公开(公告)号：CN113439238A

公开(公告)日：2021-09-24

申请号：CN202080014196.3

申请日：2020-01-09

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 稻村咏史 ,  川上武人 ,  米田慎吾 ,  栗田裕介 ,  今野悠 ,  白尾纮祥

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 一种形成方法，使用第1装置和第2装置在基板上的1个层形成图案，针对每个基板进行包括以下工序的处理：标记形成工序，利用所述第1装置在基板上形成标记；第1形成工序，利用所述第1装置在基板上形成第1图案；以及第2形成工序，利用所述第2装置在基板上形成第2图案，作为所述处理的模式，包括：第1模式，进行用所述第1装置测量所述标记的位置的测量工序，根据该测量工序的测量结果，控制所述第2图案的形成；以及第2模式，省略所述测量工序，根据上次的测量工序的测量结果，控制所述第2图案的形成。

公开(公告)号：CN118974660A

公开(公告)日：2024-11-15

申请号：CN202280094082.3

申请日：2022-12-20

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 北川纯 ,  白尾纮祥 ,  米田慎吾 ,  木岛涉 ,  高井雄大

IPC: G03F7/20

Abstract: 为了提供能够考虑用于抑制在曝光装置中提供的光学系统的温度变化的控制来获得该光学系统的光学特性的变化量的信息处理装置，根据本发明的信息处理装置被配置为通过将光学系统的目标温度输入到学习模型来预测光学系统的光学特性的变化量。

公开(公告)号：CN113439238B

公开(公告)日：2024-09-17

申请号：CN202080014196.3

申请日：2020-01-09

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 稻村咏史 ,  川上武人 ,  米田慎吾 ,  栗田裕介 ,  今野悠 ,  白尾纮祥

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 一种形成方法，使用第1装置和第2装置在基板上的1个层形成图案，针对每个基板进行包括以下工序的处理：标记形成工序，利用所述第1装置在基板上形成标记；第1形成工序，利用所述第1装置在基板上形成第1图案；以及第2形成工序，利用所述第2装置在基板上形成第2图案，作为所述处理的模式，包括：第1模式，进行用所述第1装置测量所述标记的位置的测量工序，根据该测量工序的测量结果，控制所述第2图案的形成；以及第2模式，省略所述测量工序，根据上次的测量工序的测量结果，控制所述第2图案的形成。

公开(公告)号：CN116482946A

公开(公告)日：2023-07-25

申请号：CN202310085005.8

申请日：2023-01-17

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 白尾纮祥 ,  木岛渉 ,  米田慎吾 ,  北川纯 ,  高井雄大

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及曝光方法、曝光装置以及物品的制造方法。一种在基板的第1拍摄区域曝光原版的图案，在与前述第1拍摄区域的一部分重复的第2拍摄区域曝光原版的图案的曝光方法，包含：第1测量工序，测量与前述第1拍摄区域对应的对准标记的位置；以及曝光工序，基于在前述第1测量工序中测量出的结果进行曝光，在前述曝光工序中，基于在前述第1测量工序中测量出的前述对准标记的位置信息进行前述第1拍摄区域的对位，使用用于前述第1拍摄区域的对位的对准标记的位置信息进行前述第2拍摄区域的对位。