-
公开(公告)号：CN101329998A
公开(公告)日：2008-12-24
申请号：CN200810128029.2
申请日：2005-02-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , C23C16/455
CPC classification number: H01L21/67167 , C23C16/455 , C23C16/45561
Abstract: 本发明提供一种半导体处理装置(1)，包括连接到公用搬运室(8)上的、用于对被处理基板(W)实施处理的多个处理室(2)。附设用于向各处理室(2)供给规定气体的气体供给系统(40)。气体供给系统(40)具有连接到规定气体源上的初级侧连接单元(23)和流量控制单元(13)。初级侧连接单元(23)配置在对应的处理室(2)的下侧。流量控制单元(13)配设到从初级侧连接单元(23)向对应的处理室(2)内供给气体的气体管道上。流量控制单元(13)被配置成至少一部分要重叠到初级侧连接单元(23)的上侧。
-
公开(公告)号：CN119856260A
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN202480003950.1
申请日：2024-06-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065 , C23C16/44 , H01L21/31
Abstract: 本发明提供一种使等离子体处理装置、基片处理系统的构成部件之间的拆装变得容易的技术。本发明提供一种包括腔室的等离子体处理装置。该装置包括：第一部件；第二部件；和固定件，其构成为能够将第一部件和第二部件以沿着轴向可拆装的方式固定在一起，该固定件包括固定于第一部件的凸型部件和固定于第二部件并且构成为能够接收凸型部件的凹型部件。凸型部件包括在轴向上延伸且在前端扩径的轴部件。凸型部件包括：固定于第二部件的收纳部件；配置于收纳部件内的保持部件；和被保持部件保持的球状部件。球状部件构成为当保持部件在轴向且为去往开口的方向的第一方向上移动时，能够被收纳部件的内壁的锥形部分引导而向径向的内侧移动。
-
公开(公告)号：CN118136551A
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202311578460.8
申请日：2023-11-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供运送模块和运送方法，能够减少基板处理系统的设置面积。运送模块包括第1运送室、第2运送室和开闭门。第1运送室具有能够收纳被运送物的收纳部。在收纳有多个被运送物的容器被送入第2运送室内、第2运送室内的压力从大气压切换成低压后，以第1运送室内的空间和第2运送室内的空间连通的方式控制开闭门。多个被运送物从容器向第1运送室内的收纳部运送，从收纳部向真空运送模块内运送。从真空运送模块送出的被运送物不经由收纳部地运送至容器内。
-
公开(公告)号：CN111094911B
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN201980004524.9
申请日：2019-05-27
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 一种流量测量方法具备以下步骤：测量填充在第一流路和第二流路中的气体的第一压力；在测量出所述第一压力后，且在经由流量控制器向所述第一流路和所述第二流路供给气体后，测量填充在所述第一流路和所述第二流路中的气体的第二压力及温度；在所述第一流路与所述第二流路之间未连接的状态下从所述第二流路对气体进行排气后，测量填充在所述第二流路中的气体的第三压力；在测量出所述第三压力后，在所述第一流路与所述第二流路连接的状态下，测量填充在所述第一流路和所述第二流路中的气体的第四压力；基于所述第一压力、所述第二压力、所述第三压力、所述第四压力以及所述温度，计算供给到所述第一流路和所述第二流路的气体的量。
-
公开(公告)号：CN116057676A
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202280006376.6
申请日：2022-02-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065
Abstract: 本发明的基片处理系统包括等离子体处理模块，上述等离子体处理模块包括：第一环，其配置在载置台的环支承面上；第二环，其配置在上述第一环上，具有比上述第一环的内径小的内径；多个第一支承销，其配置在上述环支承面的下方；和多个第二支承销，其配置在上述基片支承面的下方。在上述基片处理系统中，控制器构为，能够选择性地执行同时输送上述第一环和上述第二环的同时输送模式、以及单独输送上述第二环的单独输送模式。在上述同时输送模式中，利用上述多个第一支承销将上述第一环和上述第二环一起抬起并交接给输送机器人。在上述单独输送模式中，利用上述多个第一支承销将上述第一环和上述第二环一起抬起，接着，利用上述多个第二支承销将输送治具支承在比上述第二环的高度低的高度，之后，使上述多个第一支承销下降，利用上述多个第二支承销支承上述输送治具和上述第二环，将它们一起交接给输送机器人。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115050674A
公开(公告)日：2022-09-13
申请号：CN202210163305.9
申请日：2022-02-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 本发明提供能够使对输送机器人的示教自动化的输送系统、输送装置和输送方法。本发明的一方式的输送系统包括：基于动作指示利用末端执行器输送输送对象物的输送机器人；和将上述动作指示输出到上述输送机器人的控制部，上述末端执行器和上述输送对象物中的至少任一者具有传感器和摄像机中的至少任一者，上述控制部基于上述传感器的检测结果和上述摄像机的撮影结果中的至少任一者，计算上述末端执行器与上述输送对象物的相对位置，上述控制部基于上述相对位置决定上述末端执行器相对于上述输送对象物的教示位置，将上述动作指示输出到上述输送机器人以使得在该教示位置配置该末端执行器。
-
公开(公告)号：CN114843168A
公开(公告)日：2022-08-02
申请号：CN202210087175.5
申请日：2022-01-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32 , H01L21/683 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种能够对消耗构件进行定位并收纳的收纳容器和处理系统。本公开的一方式的收纳容器是收纳在外周和内周的至少一者具有缺口的环状构件的容器，其中，该收纳容器具有：底板，其载置所述环状构件；以及多个导销，其自所述底板突出，对所述环状构件进行定位，所述多个导销包括与所述缺口卡合的销。
-
公开(公告)号：CN114496694A
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202111201637.3
申请日：2021-10-15
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种处理系统和输送方法，涉及能够高效地更换处理室内的消耗部件的技术。处理系统包括：内部能够安装消耗部件的腔室；用于收纳消耗部件的收纳模块；检测消耗部件的位置的位置检测传感器；能够与腔室和收纳模块连接的真空输送模块，其具有在腔室与收纳模块之间输送消耗部件的输送机械手；和控制部，其构成为执行：步骤(a)，控制输送机械手，将安装于腔室的消耗部件输送到收纳模块；步骤(b)，利用位置检测传感器检测向收纳模块输送的消耗部件的位置；和步骤(c)，控制输送机械手，基于步骤(b)中检测出的消耗部件的位置，从收纳模块将与消耗部件不同的新的消耗部件在进行位置修正的基础上输送到腔室。
-
公开(公告)号：CN114121741A
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN202110967094.X
申请日：2021-08-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种输送装置和输送方法，其利用与现有技术不同的方法来判断基片等部件是否通过了预定的区域。输送装置包括输送臂、照射部、受光部和控制装置。输送臂输送部件。照射部在输送臂输送部件时向部件所要通过的通过区域倾斜地照射光。受光部在部件从通过区域通过时，接收从照射部照射并被部件反射的光。控制装置根据受光部是否接收到从照射部照射的光，来判断部件是否通过了通过区域。
-
公开(公告)号：CN113594060A
公开(公告)日：2021-11-02
申请号：CN202110429613.7
申请日：2021-04-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明增加处理系统的工作时间。处理系统包括真空输送组件、多个处理组件、多个负载锁定组件、多个大气输送组件。真空输送组件在比大气压低的压力气氛下输送基片。多个处理组件与真空输送组件连接，用于处理基片。多个负载锁定组件与真空输送组件连接。多个大气输送组件在大气压气氛下输送基片。另外，各大气输送组件与多个负载锁定组件的至少一个连接。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
44
records
(took 0.032 seconds)
