公开(公告)号：CN113439238A

公开(公告)日：2021-09-24

申请号：CN202080014196.3

申请日：2020-01-09

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 稻村咏史 ,  川上武人 ,  米田慎吾 ,  栗田裕介 ,  今野悠 ,  白尾纮祥

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 一种形成方法，使用第1装置和第2装置在基板上的1个层形成图案，针对每个基板进行包括以下工序的处理：标记形成工序，利用所述第1装置在基板上形成标记；第1形成工序，利用所述第1装置在基板上形成第1图案；以及第2形成工序，利用所述第2装置在基板上形成第2图案，作为所述处理的模式，包括：第1模式，进行用所述第1装置测量所述标记的位置的测量工序，根据该测量工序的测量结果，控制所述第2图案的形成；以及第2模式，省略所述测量工序，根据上次的测量工序的测量结果，控制所述第2图案的形成。

公开(公告)号：CN113439238B

公开(公告)日：2024-09-17

申请号：CN202080014196.3

申请日：2020-01-09

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 稻村咏史 ,  川上武人 ,  米田慎吾 ,  栗田裕介 ,  今野悠 ,  白尾纮祥

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 一种形成方法，使用第1装置和第2装置在基板上的1个层形成图案，针对每个基板进行包括以下工序的处理：标记形成工序，利用所述第1装置在基板上形成标记；第1形成工序，利用所述第1装置在基板上形成第1图案；以及第2形成工序，利用所述第2装置在基板上形成第2图案，作为所述处理的模式，包括：第1模式，进行用所述第1装置测量所述标记的位置的测量工序，根据该测量工序的测量结果，控制所述第2图案的形成；以及第2模式，省略所述测量工序，根据上次的测量工序的测量结果，控制所述第2图案的形成。