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公开(公告)号：CN113295225B
公开(公告)日：2025-05-09
申请号：CN202110175393.X
申请日：2021-02-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种流量测量方法和流量测量装置，能高精度地测量气体的流量。在流量测量方法中：测量第一、第二流路的气体的第一压力；重复进行向第一流路的气体的供给和停止，来向第一、第二流路供给气体；在供给气体时，测量从各开信号到关信号期间的气体供给时间；测量第一、第二流路的气体的第二压力和温度；在将第一、第二流路间关闭并从第二流路进行了排气后，测量第二流路的气体的第三压力；在第一、第二流路进行了连接的状态下，测量第一、第二流路的气体的第四压力；基于第一～第四压力和温度来计算被供给到第一、第二流路的气体流量；计算与重复次数相应的量的气体供给时间的平均时间；以及基于理论上的气体供给时间和平均时间来校正流量。
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公开(公告)号：CN100397569C
公开(公告)日：2008-06-25
申请号：CN200610003291.5
申请日：2006-02-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/3065 , H01L21/205 , C23C16/44 , C23F4/00
Abstract: 本发明的基板处理装置(100)具备导入气体后进行规定的处理的多个处理室(200A、200B等)；分别设置在所述各处理室中的排气系统(220A、220B等)；和连接所述各处理室的排气系统中至少两个以上的处理室的排气系统的共同排气系统(310)，其中，共同排气系统构成为可切换除害共同排气系统(320)与非除害共同排气系统(330)，除害共同排气系统(320)通过除害部件(340)对来自所述各处理室的排气系统的排气进行除害并排出，非除害共同排气系统(330)不经过除害部件排出来自所述各处理室的排气系统的排气，设置控制部件(400)，根据各处理室进行的处理的种类，进行除害共同排气系统与非除害共同排气系统的切换控制。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1822315A
公开(公告)日：2006-08-23
申请号：CN200610003291.5
申请日：2006-02-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/3065 , H01L21/205 , C23C16/44 , C23F4/00
Abstract: 本发明的基板处理装置(100)具备导入气体后进行规定的处理的多个处理室(200A、200B等)；分别设置在所述各处理室中的排气系统(220A、220B等)；和连接所述各处理室的排气系统中至少两个以上的处理室的排气系统的共同排气系统(310)，其中，共同排气系统构成为可切换除害共同排气系统(320)与非除害共同排气系统(330)，除害共同排气系统(320)通过除害部件(340)对来自所述各处理室的排气系统的排气进行除害并排出，非除害共同排气系统(330)不经过除害部件排出来自所述各处理室的排气系统的排气，设置控制部件(400)，根据各处理室进行的处理的种类，进行除害共同排气系统与非除害共同排气系统的切换控制。
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公开(公告)号：CN118431062A
公开(公告)日：2024-08-02
申请号：CN202410526243.2
申请日：2019-03-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32 , H01L21/687
Abstract: 本发明提供能够减少反应生成物对载置台的载置面的附着的等离子体处理装置，其包括：载置台，具有载置作为等离子体处理的对象的被处理体的载置面；使被处理体相对于载置台的载置面升降的升降机构；和升降控制部，其在从对被处理体的等离子体处理结束至开始输送被处理体的期间，控制升降机构来将被处理体保持在载置台的载置面与被处理体隔开能够抑制反应生成物侵入的间隔的位置，在开始输送被处理体时，控制升降机构来使被处理体从被处理体被保持的位置上升。
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公开(公告)号：CN110323119B
公开(公告)日：2024-05-17
申请号：CN201910231749.X
申请日：2019-03-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供能够减少反应生成物对载置台的载置面的附着的等离子体处理装置，其包括：载置台，具有载置作为等离子体处理的对象的被处理体的载置面；使被处理体相对于载置台的载置面升降的升降机构；和升降控制部，其在从对被处理体的等离子体处理结束至开始输送被处理体的期间，控制升降机构来将被处理体保持在载置台的载置面与被处理体隔开能够抑制反应生成物侵入的间隔的位置，在开始输送被处理体时，控制升降机构来使被处理体从被处理体被保持的位置上升。
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公开(公告)号：CN113295225A
公开(公告)日：2021-08-24
申请号：CN202110175393.X
申请日：2021-02-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种流量测量方法和流量测量装置，能高精度地测量气体的流量。在流量测量方法中：测量第一、第二流路的气体的第一压力；重复进行向第一流路的气体的供给和停止，来向第一、第二流路供给气体；在供给气体时，测量从各开信号到关信号期间的气体供给时间；测量第一、第二流路的气体的第二压力和温度；在将第一、第二流路间关闭并从第二流路进行了排气后，测量第二流路的气体的第三压力；在第一、第二流路进行了连接的状态下，测量第一、第二流路的气体的第四压力；基于第一～第四压力和温度来计算被供给到第一、第二流路的气体流量；计算与重复次数相应的量的气体供给时间的平均时间；以及基于理论上的气体供给时间和平均时间来校正流量。
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公开(公告)号：CN110323119A
公开(公告)日：2019-10-11
申请号：CN201910231749.X
申请日：2019-03-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供能够减少反应生成物对载置台的载置面的附着的等离子体处理装置，其包括：载置台，具有载置作为等离子体处理的对象的被处理体的载置面；使被处理体相对于载置台的载置面升降的升降机构；和升降控制部，其在从对被处理体的等离子体处理结束至开始输送被处理体的期间，控制升降机构来将被处理体保持在载置台的载置面与被处理体隔开能够抑制反应生成物侵入的间隔的位置，在开始输送被处理体时，控制升降机构来使被处理体从被处理体被保持的位置上升。
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