基片处理装置和基片处理装置的维护方法

    公开(公告)号:CN115775717A

    公开(公告)日:2023-03-10

    申请号:CN202211063951.4

    申请日:2022-09-01

    Abstract: 本发明提供能够容易地维护基片处理装置的内壁部件的技术。本发明的基片处理装置包括腔室、基片支承器、支承部件、内壁部件、接触部件和致动器。基片支承器设置在腔室内。支承部件设置在基片支承器的上方。内壁部件包括能够配置在基片支承器的上方且支承部件的下方的顶部。接触部件安装在支承部件和内壁部件中的一者。接触部件构成为,通过对支承部件和内壁部件中的另一者施加水平方向的弹簧反作用力,将内壁部件可拆装地固定在支承部件。致动器构成为使内壁部件向下方移动而解除内壁部件相对于支承部件的固定。

    等离子体处理装置、基片处理系统和固定件

    公开(公告)号:CN119856260A

    公开(公告)日:2025-04-18

    申请号:CN202480003950.1

    申请日:2024-06-13

    Abstract: 本发明提供一种使等离子体处理装置、基片处理系统的构成部件之间的拆装变得容易的技术。本发明提供一种包括腔室的等离子体处理装置。该装置包括:第一部件;第二部件;和固定件,其构成为能够将第一部件和第二部件以沿着轴向可拆装的方式固定在一起,该固定件包括固定于第一部件的凸型部件和固定于第二部件并且构成为能够接收凸型部件的凹型部件。凸型部件包括在轴向上延伸且在前端扩径的轴部件。凸型部件包括:固定于第二部件的收纳部件;配置于收纳部件内的保持部件;和被保持部件保持的球状部件。球状部件构成为当保持部件在轴向且为去往开口的方向的第一方向上移动时,能够被收纳部件的内壁的锥形部分引导而向径向的内侧移动。

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