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公开(公告)号:CN85107585A
公开(公告)日:1987-05-06
申请号:CN85107585
申请日:1985-10-14
IPC: C23C14/56
CPC classification number: C23C14/562
Abstract: 一种用于真空沉积镀层的方法和装置,包括使用一种真空沉积镀层装置。该装置具有:分别设在真空沉积镀层室前面和后面的两个真空密封装置及两个不活泼气体置换室,用于将不活泼气体从两个真空密封装置的真空室循环到二者的大气压力室;及用于从不活泼气体中分离出水、油和氧的不活泼气体循环/纯化装置。上述方法和装置的特点为:分别将纯化后不活泼气体中氧和氢的浓度调整为60ppm或更少和0.2~2.0%,将不活泼气体的露点调整为-50℃或更低。
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公开(公告)号:CN85107485A
公开(公告)日:1987-04-15
申请号:CN85107485
申请日:1985-10-10
CPC classification number: C23C2/40 , C23C14/562
Abstract: 本文公布了一种用于热浸涂镀及真空蒸镀的两 用连续涂镀设备,其特征是,常用的连续热浸涂镀设 备的气体还原退火炉出口和现有的连续真空蒸镀设 备的密封辊腔的入口之间,连接了一个增压腔,以便 防止含氢的还原气体侵入真空淀积室,这样,也就防 止了万一空气漏入真空淀积室时,含氢气体会导致 爆炸的可能性。
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