异物去除装置、光刻装置以及物品制造方法

    公开(公告)号:CN114167688A

    公开(公告)日:2022-03-11

    申请号:CN202111036217.4

    申请日:2021-09-06

    Abstract: 本发明提供异物去除装置、光刻装置以及物品制造方法。提供有利于同时达成生产性和异物去除性能的技术。去除异物的异物去除装置具有保持物体并移动的保持部、接近上述保持部地配置并使气体在内部流通的流路、以及设在上述流路的内部并形成上述流路的内部的气流的气流形成部,在构成上述流路的周壁的流路构件上,形成有将上述流路的外部与内部连通的狭缝,上述气流形成部形成使异物经由上述狭缝被吸入上述流路的内部那样的气流。

    基板保持装置、曝光装置及物品的制造方法

    公开(公告)号:CN118859636A

    公开(公告)日:2024-10-29

    申请号:CN202410495072.1

    申请日:2024-04-24

    Abstract: 本发明提供基板保持装置、曝光装置及物品的制造方法。基板保持装置设置于对基板进行曝光的曝光装置,具有:基台,保持所述基板;升降部,能够经由所述基台的开口升降;遮蔽部,遮蔽所述开口;以及驱动部,驱动所述遮蔽部,所述驱动部在对所述基板进行曝光的期间,使所述遮蔽部配置在所述遮蔽部遮蔽所述开口的位置。

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