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公开(公告)号：CN113439238A
公开(公告)日：2021-09-24
申请号：CN202080014196.3
申请日：2020-01-09
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 一种形成方法，使用第1装置和第2装置在基板上的1个层形成图案，针对每个基板进行包括以下工序的处理：标记形成工序，利用所述第1装置在基板上形成标记；第1形成工序，利用所述第1装置在基板上形成第1图案；以及第2形成工序，利用所述第2装置在基板上形成第2图案，作为所述处理的模式，包括：第1模式，进行用所述第1装置测量所述标记的位置的测量工序，根据该测量工序的测量结果，控制所述第2图案的形成；以及第2模式，省略所述测量工序，根据上次的测量工序的测量结果，控制所述第2图案的形成。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN114859663A
公开(公告)日：2022-08-05
申请号：CN202210096981.9
申请日：2022-01-27
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本公开涉及信息处理装置、信息处理方法以及物品的制造方法。【课题】缩短装置中的异常的原因分析的时间。【解决手段】一种信息处理装置，累积对基板进行处理的基板处理装置中的日志，信息处理装置具有：累积部，累积日志；控制部，以从累积于所述累积部的日志中选择特定的日志的方式进行控制；以及发送部，将由所述控制部选择的日志发送给外部，所述控制部当在所述基板处理装置中发生了错误时，根据已学习模型，选择累积于所述累积部的日志中的相关度超过阈值的日志。
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公开(公告)号：CN113439238B
公开(公告)日：2024-09-17
申请号：CN202080014196.3
申请日：2020-01-09
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 一种形成方法，使用第1装置和第2装置在基板上的1个层形成图案，针对每个基板进行包括以下工序的处理：标记形成工序，利用所述第1装置在基板上形成标记；第1形成工序，利用所述第1装置在基板上形成第1图案；以及第2形成工序，利用所述第2装置在基板上形成第2图案，作为所述处理的模式，包括：第1模式，进行用所述第1装置测量所述标记的位置的测量工序，根据该测量工序的测量结果，控制所述第2图案的形成；以及第2模式，省略所述测量工序，根据上次的测量工序的测量结果，控制所述第2图案的形成。
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公开(公告)号：CN116482946A
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN202310085005.8
申请日：2023-01-17
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明涉及曝光方法、曝光装置以及物品的制造方法。一种在基板的第1拍摄区域曝光原版的图案，在与前述第1拍摄区域的一部分重复的第2拍摄区域曝光原版的图案的曝光方法，包含：第1测量工序，测量与前述第1拍摄区域对应的对准标记的位置；以及曝光工序，基于在前述第1测量工序中测量出的结果进行曝光，在前述曝光工序中，基于在前述第1测量工序中测量出的前述对准标记的位置信息进行前述第1拍摄区域的对位，使用用于前述第1拍摄区域的对位的对准标记的位置信息进行前述第2拍摄区域的对位。
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公开(公告)号：CN115343923A
公开(公告)日：2022-11-15
申请号：CN202210504569.6
申请日：2022-05-10
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 公开了标记检测装置、标记学习装置和基板加工装置。标记检测装置，包括：成像单元，被配置成通过对物体上的对准标记成像来生成对准标记图像；检测单元，被配置成检测对准标记图像中的对准标记；以及调节单元，被配置成基于如下的学习模型来调节与成像相关的参数，所述学习模型是通过使用其中不能检测到对准标记的对准标记图像和作为用于对其中能够检测到对准标记的对准标记图像成像的参数的第一参数进行学习而生成的。调节单元取得作为基于学习模型的推断处理的结果的第二参数。成像单元在参数被调节为第二参数的状态下执行成像。
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