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公开(公告)号:CN106575087B
公开(公告)日:2018-06-26
申请号:CN201580043589.6
申请日:2015-06-25
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/7085 , G03F7/70775 , G03F7/709
Abstract: 光刻设备包括光学传感器(24)、可移动主体(20)、支撑件、偏转器系统(22)、第一驱动系统和第二驱动系统。可移动主体能够相对于传感器移动。支撑件用于保持传感器。第一驱动系统被设置为使可移动主体相对于传感器移动。第二驱动系统被设置为使第一驱动系统相对于传感器移动。第二驱动系统被设置为使偏转器系统相对于传感器移动。可移动主体的移动引起扰动。偏转器系统被设置为形成用于将扰动反射离开支撑件的偏转区域。
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公开(公告)号:CN107885039A
公开(公告)日:2018-04-06
申请号:CN201610876576.3
申请日:2016-09-30
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/709
Abstract: 本发明提供了一种可变磁浮力重力补偿器,所述重力补偿器包括:依次从内到外同心设置的调节磁铁、中心柱磁铁、外环磁铁和外环磁铁外壳、以及调节磁铁垂向驱动机构,其中所述调节磁铁设置在所述中心柱磁铁的中心孔中并且其一端安装在所述调节磁铁垂向驱动机构上,所述调节磁铁与所述中心柱磁铁充磁方向相反,所述调节磁铁垂向驱动机构用于调节所述调节磁铁相对于中心柱磁铁的垂向位移以调节所述重力补偿器的磁浮力。本发明的可变磁浮力重力补偿器通过增加垂向调节磁铁能够在不影响水平向行程的条件下提供50%的大范围无极可调磁浮重力补偿力,大大增加了重力补偿器的应用范围和灵活性。
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公开(公告)号:CN106483778B
公开(公告)日:2018-03-30
申请号:CN201510551168.6
申请日:2015-08-31
Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
Inventor: 李运峰
IPC: G03F9/00
CPC classification number: G03F9/7084 , G03F7/70716 , G03F7/709 , G03F9/00 , G03F9/7007 , G03F9/7026 , G03F9/7034 , G03F9/7088 , H01L21/682
Abstract: 本发明提供了一种基于相对位置测量的对准系统、双工件台系统及测量系统,其中,基于相对位置测量的对准系统包括:主框架、对准传感器、光强信号采集处理模块、反射镜、工件台、位于工件台上的硅片上的对准标记、位置采集模块、及对准操作与管理模块。位置采集模块同时采集从工件台及反射镜获取的位置数据,而所述反射镜位于所述对准传感器上,即,同时采集所述对准传感器与所述工件台的位置数据,通过处理可得到所述工件台相对于所述对准传感器无振动时的相对位置。即,可得到所述对准传感器相对振幅为零时对准标记的对准位置,从而避免了所述对准传感器的震动的影响,提高了对准重复精度。
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公开(公告)号:CN105745577B
公开(公告)日:2018-01-23
申请号:CN201480061165.8
申请日:2014-09-08
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
CPC classification number: H01J37/023 , B01J19/12 , G03F7/708 , G03F7/70825 , G03F7/70833 , G03F7/70891 , G03F7/709 , G03F7/70975 , H01J37/10 , H01J37/20 , H01J37/3007 , H01J37/3177
Abstract: 本发明涉及一种用于使射束指向目标的投影透镜组件。该组件包括透镜支撑体(52),其跨过平面(P)并具有连接区域(58)和侧边(56)。透镜支撑体被布置成用于沿着插入方向(X)与平面(P)平行地插入处理单元的载物架(42)中。投影透镜组件包括从连接区域发出的管线(60‑64),以及用于容纳上述管线的管线导向体(70‑81)。该导向体包括第一导向部(72),用于引导管线从连接区域,沿着平面到达超出侧边的外侧区域(B)。导向体还包括第二导向部(78),用于将管线从外侧区域(B)朝向管线导向体的倾斜边(79)引导。
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公开(公告)号:CN106133608B
公开(公告)日:2018-01-12
申请号:CN201580013489.9
申请日:2015-01-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor: W·H·T·M·安格内恩特 , L·F·库尔涅夫 , T·A·M·汝伊尔 , S·C·J·M·范德伯格 , S·H·范德穆伦 , J·范埃尔克 , P·H·G·乌勒姆斯 , R·H·A·范利绍特
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70758 , G03F7/709 , H01L21/68
Abstract: 本发明披露一种载台定位系统(200),包括:第一本体(20);第二本体(22);及联接件(24),所述联接件(24)被布置成用以将该第一本体与该第二本体彼此联接。所述联接件包括被布置用以将所述第一本体与所述第二本体彼此联接的粘弹性元件(26)。所述载台定位系统还可包括传感器和致动器。所述传感器用以提供表示所述第一本体的位置的信号。所述致动器用以移动所述第一本体。所述第二本体被布置用以将所述致动器与所述联接件彼此联接。
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公开(公告)号:CN104422999B
公开(公告)日:2017-11-07
申请号:CN201410419778.6
申请日:2014-08-22
Applicant: 业纳光学系统有限公司
CPC classification number: G02B7/028 , G02B7/003 , G02B7/008 , G02B7/023 , G02B7/026 , G02B7/181 , G02B7/1827 , G03F7/709
Abstract: 本发明涉及一种热补偿式的光学组件,其包括旋转对称的光学元件(4)和一体式的框架(1),该一体式的框架带有旋转对称的、具有对称轴线(2.1)的框架圈(2)以及至少三个连接单元(3),光学元件(4)通过这些连接单元与框架圈(2)处于防倾斜的且有利地防扭转的连接。连接单元(3)分别由三个联接件(3.1)、(3.2)、(3.3)组成,这些联接件彼此具有确定的长度比例,并且满足以下确定的条件,即,这些联接件相互之间连接并且与框架圈(2)和光学元件(4)连接。
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公开(公告)号:CN105122139B
公开(公告)日:2017-10-10
申请号:CN201380071158.1
申请日:2013-12-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/702 , G02B7/182 , G02B7/1827 , G02B26/0825 , G03F7/70158 , G03F7/70191 , G03F7/70266 , G03F7/70575 , G03F7/709
Abstract: 本发明公开了一种被配置为在光刻设备中将辐射束投影到衬底的目标部分上的系统。所述系统包括反射镜(510)和控制器(515a,515b),所述反射镜具有用于定位所述反射镜和/或配置所述反射镜的形状的致动器(500),所述致动器还为所述反射镜提供主动衰减,并且所述控制器用于产生用于控制所述致动器的致动器控制信号。第一坐标系用于在定位所述反射镜和/或配置所述反射镜的形状时控制所述致动器,并且第二坐标系用于在为所述反射镜提供主动衰减时控制所述致动器。
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公开(公告)号:CN106933060A
公开(公告)日:2017-07-07
申请号:CN201610173887.3
申请日:2016-03-24
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Inventor: 苏同克
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G02B7/18 , G03F7/20 , G03F7/70825 , G03F7/709
Abstract: 本发明公开了一种棱镜旋转调节机构和光刻机曝光系统及光刻机,其中,棱镜旋转调节机构,包括框架、柔性机构及驱动机构,所述柔性机构包括依次柔性铰接的固定件、驱动件、连接件及摇动件,所述固定件固定在框架上,所述驱动机构与所述框架固接,并与所述驱动件连接,所述摇动件上固定有棱镜,所述摇动件与所述固定件的铰接轴为所述棱镜的旋转中心。本发明采用柔性机构构成四边形柔性铰链结构,通过驱动机构直线驱动驱动件,将直线运动转化为旋转运动,使旋转运动的控制更精确,提高了棱镜的旋转控制精度,同时,棱镜的旋转中心为摇动件与固定件的铰接轴,保证了旋转中心位置的稳定,避免在旋转调节过程中发生窜扰,进一步提高棱镜的旋转控制精度。
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公开(公告)号:CN103547967B
公开(公告)日:2016-08-31
申请号:CN201280019495.1
申请日:2012-04-11
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司 , ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70191 , G03F7/70825 , G03F7/709
Abstract: 本发明涉及用于致动微光刻投影曝光设备中的元件的装置。按照本发明的一方面,一种用于致动微光刻投影曝光设备中的元件的装置具有:至少两个致动器(620,630,720,730,820,830),其经由机械耦合(621,631,721,731,821,831)分别耦合至所述元件(610,710,810)并且在至少一个自由度上分别在所述元件上施加能够被调节的力;其中,对于这些致动器中的每一个致动器,属于相应致动器的致动器质量与所述致动器关联的所述机械耦合形成用作低通滤波器的质量?弹簧系统;以及其中,这些质量?弹簧系统的固有频率彼此具有等于这些固有频率中的最大固有频率的10%的最大偏差。
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公开(公告)号:CN105493237A
公开(公告)日:2016-04-13
申请号:CN201480047670.7
申请日:2014-06-26
Applicant: 株式会社尼康
Inventor: 柴崎祐一
IPC: H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/68
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70758 , G03F7/709 , G03F7/70991 , H01L21/68
Abstract: 经由配置于滑块(22)上的6根杆构件(231~233和241~243)而实质上动态地支承搭载有晶圆台(WTB)的支承构件(25)。另外,配置连结构件(29),该连结构件(29)与设于支承构件(25)的Y轴方向两端的薄板状(平板状)的缘部(25c)以隔着规定的间隙而不接触的方式相对。通过这样,利用与缘部(25c)相对的连结构件(29)(挤压阻尼器)来消除搭载有晶圆台(WTB)的支承构件(25)的振动。另外,由于支承构件(25)经由多个杆构件被动态地支承,所以能够减轻伴随着滑块(22)变形而发生的晶圆台(WTB)的变形。
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