公开(公告)号：CN118136551A

公开(公告)日：2024-06-04

申请号：CN202311578460.8

申请日：2023-11-24

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 网仓纪彦 ,  三枝慎 ,  丰卷俊明 ,  贝瀬精一 ,  北正知

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供运送模块和运送方法，能够减少基板处理系统的设置面积。运送模块包括第1运送室、第2运送室和开闭门。第1运送室具有能够收纳被运送物的收纳部。在收纳有多个被运送物的容器被送入第2运送室内、第2运送室内的压力从大气压切换成低压后，以第1运送室内的空间和第2运送室内的空间连通的方式控制开闭门。多个被运送物从容器向第1运送室内的收纳部运送，从收纳部向真空运送模块内运送。从真空运送模块送出的被运送物不经由收纳部地运送至容器内。

公开(公告)号：CN114496695A

公开(公告)日：2022-05-13

申请号：CN202111203494.X

申请日：2021-10-15

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 网仓纪彦 ,  三枝慎 ,  广瀬润

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供处理系统和处理方法，能够使用设置于输送叉形部件的传感器测量等离子体处理腔室的内部状态，基于该测量结果适当地进行基片的处理。在减压环境下对基片进行处理的系统包括：对基片实施所希望的处理的处理腔室；输送腔室，其具有进行上述基片相对于上述处理腔室的送入送出的输送机构；和控制上述处理腔室中的处理过程的控制部，上述输送机构具有：将上述基片保持于上表面地进行输送的叉形部；和测量机构，其设置于上述叉形部，能够测量上述处理腔室的内部状态，上述控制部基于由上述测量机构获取到的上述处理腔室的内部状态，控制上述处理腔室中的处理过程。