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公开(公告)号：CN118136550A
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202311554736.9
申请日：2023-11-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供输送模块和输送方法，能够减少基片处理系统的设置面积。输送模块包括壳体、装载口、输送装置和储存单元。装载口设置于壳体的侧壁，能够载置用于收纳多个被输送物的容器。输送装置配置在壳体内，用于输送被输送物。储存单元配置在壳体内，能够暂时收纳多个被输送物。壳体具有与装载锁定模块连接的第1侧壁和与第1侧壁相对的侧壁以外的第2侧壁，该第2侧壁设置有装载口。输送装置具有第1臂，该第1臂具有能够载置多个被输送物的多个叉形件。另外，输送装置利用第1臂将载置于装载口的容器内的多个被输送物一并输送到储存单元内。
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公开(公告)号：CN118737796A
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202410793668.X
申请日：2019-11-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基片处理系统，其包括常压输送室、真空处理室、一个以上的装载互锁单元、真空输送室、多个安装部、第1输送机构、第2输送机构和控制部。多个安装部设置在常压输送室。多个安装部能够可拆装地安装多个保管部的每一个。控制部与第1输送机构和第2输送机构并行地执行以下输送，即：从保管部经由常压输送室和一个以上的装载互锁单元中的一个装载互锁单元向真空处理室去的消耗部件的输送；和从真空处理室经由真空输送室和一个以上的装载互锁单元中的另一个装载互锁单元的消耗部件的输送。根据本发明，能够缩短真空处理室内的消耗部件的更换时间，从而提高基片处理系统的工作效率。
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公开(公告)号：CN111312576B
公开(公告)日：2024-07-05
申请号：CN201911193850.7
申请日：2019-11-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种基片处理系统，其包括常压输送室、真空处理室、一个以上的装载互锁单元、真空输送室、多个安装部、第1输送机构、第2输送机构和控制部。多个安装部设置在常压输送室。多个安装部能够可拆装地安装多个保管部的每一个。控制部与第1输送机构和第2输送机构并行地执行以下输送，即：从保管部经由常压输送室和一个以上的装载互锁单元中的一个装载互锁单元向真空处理室去的消耗部件的输送；和从真空处理室经由真空输送室和一个以上的装载互锁单元中的另一个装载互锁单元的消耗部件的输送。根据本发明，能够缩短真空处理室内的消耗部件的更换时间，从而提高基片处理系统的工作效率。
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公开(公告)号：CN114203581A
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202111043090.9
申请日：2021-09-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , B08B5/02
Abstract: 本发明提供能够通过消除气体的滞留来抑制颗粒积存的基片处理装置等，基片处理装置包括：真空输送室，其具有顶面、与顶面相对的底面以及顶面与底面之间的侧面，侧面具有第一侧面和与第一侧面相对的第二侧面；配置在真空输送室内的用于输送基片的输送机械臂；与第一侧面连接的负载锁定模块；配管，其与吹扫气体供给源连接，向真空输送室内供给吹扫气体；至少1个进气口，其设置在第二侧面的附近的顶面，与配管连接；和至少1个排气口，其设置在真空输送室的第一侧面的附近的底面，与用于对供给到真空输送室的吹扫气体进行排气的排气泵连接。
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公开(公告)号：CN100397569C
公开(公告)日：2008-06-25
申请号：CN200610003291.5
申请日：2006-02-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/3065 , H01L21/205 , C23C16/44 , C23F4/00
Abstract: 本发明的基板处理装置(100)具备导入气体后进行规定的处理的多个处理室(200A、200B等)；分别设置在所述各处理室中的排气系统(220A、220B等)；和连接所述各处理室的排气系统中至少两个以上的处理室的排气系统的共同排气系统(310)，其中，共同排气系统构成为可切换除害共同排气系统(320)与非除害共同排气系统(330)，除害共同排气系统(320)通过除害部件(340)对来自所述各处理室的排气系统的排气进行除害并排出，非除害共同排气系统(330)不经过除害部件排出来自所述各处理室的排气系统的排气，设置控制部件(400)，根据各处理室进行的处理的种类，进行除害共同排气系统与非除害共同排气系统的切换控制。
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公开(公告)号：CN117438353A
公开(公告)日：2024-01-23
申请号：CN202310852781.6
申请日：2023-07-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677
Abstract: 本发明提供能够削减基片处理系统的设置面积的基片输送系统和输送模块。基片输送系统包括装载锁定模块、大气输送模块、第一装载口和第二装载口。大气输送模块具有第一侧壁、第二侧壁和第三侧壁。第一侧壁沿着第一方向延伸，与装载锁定模块连接。第二侧壁沿着与第一方向正交的第二方向延伸。第三侧壁位于第二侧壁的相反侧。第一装载口从第二侧壁沿着第一方向向外侧延伸。第二装载口从第三侧壁沿着第一方向向外侧延伸。
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公开(公告)号：CN111312576A
公开(公告)日：2020-06-19
申请号：CN201911193850.7
申请日：2019-11-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种基片处理系统，其包括常压输送室、真空处理室、一个以上的装载互锁单元、真空输送室、多个安装部、第1输送机构、第2输送机构和控制部。多个安装部设置在常压输送室。多个安装部能够可拆装地安装多个保管部的每一个。控制部与第1输送机构和第2输送机构并行地执行以下输送，即：从保管部经由常压输送室和一个以上的装载互锁单元中的一个装载互锁单元向真空处理室去的消耗部件的输送；和从真空处理室经由真空输送室和一个以上的装载互锁单元中的另一个装载互锁单元的消耗部件的输送。根据本发明，能够缩短真空处理室内的消耗部件的更换时间，从而提高基片处理系统的工作效率。
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公开(公告)号：CN100419953C
公开(公告)日：2008-09-17
申请号：CN200610088536.9
申请日：2006-06-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供了一种能够防止传热气体供给装置控制性恶化的基板处理装置。起动RIE处理前增加氦气压力的处理的程序，从对传热气体供给管线49、50等抽真空开始，经过延迟时间时，测定主排气管70，71中流动的氦气的压力(工序S74)，基于测定的主排气管70、77中的压力与RIE处理的方案规定的氦气设定供给压力的压差，从压差和加速流量对应的加速程序用表中选择加速流量，设定作为加速程序中加速流量(工序S75)，执行使用该加速流量的加速程序(工序S76)。
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公开(公告)号：CN1320624C
公开(公告)日：2007-06-06
申请号：CN02807495.5
申请日：2002-04-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/68
CPC classification number: H01L21/67184 , H01L21/67167 , H01L21/67276 , H01L21/67745 , Y10S414/139
Abstract: 以在装载锁定室(LL1、LL2)和装载器组件(LM)之间的晶片(W)的交换计时作为基准、在将晶片(W)搬入任何一个装载锁定室(LL1、LL2)中的时刻(Tp)，计算直到可以将下一个晶片(W)搬入该装载锁定室(LL1、LL2)的时间(PSL)。然后，如果计算出该时间(PSL)，装载臂(LA1、LA2)将直到可以搬入装载锁定室(LL1、LL2)的时间为最短的下一个晶片(W)从载入机(LP1～LP3)中选择。通过这样，改善了在设置有装载锁定室的集束传输装置中的传送延迟。
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公开(公告)号：CN118737795A
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202410793615.8
申请日：2019-11-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基片处理系统，其包括常压输送室、真空处理室、一个以上的装载互锁单元、真空输送室、多个安装部、第1输送机构、第2输送机构和控制部。多个安装部设置在常压输送室。多个安装部能够可拆装地安装多个保管部的每一个。控制部与第1输送机构和第2输送机构并行地执行以下输送，即：从保管部经由常压输送室和一个以上的装载互锁单元中的一个装载互锁单元向真空处理室去的消耗部件的输送；和从真空处理室经由真空输送室和一个以上的装载互锁单元中的另一个装载互锁单元的消耗部件的输送。根据本发明，能够缩短真空处理室内的消耗部件的更换时间，从而提高基片处理系统的工作效率。
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