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公开(公告)号：CN105989589A
公开(公告)日：2016-10-05
申请号：CN201510064898.3
申请日：2015-02-09
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明公开一种掩模图形灰度化方法，其特征在于，包括：步骤一：将原始掩模图形转换后进行特征图形识别；步骤二：根据已识别出来的所述特征图形计算各自特征值；步骤三：判断所述的各自特征值，是否小于一临界值，依此将所述原始掩模图形中的所述特征图像进行分离为HP图形单元和HE图形单元；步骤四：对分离后的所述HP图形单元进行HP灰度化或者对分离后的所述HE图形单元进行HE灰度化；步骤五：对所述HP灰度化及所述HE灰度化的数字掩模按照所述原始掩模图形中的位置进行拼接。
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公开(公告)号：CN103983532B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201310049859.7
申请日：2013-02-07
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G01N7/00
Abstract: 本发明提供了一种测试材料释气率的装置，包括：真空室，所述真空室包括第一真空室和第二真空室，所述第一真空室和第二真空室由一个带有小孔的隔板隔开，所述第二真空室用于放置测试材料，所述第二真空室内设有一辐射灯；与所述真空室连接的泵组；与所述真空室连接测量系统；充入所述第二真空室中的气源。本发明通过测量系统测量所述第一真空室和第二真空室的气体压力，不仅可以得出测试材料释放的所有气体组分的总释气率，而且可以得出测试材料释放的某一气体组分的释气率。
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公开(公告)号：CN105319858A
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201410366680.9
申请日：2014-07-29
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出了一种照明测试装置和照明均匀性、杂散光的测试方法，增加专用探测光路用于进行能量探测，解决了像面空间采样频率不足的问题，且可以同时实现对小视场照明均匀性和杂散光的高精度测量；试时间较传统的运动台带动点能量传感器的方案更短；对于杂散光可进行实时监控，无需加载掩模。
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公开(公告)号：CN104635429A
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201310563528.5
申请日：2013-11-14
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出一种用于光刻设备的掩模重力补偿装置，其特征在于，包括：一掩模，该掩模通过位于掩模下方分布于两侧的吸附装置放置于一掩模台上，该掩模的上表面设置两个水平位置固定的吸附条，根据该掩模运动时的不同位置，调整该吸附条的压力值，以补偿该掩模因自身重量产生的形变；所述吸附条通过调节与其连接的流量控制器、比例调压阀或磁服阀来控制吸附条的抽速。
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公开(公告)号：CN102955365B
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201110241758.0
申请日：2011-08-22
Applicant: 上海微电子装备有限公司
CPC classification number: G03F7/70208 , G01B11/14 , G01B11/26 , G03F7/70408 , G03F7/70775 , G03F9/7007
Abstract: 本发明公开一种干涉曝光装置，包括：一光源，用于提供曝光光束；一干涉头，用于将所述曝光光束形成至少两束干涉光束并会聚于基底表面形成一干涉曝光图形，所述干涉头沿垂向做一维运动；一运动承载单元，用于提供所述基底至少三自由度运动；一测量单元，用于获得所述干涉头坐标系与所述运动承载单元坐标系的夹角，以便在对所述基底曝光之前依据所述测量单元的测量结果对所述运动承载单元的曝光位置进行调整。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103868456A
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：CN201210525294.0
申请日：2012-12-07
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 这种载物台平移测量装置，用于测量所述载物台沿第一轴的位移，包括干涉仪、第一轴测量单元、第二轴测量单元以及处理单元，第一轴测量单元包括棱镜和测量镜，棱镜具有入射面和出射面，测量镜安装于载物台的侧面，测量镜具有折射面和反射面，入射面和出射面的夹角与折射面和反射面之间的夹角相等且均大于0度，棱镜与测量镜的折射率相同，第二轴测量单元包括X轴反射镜，干涉仪中发出的第一测量光束，经过棱镜后以一定角度入射到测量镜的折射面，经过折射后正入射到测量镜的反射面后能够被原路返回；干涉仪发出的第二测量光束，经X轴反射镜反射后能够原路返回，处理单元获得载物台沿第一轴的位移。本发明具有结构简单，测量精度高的优点。
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公开(公告)号：CN102540783A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201010619281.0
申请日：2010-12-31
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 一种光刻机干涉仪阿贝余弦误差自动校准装置，包括照明光源、设置有物面标记的掩模台、物镜成像系统、工件台以及配置于所述工件台的干涉仪，其特征在于还包括设置在所述工件台上的空间像传感器，通过工件台在不同旋转、倾斜下，所述空间像传感器能够探测所述物面标记空间像时所述干涉仪的测量结果与所述工件台的设定位置或所述物面标记空间像的理论位置进行比较，拟合得出工件台干涉仪阿贝臂与余弦角。本发明还提出一种光刻机干涉仪阿贝余弦误差自动校准方法。本发明的光刻机干涉仪阿贝余弦误差自动校准装置及方法，利用空间像传感器进行标记测量，从而不需进行曝光、显影，对干涉仪阿贝臂和余弦角进行标定。同时还能够解决垂向干涉仪的标定问题。
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公开(公告)号：CN102540738A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201010592293.9
申请日：2010-12-16
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 发明提供一种光束间不平行角度的补偿方法，该方法应用于光刻机系统，该光刻机系统包括基底台、第一方向干涉仪和与该第一方向垂直的第二方向干涉仪，包括：该基底台沿着该第一方向步进，由该第一、第二方向干涉仪同步测量，得到该第一方向干涉仪光束间不平行角度；该基底台沿着该第二方向步进，由该第一、第二方向干涉仪同步测量，得到该第二方向干涉仪光束间不平行角度；分别补偿该第一方向干涉仪和该第二方向干涉仪光束间不平行角度。本发明通过补偿干涉仪光束间的不平行角度，得到正确的长条镜面形，进而对测量位置进行面形补偿，提高基底台控位准确性，提高光刻机系统的精度。
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公开(公告)号：CN106569391A
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201510647145.5
申请日：2015-10-08
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种极紫外光产生、收集系统及方法，所述系统包括Sn滴装置，在轰击平面上沿圆形路径或水平直线产生Sn滴；光源产生单元，在轰击平面上产生与所述Sn滴做同步运动的脉冲激光，轰击所述Sn滴；反射镜收集单元，用于收集所述Sn滴被轰击后产生的极紫外光并进行汇聚反射；二次反射单元，接收所述反射镜收集单元反射的极紫外光，并将所述极紫外光进行二次汇聚反射到同一焦点上；以及同步控制单元，用于对所述光源产生单元、Sn滴装置以及二次反射单元进行同步协调控制。本发明在水平方向增加Sn滴的数量，提高了LPP光源的功率，且保证了脉冲EUV光的稳定性。
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公开(公告)号：CN103969956B
公开(公告)日：2017-02-08
申请号：CN201310029962.5
申请日：2013-01-25
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种曝光装置，其用于将电路图形投影于基底上，所述曝光装置包括照明模块，提供照明光；成像模块，包括至少一个第一光开关及至少两个成像单元，其中，所述第一光开关与所述成像单元的数量比为1:2，一个所述第一光开关与两个所述成像单元相对应，所述第一光开关能够在开启与关闭两个状态之间切换，所述第一光开关将所述照明光分别在所述第一光开启与关闭两个状态下输出，所述至少两个成像单元分别接收从所述第一光开关处输出的照明光，并将曝光图形成像于所述基底上；以及工件台，所述基底置于所述工件台上，本发明提供的曝光装置节省了现有技术的曝光装置所需损耗的能量，增加了其曝光的效率，并有效降低了其曝光图形的模糊度。
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