公开(公告)号：CN118107983A

公开(公告)日：2024-05-31

申请号：CN202311582645.6

申请日：2023-11-23

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 东海林贤斗 ,  七崎玄一 ,  长田英之

IPC: B65G47/22 ,  B65G43/08 ,  B65G47/90 ,  B65G47/91

Abstract: 本发明提供能够使因被输送物的位置偏移而产生的用户的作业负担减少的输送系统、处理系统和输送方法。输送系统包括输送机器人、收纳部和控制装置。输送机器人具有用于检测被载置在收纳部的被输送物的位置的位置检测传感器。控制装置能够控制：由输送机器人输送被输送物并将被输送物载置在收纳部的步骤；在载置被输送物的步骤之后，基于状态检测传感器的检测结果，判断是否能够回收发生了位置偏移的被输送物的步骤；在能够回收发生了位置偏移的被输送物的情况下，使输送机器人动作，利用位置检测传感器探查被输送物的位置的步骤；和基于检测出的被输送物的位置使输送机器人移动，利用该输送机器人回收发生了位置偏移的被输送物的步骤。

公开(公告)号：CN114203581A

公开(公告)日：2022-03-18

申请号：CN202111043090.9

申请日：2021-09-07

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 网仓纪彦 ,  长田英之 ,  七崎玄一 ,  贝瀬精一 ,  北正知 ,  泷泽昂志 ,  高桥荣治

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  B08B5/02

Abstract: 本发明提供能够通过消除气体的滞留来抑制颗粒积存的基片处理装置等，基片处理装置包括：真空输送室，其具有顶面、与顶面相对的底面以及顶面与底面之间的侧面，侧面具有第一侧面和与第一侧面相对的第二侧面；配置在真空输送室内的用于输送基片的输送机械臂；与第一侧面连接的负载锁定模块；配管，其与吹扫气体供给源连接，向真空输送室内供给吹扫气体；至少1个进气口，其设置在第二侧面的附近的顶面，与配管连接；和至少1个排气口，其设置在真空输送室的第一侧面的附近的底面，与用于对供给到真空输送室的吹扫气体进行排气的排气泵连接。

公开(公告)号：CN114664693A

公开(公告)日：2022-06-24

申请号：CN202111529780.5

申请日：2021-12-14

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 七崎玄一 ,  原大辅 ,  长田英之 ,  二瓶光 ,  森冈达也 ,  松井旺大

IPC: H01L21/67 ,  H01J37/32

Abstract: 本发明提供一种基板处理系统和微粒去除方法，不在设为微粒的去除对象的收容室设置冷却机构地从收容室去除微粒的原因要素。微粒去除动作具有以下工序：工序(a)、将载置于至少1个基板冷却台上的至少1个基板假片冷却至第一温度，第一温度为5℃～20℃；以及工序(b)、在将冷却后的至少1个基板假片载置于至少1个末端执行器上的状态下，将至少1个末端执行器在真空搬送模块内或基板处理模块内的多个位置中的任一位置维持第一期间，第一期间为30秒以上。

公开(公告)号：CN117198973A

公开(公告)日：2023-12-08

申请号：CN202310623046.8

申请日：2023-05-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小原真智 ,  高田乐人 ,  长田英之 ,  七崎玄一 ,  东海林贤斗 ,  松本周平

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/683 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供能够减少基片贴附于载置机构的载置垫、载置机构和基片输送机构。载置垫用于载置对象物，包括：基座；和环状的外缘部，其设置于基座的一个面，以包围该面的外缘的方式向与该面的面方向交叉的方向突出，能够与对象物接触，其中，外缘部中的至少一个部分的外缘部的厚度与外缘部的其他部分的厚度不同。