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公开(公告)号：CN1676659A
公开(公告)日：2005-10-05
申请号：CN200510054767.3
申请日：2005-03-11
Applicant: 三菱日立制铁机械株式会社 , 三菱重工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种直列式有机电致发光制造装置，使用与掩膜一体成形的支架支撑基板，并在基板上设置冷却板，以此抑制基板的温度上升而进行连续输送。另外，在装置内部设置差动排气部(D1～D4)，在不同真空度的处理室之间可以不停地连续输送基板。由此，能够提高成膜质量，并且能够提高生产效率。
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公开(公告)号：CN100482850C
公开(公告)日：2009-04-29
申请号：CN200510054767.3
申请日：2005-03-11
Applicant: 三菱日立制铁机械株式会社 , 三菱重工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种直列式有机电致发光制造装置，使用与掩膜一体成形的支架支撑基板，并在基板上设置冷却板，以此抑制基板的温度上升而进行连续输送。另外，在装置内部设置差动排气部(D1～D4)，在不同真空度的处理室之间可以不停地连续输送基板。由此，能够提高成膜质量，并且能够提高生产效率。
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公开(公告)号：CN100510163C
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200510006399.5
申请日：2005-01-28
Applicant: 三菱日立制铁机械株式会社
Abstract: 本发明涉及真空蒸镀机。通过在真空蒸镀机上设置对于从蒸发室(19a)、(19b)侧朝混合室(22)侧流入的蒸镀材料(16a)、(16b)的蒸气量在玻璃基板(12)的板宽度方向L均匀地控制的阀部件(21)；以及在玻璃基板(12)的下面侧以平行于玻璃基板(12)的被蒸镀面的方式配置，且在蒸镀室(25a)内对在混合室(22)中混合的蒸镀材料(16a)、(16b)的蒸气进行面内分布和流动的调整的多孔挡板(23)，从而谋求对于玻璃基板(12)的板宽度方向L的蒸镀均匀化。由此，本发明能够提供一种即使对大型基板也能形成蒸镀材料的蒸气的均匀流动同时，还能控制蒸气分布，从而能够对蒸镀进行均匀化的真空蒸镀机。
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公开(公告)号：CN100363532C
公开(公告)日：2008-01-23
申请号：CN200510006398.0
申请日：2005-01-28
Applicant: 三菱日立制铁机械株式会社
Abstract: 本发明涉及真空蒸镀机。通过在真空蒸镀机上设置对于从蒸发室(18)侧朝玻璃基板(12)侧流入的蒸镀材料(15)的蒸气量在玻璃基板(12)的板宽度方向L均匀地控制的阀部件(21)；以及在玻璃基板(12)的下面侧以平行于玻璃基板(12)的被蒸镀面的方式配置，且在蒸镀室(25a)内对蒸镀材料(15)的蒸气进行面内分布和流动的调整的多孔挡板(23)，从而谋求对于玻璃基板(12)的板宽度方向L的蒸镀均匀化。由此，本发明能够提供一种即使对大型基板也能形成蒸镀材料的蒸气的均匀流动同时，还能控制蒸气分布，从而能够对蒸镀进行均匀化的真空蒸镀机。
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公开(公告)号：CN1648279A
公开(公告)日：2005-08-03
申请号：CN200510006399.5
申请日：2005-01-28
Applicant: 三菱日立制铁机械株式会社
Abstract: 本发明涉及真空蒸镀机。通过在真空蒸镀机上设置对于从蒸发室(19a)、(19b)侧朝混合室(22)侧流入的蒸镀材料(16a)、(16b)的蒸气量在玻璃基板(12)的板宽度方向L均匀地控制的阀部件(21)；以及在玻璃基板(12)的下面侧以平行于玻璃基板(12)的被蒸镀面的方式配置，且在蒸镀室(25a)内对在混合室(22)中混合的蒸镀材料(16a)、(16b)的蒸气进行面内分布和流动的调整的多孔挡板(23)，从而谋求对于玻璃基板(12)的板宽度方向L的蒸镀均匀化。由此，本发明能够提供一种即使对大型基板也能形成蒸镀材料的蒸气的均匀流动同时，还能控制蒸气分布，从而能够对蒸镀进行均匀化的真空蒸镀机。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1648278A
公开(公告)日：2005-08-03
申请号：CN200510006398.0
申请日：2005-01-28
Applicant: 三菱日立制铁机械株式会社
Abstract: 本发明涉及真空蒸镀机。通过在真空蒸镀机上设置对于从蒸发室(18)侧朝玻璃基板(12)侧流入的蒸镀材料(15)的蒸气量在玻璃基板(12)的板宽度方向L均匀地控制的阀部件(21)；以及在玻璃基板(12)的下面侧以平行于玻璃基板(12)的被蒸镀面的方式配置，且在蒸镀室(25a)内对蒸镀材料(15)的蒸气进行面内分布和流动的调整的多孔挡板(23)，从而谋求对于玻璃基板(12)的板宽度方向L的蒸镀均匀化。由此，本发明能够提供一种即使对大型基板也能形成蒸镀材料的蒸气的均匀流动同时，还能控制蒸气分布，从而能够对蒸镀进行均匀化的真空蒸镀机。
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公开(公告)号：CN100564586C
公开(公告)日：2009-12-02
申请号：CN200610094520.9
申请日：2002-12-11
Applicant: 三菱重工业株式会社
IPC: C23C16/26 , C23C16/509
Abstract: 一种对塑料容器内面形成碳膜的装置及内面覆盖碳膜的塑料容器的制造方法，其包括：有底筒状外部电极，其具有在插入作为被处理物的塑料容器时，包围除去该容器的口部及肩部的外周的大小；衬套，其由电介质材料构成，在插入了所述容器时，至少设于该容器口部及肩部和所述外部电极之间；排气管，其介由绝缘部件安装在设置所述容器口部的一侧的所述外部电极端面；内部电极，其由所述排气管侧插入所述外部电极内的所述容器内，其插入深度为所述容器的纵向的大致全长，并与接地侧连接，同时，穿设有用于排出介质气体的排气孔；排气装置，其被安装在所述排气管上；气体供给装置，其用于向所述内部电极供给介质气体；高频电源，其被连接在所述外部电极。
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公开(公告)号：CN1807677A
公开(公告)日：2006-07-26
申请号：CN200610006228.7
申请日：2006-01-23
Applicant: 三菱重工业株式会社
IPC: C23C14/24
Abstract: 一种坩锅为在汽化室的整个区域上延伸的整体结构，并具有至少一个设置在坩锅上表面内的狭缝凹槽。所述至少一个狭缝凹槽具有从该坩锅上表面的一端到其另一端的长度。所述至少一个狭缝凹槽用作为用于容纳蒸发材料(掺杂材料等)的部分。可替换地，一种坩锅为在汽化室的整个区域上延伸的整体结构，并具有多个设置在坩锅上表面内的孔。这些孔用作为用于容纳蒸发材料的部分。另外，该坩锅分成多个区域，在坩锅下表面之下为相应区域设置单独的电加热器，从而能通过这些电加热器为相应区域单独控制温度。
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公开(公告)号：CN85107485A
公开(公告)日：1987-04-15
申请号：CN85107485
申请日：1985-10-10
CPC classification number: C23C2/40 , C23C14/562
Abstract: 本文公布了一种用于热浸涂镀及真空蒸镀的两 用连续涂镀设备，其特征是，常用的连续热浸涂镀设 备的气体还原退火炉出口和现有的连续真空蒸镀设 备的密封辊腔的入口之间，连接了一个增压腔，以便 防止含氢的还原气体侵入真空淀积室，这样，也就防 止了万一空气漏入真空淀积室时，含氢气体会导致 爆炸的可能性。
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公开(公告)号：CN101401198B
公开(公告)日：2012-05-02
申请号：CN200680053935.X
申请日：2006-12-26
Applicant: 三菱重工业株式会社
IPC: H01L21/683 , H02N13/00 , B65G49/06
CPC classification number: B65G49/061 , H01L21/6831 , H02N13/00
Abstract: 本发明公开了一种静电吸引设备和一种能够可靠吸引和快速释放玻璃基板的吸引/释放方法。根据玻璃基板的物理性质获得用于吸引玻璃基板的吸引力。除了获得用于获得吸引力所要求的吸引电压(Vc(t))之外，也获得了用于保持吸引状态的保持电压(Vh(t))和用于释放玻璃基板的释放电压(Vr(t))(S1到S7)。吸引时间周期(tc)被实际测量，并且如果此测量的时间不同于预设吸引时间(t1)，根据实际测量的吸引时间周期(tc)重新计算保持电压(Vh(t))和释放电压(Vr(t))(S8到S11)。
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