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公开(公告)号：CN109932870A
公开(公告)日：2019-06-25
申请号：CN201811521277.3
申请日：2018-12-13
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本公开涉及测量方法、测量装置、曝光装置以及物品制造方法。测量方法具有：第1工序，将把具有多个第1标记的第1图案转印到基板的拍摄区曝光，一边以不产生与相邻拍摄区的重复的方式在行方向以及列方向上分别错开一边进行多次，从而在行方向以及列方向上分别形成多个第1图案；第2工序，将把具有多个第2标记和位于该多个第2标记的周边的多个周边标记的第2图案转印到基板的拍摄区曝光，一边以使相邻拍摄区的一部分区域重复的方式在行方向以及列方向上分别错开一边进行多次，从而在行方向以及列方向上分别形成多个第2图案；以及第3工序，根据转印到基板的第1标记与第2标记的偏离量和一部分区域中的周边标记彼此的偏离量求出畸变。
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公开(公告)号：CN111580358B
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202010089788.3
申请日：2020-02-13
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 提供在成本以及生产率方面有利的曝光系统以及物品制造方法。曝光系统包括：第1曝光装置，对基板的第1拍摄区域曝光；第2曝光装置，对基板的与第1拍摄区域不同的第2拍摄区域曝光；标志形成装置，在基板的与第1拍摄区域及第2拍摄区域不同的位置形成对准标志。第1曝光装置包括检测通过标志形成装置形成于基板的对准标志的第1标志检测部，第2曝光装置包括检测通过标志形成装置形成于基板的对准标志的第2标志检测部，根据由第1曝光装置中的第1标志检测部检测出的对准标志的信息和由第2标志检测部检测出的对准标志的信息，决定用于校正第2拍摄区域相对第1拍摄区域的排列误差的校正参数，反映该校正参数而对第2拍摄区域曝光。
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公开(公告)号：CN109932870B
公开(公告)日：2021-07-27
申请号：CN201811521277.3
申请日：2018-12-13
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本公开涉及测量方法、测量装置、曝光装置以及物品制造方法。测量方法具有：第1工序，将把具有多个第1标记的第1图案转印到基板的拍摄区曝光，一边以不产生与相邻拍摄区的重复的方式在行方向以及列方向上分别错开一边进行多次，从而在行方向以及列方向上分别形成多个第1图案；第2工序，将把具有多个第2标记和位于该多个第2标记的周边的多个周边标记的第2图案转印到基板的拍摄区曝光，一边以使相邻拍摄区的一部分区域重复的方式在行方向以及列方向上分别错开一边进行多次，从而在行方向以及列方向上分别形成多个第2图案；以及第3工序，根据转印到基板的第1标记与第2标记的偏离量和一部分区域中的周边标记彼此的偏离量求出畸变。
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公开(公告)号：CN111580358A
公开(公告)日：2020-08-25
申请号：CN202010089788.3
申请日：2020-02-13
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 提供在成本以及生产率方面有利的曝光系统以及物品制造方法。曝光系统包括：第1曝光装置，对基板的第1拍摄区域曝光；第2曝光装置，对基板的与第1拍摄区域不同的第2拍摄区域曝光；标志形成装置，在基板的与第1拍摄区域及第2拍摄区域不同的位置形成对准标志。第1曝光装置包括检测通过标志形成装置形成于基板的对准标志的第1标志检测部，第2曝光装置包括检测通过标志形成装置形成于基板的对准标志的第2标志检测部，根据由第1曝光装置中的第1标志检测部检测出的对准标志的信息和由第2标志检测部检测出的对准标志的信息，决定用于校正第2拍摄区域相对第1拍摄区域的排列误差的校正参数，反映该校正参数而对第2拍摄区域曝光。
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