蒸发源以及使用该蒸发源的真空蒸镀装置

    公开(公告)号:CN101182627B

    公开(公告)日:2011-06-22

    申请号:CN200710169464.5

    申请日:2007-11-16

    CPC classification number: C23C14/243 C23C14/26 C23C14/542

    Abstract: 本发明提供一种具有令基板的宽度方向的膜厚分布均匀的喷嘴构造的蒸发源以及使用该蒸发源的真空蒸镀装置。通过加热而令蒸镀材料气化或者升华而产生的蒸气从长条的喷嘴开口(2)带状地排出。另一方面,在与上述喷嘴开口(2)对置的状态下在垂直于该喷嘴开口的长度方向的方向上向箭头(A)方向输送被蒸镀基板(3)。上述喷嘴开口(2)的长度方向的每单位面积的蒸气的排出流量相比该喷嘴开口的中央部而言,与基板端部的位置相同的喷嘴宽度方向位置的部分处最大,并且在喷嘴开口(2)内配置对蒸气的流动赋予指向性的多个分隔板(4)。

    生产还原铁的设备
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1213154C

    公开(公告)日:2005-08-03

    申请号:CN00122707.6

    申请日:2000-08-10

    CPC classification number: C21B13/105 C21B13/10

    Abstract: 公开了一种通过使铁材料与还原剂的混合粉末制团成为坯块如压坯或球团,并且在高温气氛中还原所述坯块来生产还原铁的设备。在该设备中,环状的旋转炉床以可旋转方式支撑。对左右两侧炉壁和炉顶进行设置,以便将旋转炉床上方的面积遮盖住,从而形成高温气氛的空间部分。坯块供料部分和坯块出料部分相邻设置于炉顶中。设置有作为介于坯块供料部分,坯块出料部分和高温气氛的空间部分间的隔离件的隔离部件。

    真空蒸汽沉积设备
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1807677A

    公开(公告)日:2006-07-26

    申请号:CN200610006228.7

    申请日:2006-01-23

    Abstract: 一种坩锅为在汽化室的整个区域上延伸的整体结构,并具有至少一个设置在坩锅上表面内的狭缝凹槽。所述至少一个狭缝凹槽具有从该坩锅上表面的一端到其另一端的长度。所述至少一个狭缝凹槽用作为用于容纳蒸发材料(掺杂材料等)的部分。可替换地,一种坩锅为在汽化室的整个区域上延伸的整体结构,并具有多个设置在坩锅上表面内的孔。这些孔用作为用于容纳蒸发材料的部分。另外,该坩锅分成多个区域,在坩锅下表面之下为相应区域设置单独的电加热器,从而能通过这些电加热器为相应区域单独控制温度。

    线式膜形成装置
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101440471B

    公开(公告)日:2012-02-15

    申请号:CN200810178118.8

    申请日:2008-11-19

    CPC classification number: C23C14/12 C23C14/243 C23C14/568

    Abstract: 本发明公开一种线式膜形成装置,包括:淀积源、防淀积板和屏。淀积源存储不同膜形成材料,并且包括在垂直于传送方向的基板的宽度方向上延伸的开口。所述开口相互平行地分别设置在传送方向的上游侧和下游侧。所述防淀积板隔开与共淀积室相邻的淀积室,并且相互平行地设置在传送方向的上游侧和下游侧,限制来自开口的蒸汽的淀积区域。屏限制并且使来自开口的蒸汽在基板的淀积区域与通过板限定的淀积区域重合。因而,防止单成分模形成而只有混合膜形成在基板上。

    真空蒸汽沉积设备
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100503881C

    公开(公告)日:2009-06-24

    申请号:CN200610006228.7

    申请日:2006-01-23

    Abstract: 一种坩锅为在汽化室的整个区域上延伸的整体结构,并具有至少一个设置在坩锅上表面内的狭缝凹槽。所述至少一个狭缝凹槽具有从该坩锅上表面的一端到其另一端的长度。所述至少一个狭缝凹槽用作为用于容纳蒸发材料(掺杂材料等)的部分。可替换地,一种坩锅为在汽化室的整个区域上延伸的整体结构,并具有多个设置在坩锅上表面内的孔。这些孔用作为用于容纳蒸发材料的部分。另外,该坩锅分成多个区域,在坩锅下表面之下为相应区域设置单独的电加热器,从而能通过这些电加热器为相应区域单独控制温度。

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