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公开(公告)号:CN85107485A
公开(公告)日:1987-04-15
申请号:CN85107485
申请日:1985-10-10
CPC classification number: C23C2/40 , C23C14/562
Abstract: 本文公布了一种用于热浸涂镀及真空蒸镀的两 用连续涂镀设备,其特征是,常用的连续热浸涂镀设 备的气体还原退火炉出口和现有的连续真空蒸镀设 备的密封辊腔的入口之间,连接了一个增压腔,以便 防止含氢的还原气体侵入真空淀积室,这样,也就防 止了万一空气漏入真空淀积室时,含氢气体会导致 爆炸的可能性。