-
公开(公告)号：CN106935492A
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201511025829.8
申请日：2015-12-30
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: H01L21/268 , H01L21/324
Abstract: 本发明涉及一种激光退火装置，包括载片台、第一能量探测器、第二能量探测器、第三能量探测器、空间光调制器、能量吸收单元、系统控制器以及与所述系统控制器分别相连的载片台控制器、反射率测量单元、能量调制退火单元；载片台控制器与载片台相连并控制载片台运动，反射率测量单元发出的激光一部分进入第一能量探测器，另一部分入射至晶圆表面，经晶圆表面反射后入射至第二能量探测器，根据第一能量探测器与第二能量探测器的数值得到晶圆反射率；能量调制退火单元发出的激光一部分进入第三能量探测器，另一部分经空间光调制器入射至晶圆表面，经晶圆表面反射后入射至能量吸收单元；上述所得晶圆反射率的值输入空间光调制器的输入端。
-
公开(公告)号：CN103868456B
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201210525294.0
申请日：2012-12-07
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 这种载物台平移测量装置，用于测量所述载物台沿第一轴的位移，包括干涉仪、第一轴测量单元、第二轴测量单元以及处理单元，第一轴测量单元包括棱镜和测量镜，棱镜具有入射面和出射面，测量镜安装于载物台的侧面，测量镜具有折射面和反射面，入射面和出射面的夹角与折射面和反射面之间的夹角相等且均大于0度，棱镜与测量镜的折射率相同，第二轴测量单元包括X轴反射镜，干涉仪中发出的第一测量光束，经过棱镜后以一定角度入射到测量镜的折射面，经过折射后正入射到测量镜的反射面后能够被原路返回；干涉仪发出的第二测量光束，经X轴反射镜反射后能够原路返回，处理单元获得载物台沿第一轴的位移。本发明具有结构简单，测量精度高的优点。
-
公开(公告)号：CN104345579A
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201310347788.9
申请日：2013-08-09
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种无掩模曝光设备及其设备信号回馈控制方法，所述无掩膜曝光设备包括：曝光光照装置，用于提供曝光束；空间光调制器，根据曝光图案调整曝光束，并将非用于曝光的光束排斥掉；信号回馈控制装置，采集所述空间光调制器排斥掉的非用于曝光的光束，经计算后，用于控制所述空间光调制器。本发明通过探测器的设置，采集和探测了未被空间光调制器投射到曝光对象上的曝光束，进而能够据此对空间光调制器投射的曝光图案进行监控和反馈，一方面充分利用了这部分能量，不至于浪费，另一方面使得曝光图案的正确性得到了保证，有利于最后的成像质量。解决了如何实现在曝光过程中对空间光调制器投射的曝光图案进行监控和反馈的技术问题。
-
公开(公告)号：CN102200785A
公开(公告)日：2011-09-28
申请号：CN201010133808.9
申请日：2010-03-26
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G05D3/12
Abstract: 本发明公开了一种基于FPGA的孔径光阑控制装置，用于将孔径光阑调整至目标位置，其包括：孔径光阑；驱动电机，连接所述孔径光阑，其用于改变所述孔径光阑的位置；传感器，连接所述孔径光阑，其传感所述孔径光阑的当前位置信息以得到当前位置模拟信号；模数转换器，连接所述传感器，其将所述当前位置模拟信号转换成当前位置数字信号；目标位置设定模块，用于设定所述孔径光阑的目标位置信息并得到目标位置数字信号；FPGA，连接所述模数转换器和所述目标位置设定模块，其根据所述目标位置数字信号和所述当前位置数字信号的差值通过PID算法得到数字控制信号；数模转换器，连接所述FPGA，其将所述数字控制信号转换成模拟控制信号，并输出所述模拟控制信号给所述驱动电机。
-
公开(公告)号：CN107024274A
公开(公告)日：2017-08-08
申请号：CN201610067096.2
申请日：2016-01-29
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G01J4/00
CPC classification number: G01J4/00
Abstract: 本发明提供一种适用于光配向设备的检偏方法，将进行对消光比和偏振方向进行初次检测后，进行复检，在初次检测的偏振方向旋转45°，在其附近进行滑动窗口取值，并进行曲线拟合，直至找出随着角度的变化，光强相对于角度的斜率变化最大的角度，再补偿45°后即为精确的偏振方向。这种检测方法，在进行初次检测后，就无需再寻找多个采样点进行反复试验，而是使用计算机曲线拟合的方式，简化了测量方法，同时进行滑动窗口取值，在每个窗口的中心点进行斜率计算，找出斜率变化最大的点所对应的角度，这种滑动窗口取值能够提升测量精度，弱化了噪声的干扰对测量的影响。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105700296A
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201410693199.0
申请日：2014-11-26
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种硅片表面高度和倾斜度检测装置及方法，该检测装置从探测光线路径看包括依次排列的光源、准直扩束镜、狭缝阵列、角度调节单元、第一透镜、待测硅片、第二透镜、探测器和信号处理单元，还包括位于所述直扩束镜和所述狭缝阵列间的偏振调制单元、位于所述第二透镜和所述探测器之间的多色光分离单元，探测器由若干个探测单元组成。本发明通过增加多色光分离单元，将宽波段的反射光分离成多个独立的波段，通过相应的探测单元对每个波段进行单独探测，并对各波段的探测信息进行综合处理，以更好的消除硅片底层图案的影响，得到更准确的硅片表面位置信息，同时使用宽波段光源提高了光源能量的利用率和检测装置对不同硅片的工艺适用性。
-
公开(公告)号：CN105372256A
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201410411988.0
申请日：2014-08-20
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G01N21/94
Abstract: 本发明提供了一种表面检测系统，包括载物台、光源、探测单元和回收单元，所述回收单元用于收集待检测物表面的镜面反射光，并将所述镜面反射光再次投射至所述待检测物表面。本发明还提供了一种表面检测方法，采用此方法进行缺陷检测时，经待检测物表面反射的光得以再次利用，提高了光能利用率的同时，对待检测物表面的再次投射也能提高检测的灵敏度。
-
公开(公告)号：CN103868456A
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：CN201210525294.0
申请日：2012-12-07
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 这种载物台平移测量装置，用于测量所述载物台沿第一轴的位移，包括干涉仪、第一轴测量单元、第二轴测量单元以及处理单元，第一轴测量单元包括棱镜和测量镜，棱镜具有入射面和出射面，测量镜安装于载物台的侧面，测量镜具有折射面和反射面，入射面和出射面的夹角与折射面和反射面之间的夹角相等且均大于0度，棱镜与测量镜的折射率相同，第二轴测量单元包括X轴反射镜，干涉仪中发出的第一测量光束，经过棱镜后以一定角度入射到测量镜的折射面，经过折射后正入射到测量镜的反射面后能够被原路返回；干涉仪发出的第二测量光束，经X轴反射镜反射后能够原路返回，处理单元获得载物台沿第一轴的位移。本发明具有结构简单，测量精度高的优点。
-
公开(公告)号：CN101566801B
公开(公告)日：2011-11-30
申请号：CN200910052185.X
申请日：2009-05-27
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种防止镜片碰撞的方法及装置，通过判断镜片的运动方向，合理安排镜片的运动顺序，从而达到防止镜片发生碰撞的效果。另外，所述防止镜片碰撞的装置还可增设探测模块来加以保障，结构简单可靠，不需要严格的机械安装条件的限制，并且不会出现误判的情况，即使在断电装调过程中也不会出现误操作导致可动镜片损毁，同时能够降低维护和修理成本。
-
公开(公告)号：CN101308332A
公开(公告)日：2008-11-19
申请号：CN200810039958.6
申请日：2008-07-01
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种控制光刻曝光剂量的方法及其系统。本发明所提供的控制光刻曝光剂量的方法是利用多个脉冲的平均波动性低于曝光精度要求的特性，通过选择曝光的激光脉冲的个数来控制光刻曝光剂量精度，并进一步决定衰减率，最后进行曝光。使用该方法的控制光刻曝光剂量的系统主要包括激光器、衰减器、控制器以及能量传感器，系统具有结构相对简单的优点，并且结合其控制光刻曝光剂量的方法使用能大大提高光刻曝光剂量精度。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
29
records
(took 0.03 seconds)
