元(Un)的各个的光点(SP)的位置于基板(P)的移动中以高于第1调整构件(HVP)的响应性在第2方向上进行调整。

公开(公告)号：CN109789568A

公开(公告)日：2019-05-21

申请号：CN201780058780.7

申请日：2017-09-11

Applicant: 深圳市柔宇科技有限公司

Inventor： 黄顺宏 ,  朱广飞

IPC: B25J19/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: B25J19/00 ,  G03F7/20

Abstract: 一种机械手臂(10)、曝光机前单元(1000)和温度控制方法。机械手臂(10)，用于曝光机前单元(1000)，曝光机前单元(1000)包括温度控制单元(200)和传送单元(100)，机械手臂(10)位于传送单元(100)内，机械手臂(10)包括：本体(12)和温度传感器(14)。本体(12)能够承托玻璃基板并将位于温度控制单元(200)内的玻璃基板传送至曝光机，温度传感器(14)设置于本体(12)上，用于监测传送单元(100)内的温度。该机械手臂(10)可使玻璃基板在传送过程中温度稳定，从而有效避免温度变化对曝光精度产生的影响。

公开(公告)号：CN109715591A

公开(公告)日：2019-05-03

申请号：CN201780055990.0

申请日：2017-09-13

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 越后雅敏

IPC: C07C39/21 ,  C07D311/78 ,  C08G8/20 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20

CPC classification number: C07C39/21 ,  C07D311/78 ,  C08G8/20 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种下述式(0)所示的化合物。(式(0)中，RY为氢原子、RZ为碳数1～60的N价的基团或单键，RT各自独立地为任选具有取代基的碳数1～30的烷基、任选具有取代基的碳数6～30的芳基、任选具有取代基的碳数2～30的烯基、任选具有取代基的碳数1～30的烷氧基、卤素原子、硝基、氨基、羧酸基、巯基或羟基，前述烷基、前述芳基、前述烯基和前述烷氧基任选包含醚键、酮键或酯键，此处，RT中的至少1个为羟基，而且RT中的至少1个为碳数2～30的烯基，X表示氧原子、硫原子、单键或为无桥接，m各自独立地为0～9的整数，此处，m中的至少1个为2～9的整数或m中的至少2个为1～9的整数、N为1～4的整数，此处，N为2以上的整数的情况下，N个[]内的结构式任选相同或不同，r各自独立地为0～2的整数。)

公开(公告)号：CN109690419A

公开(公告)日：2019-04-26

申请号：CN201780055797.7

申请日：2017-08-22

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 坂本宪稔

IPC: G03F9/00 ,  G01B11/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/68

CPC classification number: G01B11/00 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/68

Abstract: 本发明涉及对可移动的物体(3、4a)上的标记的位置进行检测的检测装置(25)。检测装置(25)具有：控制部(24)，其具有作为确定机构的功能，在从物体(3、4a)到达目标位置起直至稳定为止的期间，确定物体(3、4a)的速度变成规定值以下的时机；拍摄机构(13、16)，其在由控制部(24)确定的时机对标记进行拍摄；以及检测机构(22、23)，其基于由拍摄机构(13、16)得到的拍摄结果和上述时机的物体(3、4a)的位置信息来检测标记的位置。

公开(公告)号：CN109416512A

公开(公告)日：2019-03-01

申请号：CN201780040019.0

申请日：2017-06-23

Applicant: 日产化学株式会社

Inventor： 绪方裕斗 ,  后藤裕一 ,  远藤雅久 ,  臼井友辉 ,  岸冈高广

IPC: G03F7/11 ,  C07C43/13 ,  C07D251/34 ,  C07D403/14 ,  C08L65/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: C07C43/13 ,  C07D251/34 ,  C07D403/14 ,  C08L65/00 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明的课题是提供包含具有乙内酰脲环的化合物的、新的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含1分子中具有至少2个下述式(1)所示的取代基的化合物、和溶剂。(式中，R1和R2各自独立地表示氢原子或甲基，X1表示碳原子数1～3的羟基烷基、或主链具有1个或2个醚键的碳原子数2～6的烷基。)