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公开(公告)号:CN102741996B
公开(公告)日:2015-06-10
申请号:CN201080056197.0
申请日:2010-12-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 住友大阪水泥股份有限公司
IPC: H01L21/683 , H01L21/3065 , H01L21/31
CPC classification number: H01L21/6831 , H01J37/32642 , H01J2237/332 , H01J2237/338 , H01L21/67069 , H01L21/67103 , H01L21/67109 , H01L21/67248
Abstract: 本发明提供一种静电卡盘装置,其由以下部件构成:静电卡盘部;环状的聚焦环部,设置成包围该静电卡盘部;和冷却基部,冷却该静电卡盘部和聚焦环部。聚焦环部包括环状的聚焦环、环状的导热片、环状的陶瓷环、非磁性体的加热器以及向该加热器供电的电极部。
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公开(公告)号:CN119998940A
公开(公告)日:2025-05-13
申请号:CN202380070149.4
申请日:2023-09-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/3065
Abstract: 基片处理系统包括:处理模块;真空输送模块,其与所述处理模块连接,具有用于输送所述环的输送机器人;能够对所述环进行温度调节的温度调节部;和控制部。所述控制部能够进行控制以使得依次进行:在将所述环送入所述处理模块之前,利用所述温度调节部对所述环进行温度调节的工序;和利用所述输送机器人输送由所述温度调节部进行了温度调节后的所述环并将所述环载置在所述基片支承部的工序。
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公开(公告)号:CN116057676A
公开(公告)日:2023-05-02
申请号:CN202280006376.6
申请日:2022-02-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065
Abstract: 本发明的基片处理系统包括等离子体处理模块,上述等离子体处理模块包括:第一环,其配置在载置台的环支承面上;第二环,其配置在上述第一环上,具有比上述第一环的内径小的内径;多个第一支承销,其配置在上述环支承面的下方;和多个第二支承销,其配置在上述基片支承面的下方。在上述基片处理系统中,控制器构为,能够选择性地执行同时输送上述第一环和上述第二环的同时输送模式、以及单独输送上述第二环的单独输送模式。在上述同时输送模式中,利用上述多个第一支承销将上述第一环和上述第二环一起抬起并交接给输送机器人。在上述单独输送模式中,利用上述多个第一支承销将上述第一环和上述第二环一起抬起,接着,利用上述多个第二支承销将输送治具支承在比上述第二环的高度低的高度,之后,使上述多个第一支承销下降,利用上述多个第二支承销支承上述输送治具和上述第二环,将它们一起交接给输送机器人。
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公开(公告)号:CN114843168A
公开(公告)日:2022-08-02
申请号:CN202210087175.5
申请日:2022-01-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32 , H01L21/683 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种能够对消耗构件进行定位并收纳的收纳容器和处理系统。本公开的一方式的收纳容器是收纳在外周和内周的至少一者具有缺口的环状构件的容器,其中,该收纳容器具有:底板,其载置所述环状构件;以及多个导销,其自所述底板突出,对所述环状构件进行定位,所述多个导销包括与所述缺口卡合的销。
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公开(公告)号:CN102741996A
公开(公告)日:2012-10-17
申请号:CN201080056197.0
申请日:2010-12-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 住友大阪水泥股份有限公司
IPC: H01L21/683 , H01L21/3065 , H01L21/31
CPC classification number: H01L21/6831 , H01J37/32642 , H01J2237/332 , H01J2237/338 , H01L21/67069 , H01L21/67103 , H01L21/67109 , H01L21/67248
Abstract: 本发明提供一种静电卡盘装置,其由以下部件构成:静电卡盘部;环状的聚焦环部,设置成包围该静电卡盘部;和冷却基部,冷却该静电卡盘部和聚焦环部。聚焦环部包括环状的聚焦环、环状的导热片、环状的陶瓷环、非磁性体的加热器以及向该加热器供电的电极部。
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