输送系统、处理系统和输送方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118107983A

    公开(公告)日:2024-05-31

    申请号:CN202311582645.6

    申请日:2023-11-23

    Abstract: 本发明提供能够使因被输送物的位置偏移而产生的用户的作业负担减少的输送系统、处理系统和输送方法。输送系统包括输送机器人、收纳部和控制装置。输送机器人具有用于检测被载置在收纳部的被输送物的位置的位置检测传感器。控制装置能够控制:由输送机器人输送被输送物并将被输送物载置在收纳部的步骤;在载置被输送物的步骤之后,基于状态检测传感器的检测结果,判断是否能够回收发生了位置偏移的被输送物的步骤;在能够回收发生了位置偏移的被输送物的情况下,使输送机器人动作,利用位置检测传感器探查被输送物的位置的步骤;和基于检测出的被输送物的位置使输送机器人移动,利用该输送机器人回收发生了位置偏移的被输送物的步骤。

    垫和末端执行器
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118143982A

    公开(公告)日:2024-06-07

    申请号:CN202311600743.8

    申请日:2023-11-28

    Abstract: 本发明提供能够抑制末端执行器上的基片的位置偏移的垫和末端执行器。本发明的末端执行器用的垫包括基部和主部。主部在第1方向上与基部相连。主部包括下表面、第1端、第2端和上表面。下表面在与第1方向交叉的方向上从基部伸出。第1端为主部的在与第1方向正交的第2方向上的一端。第2端为主部的在第2方向上的另一端。第2端使主部和垫在第2方向上终止。包括下表面的基准面与上表面之间的距离,随着从第1端向第2端去而增加。上表面在第2端相对于基准面具有最大的高度。主部具有弹性。主部在第2端的下方形成有空间。

    基板处理系统和微粒去除方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114664693A

    公开(公告)日:2022-06-24

    申请号:CN202111529780.5

    申请日:2021-12-14

    Abstract: 本发明提供一种基板处理系统和微粒去除方法,不在设为微粒的去除对象的收容室设置冷却机构地从收容室去除微粒的原因要素。微粒去除动作具有以下工序:工序(a)、将载置于至少1个基板冷却台上的至少1个基板假片冷却至第一温度,第一温度为5℃~20℃;以及工序(b)、在将冷却后的至少1个基板假片载置于至少1个末端执行器上的状态下,将至少1个末端执行器在真空搬送模块内或基板处理模块内的多个位置中的任一位置维持第一期间,第一期间为30秒以上。

    用于移送晶片的保持垫
    7.
    外观设计

    公开(公告)号:CN302430937S

    公开(公告)日:2013-05-08

    申请号:CN201230528787.0

    申请日:2012-06-21

    Designer: 长田英之

    Abstract: 1.本外观设计产品的名称:用于移送晶片的保持垫。2.本外观设计产品的用途:安装于晶片移送臂上,在移送臂移送晶片时对晶片进行保持。3.本外观设计的设计要点:产品的形状。4.最能表明设计要点的图片或者照片:立体图。

    用于移送晶片的保持垫
    8.
    外观设计

    公开(公告)号:CN302361872S

    公开(公告)日:2013-03-20

    申请号:CN201230528841.1

    申请日:2012-06-21

    Designer: 长田英之

    Abstract: 1.本外观设计产品的名称:用于移送晶片的保持垫。2.本外观设计产品的用途:安装于晶片移送臂上,在移送臂移送晶片时对晶片进行保持。3.本外观设计的设计要点:产品的形状。4.最能表明设计要点的图片或者照片:立体图。

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