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公开(公告)号：CN117170193A
公开(公告)日：2023-12-05
申请号：CN202310626355.0
申请日：2023-05-30
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及决定方法、曝光方法、信息处理装置、存储介质、曝光装置以及物品制造方法。提供有利于高精度地校正投影光学系统的成像特性的变动的技术。决定在表示投影光学系统的成像特性的变动的模型公式中使用的、表示提供给投影光学系统的每单位光能的成像特性的变动量的系数的决定方法具有：进行成像特性的测量的工序以及基于通过测量得到的测量值和使用模型公式得到的成像特性的预测值来决定系数的工序，模型公式包括表示进行基板曝光的期间的成像特性的变动的曝光模型公式和表示进行测量的期间的成像特性的变动的测量模型公式，进行曝光的期间的成像特性的预测值使用曝光模型公式求出，进行测量的期间的成像特性的预测值使用测量模型公式求出。
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