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公开(公告)号：CN111048387A
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：CN201910956853.5
申请日：2019-10-10
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 喜多川大
IPC: H01J37/32 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供能够减少加工量的静电卡盘的再生方法和静电卡盘。一种静电卡盘的再生方法，该静电卡盘的再生方法包括以下工序：提供具有凹部和自所述凹部的底面突出的凸部的所述静电卡盘；形成第1掩模，该第1掩模覆盖除所述凸部以外的所述凹部；借助所述第1掩模对所述静电卡盘的表面进行削除；去除所述第1掩模；在所述底面的与所述凸部的位置不同的位置形成第2掩模；借助所述第2掩模对所述静电卡盘的表面进行削除；以及去除所述第2掩模。
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公开(公告)号：CN106165070B
公开(公告)日：2019-08-13
申请号：CN201580019476.2
申请日：2015-04-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 喜多川大
IPC: H01L21/3065 , H01L21/02 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种加热器供电机构，其用多个加热器将载置基板的载置台分区化，并且能够在每个分区进行温度控制，该加热器供电机构包括：多组加热器用端子，将一组加热器用端子作为一区段，以区段单位与上述多个加热器的任一者连接；加热器配线；和配线结构，使用上述加热器配线将上述多组加热器用端子间的至少任一者以区段单位连接的。
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公开(公告)号：CN108091535B
公开(公告)日：2020-06-09
申请号：CN201711165278.4
申请日：2017-11-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种载置台和具有该载置台的等离子体处理装置。该载置台包括：被施加高频电力的基座；被施加高频电力的基座；设置在基座上，具有用于载置被处理体的载置区域和包围载置区域的外周区域的静电卡盘；设置在载置区域的内部的加热器；与加热器连接并延伸至外周区域的内部的配线层；在外周区域与配线层的接点部连接的供电端子；和导电层，其设置在外周区域的内部或者设置在位于外周区域之外的厚度方向上的其它区域，从外周区域的厚度方向看时与供电端子重叠。由此，能够提高沿着被处理体的周向的电场强度的均匀性。
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公开(公告)号：CN106233435B
公开(公告)日：2019-07-05
申请号：CN201580020523.5
申请日：2015-05-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065 , H01L21/02 , H01L21/683 , H05B3/02
CPC classification number: H01L21/67103 , H01L21/67069 , H01L21/67248 , H01L21/6831 , H05B1/0233 , H05B3/283
Abstract: 本发明提供一种加热器供电机构，用多个加热器将载置基板的载置台分为多个区域，能够对每个区域进行温度控制，该加热器供电机构包括：与上述多个加热器连接的多个加热器用端子；与上述多个加热器用端子连接的多个加热器配线；和使上述多个加热器配线偏移的偏移构造，上述多个加热器用端子配置在保持上述载置台的保持板上的外周部。
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公开(公告)号：CN119856260A
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN202480003950.1
申请日：2024-06-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065 , C23C16/44 , H01L21/31
Abstract: 本发明提供一种使等离子体处理装置、基片处理系统的构成部件之间的拆装变得容易的技术。本发明提供一种包括腔室的等离子体处理装置。该装置包括：第一部件；第二部件；和固定件，其构成为能够将第一部件和第二部件以沿着轴向可拆装的方式固定在一起，该固定件包括固定于第一部件的凸型部件和固定于第二部件并且构成为能够接收凸型部件的凹型部件。凸型部件包括在轴向上延伸且在前端扩径的轴部件。凸型部件包括：固定于第二部件的收纳部件；配置于收纳部件内的保持部件；和被保持部件保持的球状部件。球状部件构成为当保持部件在轴向且为去往开口的方向的第一方向上移动时，能够被收纳部件的内壁的锥形部分引导而向径向的内侧移动。
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公开(公告)号：CN108091535A
公开(公告)日：2018-05-29
申请号：CN201711165278.4
申请日：2017-11-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种载置台和具有该载置台的等离子体处理装置。该载置台包括：被施加高频电力的基座；被施加高频电力的基座；设置在基座上，具有用于载置被处理体的载置区域和包围载置区域的外周区域的静电卡盘；设置在载置区域的内部的加热器；与加热器连接并延伸至外周区域的内部的配线层；在外周区域与配线层的接点部连接的供电端子；和导电层，其设置在外周区域的内部或者设置在位于外周区域之外的厚度方向上的其它区域，从外周区域的厚度方向看时与供电端子重叠。由此，能够提高沿着被处理体的周向的电场强度的均匀性。
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公开(公告)号：CN111584339B
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN202010396274.2
申请日：2017-11-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种载置台和具有该载置台的等离子体处理装置。该载置台包括：被施加高频电力的基座；被施加高频电力的基座；设置在基座上，具有用于载置被处理体的载置区域和包围载置区域的外周区域的静电卡盘；设置在载置区域的内部的加热器；与加热器连接并延伸至外周区域的内部的配线层；在外周区域与配线层的接点部连接的供电端子；和导电层，其设置在外周区域的内部或者设置在位于外周区域之外的厚度方向上的其它区域，从外周区域的厚度方向看时与供电端子重叠。由此，能够提高沿着被处理体的周向的电场强度的均匀性。
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公开(公告)号：CN115775717A
公开(公告)日：2023-03-10
申请号：CN202211063951.4
申请日：2022-09-01
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供能够容易地维护基片处理装置的内壁部件的技术。本发明的基片处理装置包括腔室、基片支承器、支承部件、内壁部件、接触部件和致动器。基片支承器设置在腔室内。支承部件设置在基片支承器的上方。内壁部件包括能够配置在基片支承器的上方且支承部件的下方的顶部。接触部件安装在支承部件和内壁部件中的一者。接触部件构成为，通过对支承部件和内壁部件中的另一者施加水平方向的弹簧反作用力，将内壁部件可拆装地固定在支承部件。致动器构成为使内壁部件向下方移动而解除内壁部件相对于支承部件的固定。
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公开(公告)号：CN111584339A
公开(公告)日：2020-08-25
申请号：CN202010396274.2
申请日：2017-11-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种载置台和具有该载置台的等离子体处理装置。该载置台包括：被施加高频电力的基座；被施加高频电力的基座；设置在基座上，具有用于载置被处理体的载置区域和包围载置区域的外周区域的静电卡盘；设置在载置区域的内部的加热器；与加热器连接并延伸至外周区域的内部的配线层；在外周区域与配线层的接点部连接的供电端子；和导电层，其设置在外周区域的内部或者设置在位于外周区域之外的厚度方向上的其它区域，从外周区域的厚度方向看时与供电端子重叠。由此，能够提高沿着被处理体的周向的电场强度的均匀性。
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公开(公告)号：CN106463446A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201580024261.X
申请日：2015-06-01
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/3065
Abstract: 本发明提供一种载置台及等离子体处理装置。本发明的一实施方式的载置台具备支承部件及基座。支承部件具有：载置区域，具有加热器；及外周区域，围绕载置区域。基座具有：第1区域，在其上支承载置区域；及第2区域，围绕第1区域。第2区域中设有贯穿孔。电连接于加热器的配线穿过第2区域的贯穿孔。
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