公开(公告)号：CN117170193A

公开(公告)日：2023-12-05

申请号：CN202310626355.0

申请日：2023-05-30

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 栗田裕介 ,  黑泽良昭 ,  木村仁 ,  北冈风太 ,  小林宪矢

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及决定方法、曝光方法、信息处理装置、存储介质、曝光装置以及物品制造方法。提供有利于高精度地校正投影光学系统的成像特性的变动的技术。决定在表示投影光学系统的成像特性的变动的模型公式中使用的、表示提供给投影光学系统的每单位光能的成像特性的变动量的系数的决定方法具有：进行成像特性的测量的工序以及基于通过测量得到的测量值和使用模型公式得到的成像特性的预测值来决定系数的工序，模型公式包括表示进行基板曝光的期间的成像特性的变动的曝光模型公式和表示进行测量的期间的成像特性的变动的测量模型公式，进行曝光的期间的成像特性的预测值使用曝光模型公式求出，进行测量的期间的成像特性的预测值使用测量模型公式求出。

公开(公告)号：CN115343922A

公开(公告)日：2022-11-15

申请号：CN202210504564.3

申请日：2022-05-10

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 小林宪矢 ,  本间英晃 ,  福地有子 ,  玉置公寿 ,  木村仁 ,  斋藤真一

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及求取基板的形状的方法、曝光方法、曝光装置、物品的制造方法以及存储介质。提供一种求取基板的形状的方法，其特征在于，具有：针对根据分配给多个第1基板中的每个第1基板的多个标记中的第1数量的标记的第1位置测量数据决定的所述多个第1基板中的每个第1基板所属的每个组，求取代表性地表示属于该组的第1基板的形状的代表数据的工序；以及根据分配给与所述多个第1基板不同的第2基板的多个标记中的比所述第1数量小的第2数量的标记的第2位置测量数据、以及与根据所述第2位置测量数据决定的所述第2基板所属的组对应的所述代表数据，求取表示所述第2基板的形状的形状数据的工序。