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公开(公告)号：CN111261511A
公开(公告)日：2020-06-09
申请号：CN201911220416.3
申请日：2019-12-03
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置和等离子体处理方法。等离子体处理装置具备处理容器、下部电极、环状构件、内侧上部电极、外侧上部电极、处理气体供给部、第一高频供电部以及第一直流供电部。下部电极载置被处理基板。环状构件载置在下部电极的外周部上。内侧上部电极配置于下部电极的正对面。外侧上部电极以与内侧上部电极电绝缘的方式呈环状地配置于该内侧上部电极的径向外侧。第一高频供电部将用于生成处理气体的等离子体的第一高频施加于下部电极或内侧上部电极和外侧上部电极。第一直流供电部对外侧上部电极施加可变的第一直流电压。外侧上部电极的在处理空间中露出的面的至少一部分处于比内侧上部电极的在处理空间中露出的面靠上方的位置。
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公开(公告)号：CN115206758A
公开(公告)日：2022-10-18
申请号：CN202210288487.2
申请日：2022-03-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/305 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供异物降落防止部件和基片处理装置，其能够防止设置于真空泵或压力控制阀的上游侧的保护网被异物堵塞。异物降落防止部件配置在设置有保护网的处理容器的排气口，包括：第一板；第二板，其以相对于上述第一板具有第一间隙的方式配置在上述排气口侧；和将上述第一板与上述第二板连结的第一连结杆，上述第一板具有沿着上述第一板的端部向上述排气口的相反侧延伸地设置的第一壁。
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公开(公告)号：CN111146066B
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN201911070993.9
申请日：2019-11-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种对边环与静电卡盘的相向的侧壁的间隙进行管理的载置台、边环的定位方法和基板处理装置。载置台具有：边环，其配置于基板的周围，在该边环的下部具有第一凹部；静电卡盘，其具有载置所述基板的第一载置面和载置所述边环的第二载置面，在所述静电卡盘中与所述第二载置面相向地埋入有电极；环状构件，其配置于所述静电卡盘的周围，具有第二凹部；以及具有伸缩性的构件，其配置在由所述第一凹部、所述静电卡盘以及所述第二凹部围成的空间中。
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公开(公告)号：CN111261511B
公开(公告)日：2024-06-18
申请号：CN201911220416.3
申请日：2019-12-03
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置和等离子体处理方法。等离子体处理装置具备处理容器、下部电极、环状构件、内侧上部电极、外侧上部电极、处理气体供给部、第一高频供电部以及第一直流供电部。下部电极载置被处理基板。环状构件载置在下部电极的外周部上。内侧上部电极配置于下部电极的正对面。外侧上部电极以与内侧上部电极电绝缘的方式呈环状地配置于该内侧上部电极的径向外侧。第一高频供电部将用于生成处理气体的等离子体的第一高频施加于下部电极或内侧上部电极和外侧上部电极。第一直流供电部对外侧上部电极施加可变的第一直流电压。外侧上部电极的在处理空间中露出的面的至少一部分处于比内侧上部电极的在处理空间中露出的面靠上方的位置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113113281A
公开(公告)日：2021-07-13
申请号：CN202011590290.1
申请日：2020-12-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明涉及边缘环和基板处理装置。达成使用于等离子体处理的边缘环的更换频率的降低和在等离子体处理中的微粒的产生的抑制。边缘环具有第一上表面和第二上表面，第一上表面由碳化硅、碳化钨、氧化镁或者氧化钇形成，第二上表面形成于比第一上表面低的位置，与晶圆的周缘部的下表面相对，并且由硅形成。
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公开(公告)号：CN112992642A
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN202011416602.7
申请日：2020-12-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供能够降低用于等离子体处理的边缘环的更换频率并且抑制传热气体的泄漏的边缘环和基片处理装置。边缘环具有环状的第一部件和环状的第二部件，第一部件在下表面具有凹部并且由具有耐等离子性的第一材料形成，第二部件配置在第一部件的凹部并且由与第一材料相比刚性低的第二材料形成。
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公开(公告)号：CN111146066A
公开(公告)日：2020-05-12
申请号：CN201911070993.9
申请日：2019-11-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种对边环与静电卡盘的相向的侧壁的间隙进行管理的载置台、边环的定位方法和基板处理装置。载置台具有：边环，其配置于基板的周围，在该边环的下部具有第一凹部；静电卡盘，其具有载置所述基板的第一载置面和载置所述边环的第二载置面，在所述静电卡盘中与所述第二载置面相向地埋入有电极；环状构件，其配置于所述静电卡盘的周围，具有第二凹部；以及具有伸缩性的构件，其配置在由所述第一凹部、所述静电卡盘以及所述第二凹部围成的空间中。
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公开(公告)号：CN111146065A
公开(公告)日：2020-05-12
申请号：CN201911070184.8
申请日：2019-11-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供载置台和基板处理装置。对边缘环与静电卡盘之间的相对的侧壁的间隙进行管理。提供一种载置台，该载置台具有：边缘环，其配置于基板的周围；静电卡盘，其具有载置所述基板的第1载置面和载置所述边缘环的第2载置面；以及具有伸缩性的构件，其配置于所述静电卡盘的所述第1载置面和所述第2载置面之间的侧面与所述边缘环的内径面之间，且是配置于低于所述第1载置面的位置。
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公开(公告)号：CN3314286D
公开(公告)日：2003-08-13
申请号：CN02370376.8
申请日：2002-11-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 后视图、左视图及右视图与主视图相同
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