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公开(公告)号：CN1676659A
公开(公告)日：2005-10-05
申请号：CN200510054767.3
申请日：2005-03-11
Applicant: 三菱日立制铁机械株式会社 , 三菱重工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种直列式有机电致发光制造装置，使用与掩膜一体成形的支架支撑基板，并在基板上设置冷却板，以此抑制基板的温度上升而进行连续输送。另外，在装置内部设置差动排气部(D1～D4)，在不同真空度的处理室之间可以不停地连续输送基板。由此，能够提高成膜质量，并且能够提高生产效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100482850C
公开(公告)日：2009-04-29
申请号：CN200510054767.3
申请日：2005-03-11
Applicant: 三菱日立制铁机械株式会社 , 三菱重工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种直列式有机电致发光制造装置，使用与掩膜一体成形的支架支撑基板，并在基板上设置冷却板，以此抑制基板的温度上升而进行连续输送。另外，在装置内部设置差动排气部(D1～D4)，在不同真空度的处理室之间可以不停地连续输送基板。由此，能够提高成膜质量，并且能够提高生产效率。
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公开(公告)号：CN1648279A
公开(公告)日：2005-08-03
申请号：CN200510006399.5
申请日：2005-01-28
Applicant: 三菱日立制铁机械株式会社
Abstract: 本发明涉及真空蒸镀机。通过在真空蒸镀机上设置对于从蒸发室(19a)、(19b)侧朝混合室(22)侧流入的蒸镀材料(16a)、(16b)的蒸气量在玻璃基板(12)的板宽度方向L均匀地控制的阀部件(21)；以及在玻璃基板(12)的下面侧以平行于玻璃基板(12)的被蒸镀面的方式配置，且在蒸镀室(25a)内对在混合室(22)中混合的蒸镀材料(16a)、(16b)的蒸气进行面内分布和流动的调整的多孔挡板(23)，从而谋求对于玻璃基板(12)的板宽度方向L的蒸镀均匀化。由此，本发明能够提供一种即使对大型基板也能形成蒸镀材料的蒸气的均匀流动同时，还能控制蒸气分布，从而能够对蒸镀进行均匀化的真空蒸镀机。
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公开(公告)号：CN1648278A
公开(公告)日：2005-08-03
申请号：CN200510006398.0
申请日：2005-01-28
Applicant: 三菱日立制铁机械株式会社
Abstract: 本发明涉及真空蒸镀机。通过在真空蒸镀机上设置对于从蒸发室(18)侧朝玻璃基板(12)侧流入的蒸镀材料(15)的蒸气量在玻璃基板(12)的板宽度方向L均匀地控制的阀部件(21)；以及在玻璃基板(12)的下面侧以平行于玻璃基板(12)的被蒸镀面的方式配置，且在蒸镀室(25a)内对蒸镀材料(15)的蒸气进行面内分布和流动的调整的多孔挡板(23)，从而谋求对于玻璃基板(12)的板宽度方向L的蒸镀均匀化。由此，本发明能够提供一种即使对大型基板也能形成蒸镀材料的蒸气的均匀流动同时，还能控制蒸气分布，从而能够对蒸镀进行均匀化的真空蒸镀机。
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公开(公告)号：CN100510163C
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200510006399.5
申请日：2005-01-28
Applicant: 三菱日立制铁机械株式会社
Abstract: 本发明涉及真空蒸镀机。通过在真空蒸镀机上设置对于从蒸发室(19a)、(19b)侧朝混合室(22)侧流入的蒸镀材料(16a)、(16b)的蒸气量在玻璃基板(12)的板宽度方向L均匀地控制的阀部件(21)；以及在玻璃基板(12)的下面侧以平行于玻璃基板(12)的被蒸镀面的方式配置，且在蒸镀室(25a)内对在混合室(22)中混合的蒸镀材料(16a)、(16b)的蒸气进行面内分布和流动的调整的多孔挡板(23)，从而谋求对于玻璃基板(12)的板宽度方向L的蒸镀均匀化。由此，本发明能够提供一种即使对大型基板也能形成蒸镀材料的蒸气的均匀流动同时，还能控制蒸气分布，从而能够对蒸镀进行均匀化的真空蒸镀机。
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公开(公告)号：CN100363532C
公开(公告)日：2008-01-23
申请号：CN200510006398.0
申请日：2005-01-28
Applicant: 三菱日立制铁机械株式会社
Abstract: 本发明涉及真空蒸镀机。通过在真空蒸镀机上设置对于从蒸发室(18)侧朝玻璃基板(12)侧流入的蒸镀材料(15)的蒸气量在玻璃基板(12)的板宽度方向L均匀地控制的阀部件(21)；以及在玻璃基板(12)的下面侧以平行于玻璃基板(12)的被蒸镀面的方式配置，且在蒸镀室(25a)内对蒸镀材料(15)的蒸气进行面内分布和流动的调整的多孔挡板(23)，从而谋求对于玻璃基板(12)的板宽度方向L的蒸镀均匀化。由此，本发明能够提供一种即使对大型基板也能形成蒸镀材料的蒸气的均匀流动同时，还能控制蒸气分布，从而能够对蒸镀进行均匀化的真空蒸镀机。
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