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公开(公告)号：CN100482850C
公开(公告)日：2009-04-29
申请号：CN200510054767.3
申请日：2005-03-11
Applicant: 三菱日立制铁机械株式会社 , 三菱重工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种直列式有机电致发光制造装置，使用与掩膜一体成形的支架支撑基板，并在基板上设置冷却板，以此抑制基板的温度上升而进行连续输送。另外，在装置内部设置差动排气部(D1～D4)，在不同真空度的处理室之间可以不停地连续输送基板。由此，能够提高成膜质量，并且能够提高生产效率。
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公开(公告)号：CN101182627A
公开(公告)日：2008-05-21
申请号：CN200710169464.5
申请日：2007-11-16
Applicant: 财团法人山形县产业技术振兴机构 , 三菱重工业株式会社 , 三菱日立制铁机械株式会社
CPC classification number: C23C14/243 , C23C14/26 , C23C14/542
Abstract: 本发明提供一种具有令基板的宽度方向的膜厚分布均匀的喷嘴构造的蒸发源以及使用该蒸发源的真空蒸镀装置。通过加热而令蒸镀材料气化或者升华而产生的蒸气从长条的喷嘴开口(2)带状地排出。另一方面，在与上述喷嘴开口(2)对置的状态下在垂直于该喷嘴开口的长度方向的方向上向箭头(A)方向输送被蒸镀基板(3)。上述喷嘴开口(2)的长度方向的每单位面积的蒸气的排出流量相比该喷嘴开口的中央部而言，与基板端部的位置相同的喷嘴宽度方向位置的部分处最大，并且在喷嘴开口(2)内配置对蒸气的流动赋予指向性的多个分隔板(4)。
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公开(公告)号：CN1676659A
公开(公告)日：2005-10-05
申请号：CN200510054767.3
申请日：2005-03-11
Applicant: 三菱日立制铁机械株式会社 , 三菱重工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种直列式有机电致发光制造装置，使用与掩膜一体成形的支架支撑基板，并在基板上设置冷却板，以此抑制基板的温度上升而进行连续输送。另外，在装置内部设置差动排气部(D1～D4)，在不同真空度的处理室之间可以不停地连续输送基板。由此，能够提高成膜质量，并且能够提高生产效率。
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公开(公告)号：CN101440471A
公开(公告)日：2009-05-27
申请号：CN200810178118.8
申请日：2008-11-19
Applicant: 三菱日立制铁机械株式会社
CPC classification number: C23C14/12 , C23C14/243 , C23C14/568
Abstract: 本发明公开一种线式膜形成装置，包括：淀积源、防淀积板和屏。淀积源存储不同膜形成材料，并且包括在垂直于传送方向的基板的宽度方向上延伸的开口。所述开口相互平行地分别设置在传送方向的上游侧和下游侧。所述防淀积板隔开与共淀积室相邻的淀积室，并且相互平行地设置在传送方向的上游侧和下游侧，限制来自开口的蒸汽的淀积区域。屏限制并且使来自开口的蒸汽在基板的淀积区域与通过板限定的淀积区域重合。因而，防止单成分模形成而只有混合膜形成在基板上。
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公开(公告)号：CN1648278A
公开(公告)日：2005-08-03
申请号：CN200510006398.0
申请日：2005-01-28
Applicant: 三菱日立制铁机械株式会社
Abstract: 本发明涉及真空蒸镀机。通过在真空蒸镀机上设置对于从蒸发室(18)侧朝玻璃基板(12)侧流入的蒸镀材料(15)的蒸气量在玻璃基板(12)的板宽度方向L均匀地控制的阀部件(21)；以及在玻璃基板(12)的下面侧以平行于玻璃基板(12)的被蒸镀面的方式配置，且在蒸镀室(25a)内对蒸镀材料(15)的蒸气进行面内分布和流动的调整的多孔挡板(23)，从而谋求对于玻璃基板(12)的板宽度方向L的蒸镀均匀化。由此，本发明能够提供一种即使对大型基板也能形成蒸镀材料的蒸气的均匀流动同时，还能控制蒸气分布，从而能够对蒸镀进行均匀化的真空蒸镀机。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100510163C
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200510006399.5
申请日：2005-01-28
Applicant: 三菱日立制铁机械株式会社
Abstract: 本发明涉及真空蒸镀机。通过在真空蒸镀机上设置对于从蒸发室(19a)、(19b)侧朝混合室(22)侧流入的蒸镀材料(16a)、(16b)的蒸气量在玻璃基板(12)的板宽度方向L均匀地控制的阀部件(21)；以及在玻璃基板(12)的下面侧以平行于玻璃基板(12)的被蒸镀面的方式配置，且在蒸镀室(25a)内对在混合室(22)中混合的蒸镀材料(16a)、(16b)的蒸气进行面内分布和流动的调整的多孔挡板(23)，从而谋求对于玻璃基板(12)的板宽度方向L的蒸镀均匀化。由此，本发明能够提供一种即使对大型基板也能形成蒸镀材料的蒸气的均匀流动同时，还能控制蒸气分布，从而能够对蒸镀进行均匀化的真空蒸镀机。
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公开(公告)号：CN100363532C
公开(公告)日：2008-01-23
申请号：CN200510006398.0
申请日：2005-01-28
Applicant: 三菱日立制铁机械株式会社
Abstract: 本发明涉及真空蒸镀机。通过在真空蒸镀机上设置对于从蒸发室(18)侧朝玻璃基板(12)侧流入的蒸镀材料(15)的蒸气量在玻璃基板(12)的板宽度方向L均匀地控制的阀部件(21)；以及在玻璃基板(12)的下面侧以平行于玻璃基板(12)的被蒸镀面的方式配置，且在蒸镀室(25a)内对蒸镀材料(15)的蒸气进行面内分布和流动的调整的多孔挡板(23)，从而谋求对于玻璃基板(12)的板宽度方向L的蒸镀均匀化。由此，本发明能够提供一种即使对大型基板也能形成蒸镀材料的蒸气的均匀流动同时，还能控制蒸气分布，从而能够对蒸镀进行均匀化的真空蒸镀机。
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公开(公告)号：CN1648279A
公开(公告)日：2005-08-03
申请号：CN200510006399.5
申请日：2005-01-28
Applicant: 三菱日立制铁机械株式会社
Abstract: 本发明涉及真空蒸镀机。通过在真空蒸镀机上设置对于从蒸发室(19a)、(19b)侧朝混合室(22)侧流入的蒸镀材料(16a)、(16b)的蒸气量在玻璃基板(12)的板宽度方向L均匀地控制的阀部件(21)；以及在玻璃基板(12)的下面侧以平行于玻璃基板(12)的被蒸镀面的方式配置，且在蒸镀室(25a)内对在混合室(22)中混合的蒸镀材料(16a)、(16b)的蒸气进行面内分布和流动的调整的多孔挡板(23)，从而谋求对于玻璃基板(12)的板宽度方向L的蒸镀均匀化。由此，本发明能够提供一种即使对大型基板也能形成蒸镀材料的蒸气的均匀流动同时，还能控制蒸气分布，从而能够对蒸镀进行均匀化的真空蒸镀机。
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公开(公告)号：CN101401198A
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：CN200680053935.X
申请日：2006-12-26
Applicant: 三菱重工业株式会社
IPC: H01L21/683 , H02N13/00 , B65G49/06
CPC classification number: B65G49/061 , H01L21/6831 , H02N13/00
Abstract: 本发明公开了一种静电吸引设备和一种能够可靠吸引和快速释放玻璃基板的吸引/释放方法。根据玻璃基板的物理性质获得用于吸引玻璃基板的吸引力。除了获得用于获得吸引力所要求的吸引电压(Vc(t))之外，也获得了用于保持吸引状态的保持电压(Vh(t))和用于释放玻璃基板的释放电压(Vr(t))(S1到S7)。吸引时间周期(tc)被实际测量，并且如果此测量的时间不同于预设吸引时间(t1)，根据实际测量的吸引时间周期(tc)重新计算保持电压(Vh(t))和释放电压(Vr(t))(S8到S11)。
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公开(公告)号：CN101182627B
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：CN200710169464.5
申请日：2007-11-16
Applicant: 三菱重工业株式会社
CPC classification number: C23C14/243 , C23C14/26 , C23C14/542
Abstract: 本发明提供一种具有令基板的宽度方向的膜厚分布均匀的喷嘴构造的蒸发源以及使用该蒸发源的真空蒸镀装置。通过加热而令蒸镀材料气化或者升华而产生的蒸气从长条的喷嘴开口(2)带状地排出。另一方面，在与上述喷嘴开口(2)对置的状态下在垂直于该喷嘴开口的长度方向的方向上向箭头(A)方向输送被蒸镀基板(3)。上述喷嘴开口(2)的长度方向的每单位面积的蒸气的排出流量相比该喷嘴开口的中央部而言，与基板端部的位置相同的喷嘴宽度方向位置的部分处最大，并且在喷嘴开口(2)内配置对蒸气的流动赋予指向性的多个分隔板(4)。
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