公开(公告)号：CN114496702A

公开(公告)日：2022-05-13

申请号：CN202111292982.2

申请日：2021-11-03

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 佐佐木淳一 ,  池上真史 ,  佐藤充明 ,  赤羽和彦

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明提供能够降低边缘环的更换频率、并且能够抑制传热气体的泄漏和颗粒的产生的边缘环和基片处理装置。边缘环是能够配置在被处理基片的周围的边缘环，其包括：由第一材料形成的环状的第一部件，该第一部件在内周侧的侧面下部具有第一倾斜部；和设置在第一部件的下部的环状的第二部件，其由与第一材料不同的第二材料形成，并具有与第一倾斜部相对的第二倾斜部。

公开(公告)号：CN113380658A

公开(公告)日：2021-09-10

申请号：CN202110208992.7

申请日：2021-02-24

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 佐藤充明

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置,其抑制放电的产生。该基板处理装置包括:第一板件,其具有第一气体导入路；第二板件,其具有第二气体导入路；以及气体导入部件,其配置于上述第一板件和上述第二板件之间,并且将上述第一气体导入路和上述第二气体导入路连接,上述气体导入部件具有:外筒体,其将上述第一气体导入路和上述第二气体导入路连通；以及芯材,其配置于上述外筒体内,上述芯材具有轴体以及弹性多孔体。

公开(公告)号：CN113380658B

公开(公告)日：2025-02-18

申请号：CN202110208992.7

申请日：2021-02-24

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 佐藤充明

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置,其抑制放电的产生。该基板处理装置包括:第一板件,其具有第一气体导入路；第二板件,其具有第二气体导入路；以及气体导入部件,其配置于上述第一板件和上述第二板件之间,并且将上述第一气体导入路和上述第二气体导入路连接,上述气体导入部件具有:外筒体,其将上述第一气体导入路和上述第二气体导入路连通；以及芯材,其配置于上述外筒体内,上述芯材具有轴体以及弹性多孔体。

公开(公告)号：CN111146066B

公开(公告)日：2024-08-30

申请号：CN201911070993.9

申请日：2019-11-05

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 佐佐木康晴 ,  塚原利也 ,  佐藤充明

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明提供一种对边环与静电卡盘的相向的侧壁的间隙进行管理的载置台、边环的定位方法和基板处理装置。载置台具有：边环，其配置于基板的周围，在该边环的下部具有第一凹部；静电卡盘，其具有载置所述基板的第一载置面和载置所述边环的第二载置面，在所述静电卡盘中与所述第二载置面相向地埋入有电极；环状构件，其配置于所述静电卡盘的周围，具有第二凹部；以及具有伸缩性的构件，其配置在由所述第一凹部、所述静电卡盘以及所述第二凹部围成的空间中。

公开(公告)号：CN112992642A

公开(公告)日：2021-06-18

申请号：CN202011416602.7

申请日：2020-12-07

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 李星在 ,  塚原利也 ,  佐藤充明 ,  佐藤彻治

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供能够降低用于等离子体处理的边缘环的更换频率并且抑制传热气体的泄漏的边缘环和基片处理装置。边缘环具有环状的第一部件和环状的第二部件，第一部件在下表面具有凹部并且由具有耐等离子性的第一材料形成，第二部件配置在第一部件的凹部并且由与第一材料相比刚性低的第二材料形成。

公开(公告)号：CN111146066A

公开(公告)日：2020-05-12

申请号：CN201911070993.9

申请日：2019-11-05

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 佐佐木康晴 ,  塚原利也 ,  佐藤充明

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明提供一种对边环与静电卡盘的相向的侧壁的间隙进行管理的载置台、边环的定位方法和基板处理装置。载置台具有：边环，其配置于基板的周围，在该边环的下部具有第一凹部；静电卡盘，其具有载置所述基板的第一载置面和载置所述边环的第二载置面，在所述静电卡盘中与所述第二载置面相向地埋入有电极；环状构件，其配置于所述静电卡盘的周围，具有第二凹部；以及具有伸缩性的构件，其配置在由所述第一凹部、所述静电卡盘以及所述第二凹部围成的空间中。

公开(公告)号：CN111146065A

公开(公告)日：2020-05-12

申请号：CN201911070184.8

申请日：2019-11-05

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 塚原利也 ,  佐藤充明 ,  佐佐木淳一 ,  尹南虎 ,  徐智洙

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明提供载置台和基板处理装置。对边缘环与静电卡盘之间的相对的侧壁的间隙进行管理。提供一种载置台，该载置台具有：边缘环，其配置于基板的周围；静电卡盘，其具有载置所述基板的第1载置面和载置所述边缘环的第2载置面；以及具有伸缩性的构件，其配置于所述静电卡盘的所述第1载置面和所述第2载置面之间的侧面与所述边缘环的内径面之间，且是配置于低于所述第1载置面的位置。