异物去除装置、光刻装置以及物品制造方法

    公开(公告)号:CN114167688A

    公开(公告)日:2022-03-11

    申请号:CN202111036217.4

    申请日:2021-09-06

    Abstract: 本发明提供异物去除装置、光刻装置以及物品制造方法。提供有利于同时达成生产性和异物去除性能的技术。去除异物的异物去除装置具有保持物体并移动的保持部、接近上述保持部地配置并使气体在内部流通的流路、以及设在上述流路的内部并形成上述流路的内部的气流的气流形成部,在构成上述流路的周壁的流路构件上,形成有将上述流路的外部与内部连通的狭缝,上述气流形成部形成使异物经由上述狭缝被吸入上述流路的内部那样的气流。

    光学装置、曝光装置以及物品制造方法

    公开(公告)号:CN113238459B

    公开(公告)日:2024-09-13

    申请号:CN202110140250.5

    申请日:2021-02-02

    Inventor: 木村良一

    Abstract: 本发明提供光学装置、曝光装置以及物品制造方法。为了提供能降低因曝光导致的热影响并且抑制成像性能降低的光学装置,本发明所涉及的光学装置的特征在于具备:光学元件(5);收纳光学元件(5)的镜筒(11);设定从气体供给机构向镜筒(11)内供给的气体(17)的行进方向的行进方向设定机构(16);以及控制行进方向设定机构(16)以便变更气体(17)的行进方向的控制部(18)。

    光学装置、曝光装置以及物品制造方法

    公开(公告)号:CN113238459A

    公开(公告)日:2021-08-10

    申请号:CN202110140250.5

    申请日:2021-02-02

    Inventor: 木村良一

    Abstract: 本发明提供光学装置、曝光装置以及物品制造方法。为了提供能降低因曝光导致的热影响并且抑制成像性能降低的光学装置,本发明所涉及的光学装置的特征在于具备:光学元件(5);收纳光学元件(5)的镜筒(11);设定从气体供给机构向镜筒(11)内供给的气体(17)的行进方向的行进方向设定机构(16);以及控制行进方向设定机构(16)以便变更气体(17)的行进方向的控制部(18)。

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