公开(公告)号：CN117092888A

公开(公告)日：2023-11-21

申请号：CN202310552372.4

申请日：2023-05-16

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 朝仓康伸 ,  草柳博一 ,  桥本拓海 ,  畑智康

IPC: G03F7/20 ,  G06F18/2433 ,  G06F18/213 ,  G03F9/00

Abstract: 本公开涉及诊断控制装置的故障位置的方法、诊断装置、及控制装置。一种诊断控制装置的故障位置的方法，该控制装置包括：多个致动器，每个致动器被配置为向目标物体施加推力；多个传感器，每个传感器被配置为检测目标物体的状态量；以及控制器，被配置为控制所述多个致动器，该方法包括将从处于其中所述多个致动器和所述多个传感器被认为正常的状态的所述多个传感器中的每个传感器输出的第一信号与从处于其中控制装置被使用的状态的所述多个传感器中的每个传感器输出的第二信号进行比较，以及基于比较中的比较结果，诊断包括故障的致动器和故障的传感器中的至少一个的设备作为故障位置。

公开(公告)号：CN119689788A

公开(公告)日：2025-03-25

申请号：CN202411313464.8

申请日：2024-09-20

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 小友志织 ,  森川宽 ,  安斋干人 ,  石井祐二 ,  畑智康

IPC: G03F7/20 ,  G01B11/00

Abstract: 公开了处理装置及物品制造方法。一种处理装置对于基板执行预定处理。装置包括被配置为驱动保持基板的台的驱动器、被配置为以第一频率操作并且控制驱动器的第一控制器、被配置为以高于第一频率的第二频率操作并且基于台的位置来生成命令的第二控制器，以及被配置为响应于命令执行预定处理和预定处理的准备处理中的一个的设备。

公开(公告)号：CN116034462A

公开(公告)日：2023-04-28

申请号：CN202180054976.5

申请日：2021-09-03

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 草柳博一 ,  畑智康 ,  猪股裕也 ,  朝仓康伸 ,  桥本拓海 ,  森川宽 ,  伊藤正裕 ,  石井祐二

IPC: H01L21/68

Abstract: 生成用于对控制对象进行控制的控制信号的控制装置包括第一补偿器、校正器、第二补偿器、以及运算设备，所述第一补偿器被配置为基于所述控制对象的控制偏差生成第一信号，所述校正器被配置为通过根据运算表达式校正所述控制偏差来生成校正信号，所述运算表达式具有可调整的系数，所述第二补偿器被配置为基于所述校正信号由神经网络生成第二信号，所述运算设备被配置为基于所述第一信号和所述第二信号生成所述控制信号。

公开(公告)号：CN113050394B

公开(公告)日：2024-11-01

申请号：CN202011526977.9

申请日：2020-12-22

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 伊藤正裕 ,  畑智康 ,  有井俊郎 ,  草柳博一

IPC: G03F9/00

Abstract: 本公开涉及曝光装置以及物品制造方法。曝光装置具备：照明系统，对配置于被照明面的掩模进行照明；投影光学系统，将掩模的图像投影到基板；基板载置台，支承基板；传感器，搭载于基板载置台；以及控制部，控制传感器。控制部实施多次检测处理，检测处理是使用传感器检测从配置于被照明面的多个标志选择的至少2个标志的成像位置的处理，在检测处理与检测处理之间，实施使搭载有传感器的基板载置台移动的移动处理。以使在移动处理之前的检测处理中从所述多个标志选择的至少2个标志的一部分和在移动处理之后的检测处理中从所述多个标志选择的至少2个标志的一部分共同的方式，实施移动处理中的基板载置台的移动。

公开(公告)号：CN118584756A

公开(公告)日：2024-09-03

申请号：CN202410226095.2

申请日：2024-02-29

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 安斋干人 ,  森川宽 ,  小友志織 ,  石井祐二 ,  木村良一 ,  细川浩伸 ,  畑智康

IPC: G03F7/20

Abstract: 载置台控制装置、光刻装置以及物品制造方法。控制载置台的载置台控制装置具备：编码器，被构成为包括标尺以及头，测量所述载置台的位置；温度测量器；以及控制部，根据所述编码器的输出以及所述温度测量器的输出来控制所述载置台，所述标尺具有具备由所述头编码的刻度的第1面和所述第1面的相反侧的第2面，所述温度测量器包括与所述标尺的所述第2面接触或者面对地配置的多个温度传感器。

公开(公告)号：CN116648773A

公开(公告)日：2023-08-25

申请号：CN202180082084.6

申请日：2021-12-07

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 猪股裕也 ,  畑智康 ,  森川宽 ,  伊藤正裕 ,  草柳博一 ,  朝仓康伸 ,  石井祐二 ,  桥本拓海

IPC: H01L21/02

Abstract: 一种被配置成生成用于对控制目标进行控制的控制信号的控制装置，包括：第一补偿单元，被配置成基于控制目标的控制偏差来生成第一信号；校正设备，被配置成使用多个调节单元中的一个调节单元来校正控制偏差，每个调节单元被配置成通过根据如下的计算公式校正控制偏差来生成校正信号，所述计算公式的一个或更多个系数能够被调节；第二补偿单元，被配置成基于校正信号、通过使用神经网络来生成第二信号；以及计算单元，被配置成基于第一信号和第二信号来生成控制信号。

公开(公告)号：CN113296366A

公开(公告)日：2021-08-24

申请号：CN202110140238.4

申请日：2021-02-02

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 朝仓康伸 ,  畑智康 ,  森川宽 ,  伊藤正裕 ,  诸冈祐平 ,  猪股裕也 ,  石井祐二 ,  桥本拓海 ,  有井俊郎

IPC: G03F7/20

Abstract: 提供有利于降低对象物体的振动的技术。提供控制对象物体的振动的振动控制装置。振动控制装置具有：传感器，检测所述对象物体的位移、速度、加速度中的至少1个物理量；自适应滤波器，根据由所述传感器检测到的所述物理量，生成用于降低所述振动的控制信号；以及扬声器，输出与所述控制信号对应的控制音。

公开(公告)号：CN113050394A

公开(公告)日：2021-06-29

申请号：CN202011526977.9

申请日：2020-12-22

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 伊藤正裕 ,  畑智康 ,  有井俊郎 ,  草柳博一

IPC: G03F9/00

Abstract: 本公开涉及曝光装置以及物品制造方法。曝光装置具备：照明系统，对配置于被照明面的掩模进行照明；投影光学系统，将掩模的图像投影到基板；基板载置台，支承基板；传感器，搭载于基板载置台；以及控制部，控制传感器。控制部实施多次检测处理，检测处理是使用传感器检测从配置于被照明面的多个标志选择的至少2个标志的成像位置的处理，在检测处理与检测处理之间，实施使搭载有传感器的基板载置台移动的移动处理。以使在移动处理之前的检测处理中从所述多个标志选择的至少2个标志的一部分和在移动处理之后的检测处理中从所述多个标志选择的至少2个标志的一部分共同的方式，实施移动处理中的基板载置台的移动。