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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102314074B
公开(公告)日：2013-04-10
申请号：CN201010216555.1
申请日：2010-06-30
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 一种掩模版和一种掩模版制作方法，其中，所述掩模版包括：基底；位于所述基底一侧的具有不同厚度的多个掩模部件，所述掩模部件表面具有掩模标记，所述掩模标记设置于所述掩模部件在曝光过程中光线出射一侧的表面；覆盖于所述基底的具有多种透光率的滤光膜。本发明通过使每一个包含掩模标记的掩模部件对应于多种透光率，从而在单次曝光时，能够获得对应于不同物距、不同光强的多个掩模标记的像图案，减少了反复曝光的次数，提高了生产效率。
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公开(公告)号：CN101477315B
公开(公告)日：2010-10-20
申请号：CN200910045594.7
申请日：2009-01-20
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Inventor： 江传亮
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种掩模台扫描倾斜的测量方法及装置，所述方法包括：1、在掩模台上放置一测试掩模，其上具有多列对准标记；2、移动掩模台，使测试掩模上的一列对准标记位于曝光光源系统的视场中心；3、开启曝光光源，使多个对准标记成像于投影物镜下方；4、水平及垂向移动像传感器系统，对一列对准标记的空间像进行扫描，以获取对准标记空间像垂向位置相对于投影物镜像方焦面的高度差Zf；5、将Zf转化为对准标记垂向位置相对于投影物镜物方焦面的高度差Zi；6、重复执行步骤2至5，以获取对应于不同列的对准标记的Zi，并根据掩模台的扫描倾斜偏差与Zi之间的关系，建立多个相应的扫描倾斜偏差模型；7、根据多个模型计算出掩模台的扫描倾斜偏差。
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公开(公告)号：CN102314074A
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN201010216555.1
申请日：2010-06-30
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 一种掩模版和一种掩模版制作方法，其中，所述掩模版包括：基底；位于所述基底一侧的具有不同厚度的多个掩模部件，所述掩模部件表面具有掩模标记，所述掩模标记设置于所述掩模部件在曝光过程中光线出射一侧的表面；覆盖于所述基底的具有多种透光率的滤光膜。本发明通过使每一个包含掩模标记的掩模部件对应于多种透光率，从而在单次曝光时，能够获得对应于不同物距、不同光强的多个掩模标记的像图案，减少了反复曝光的次数，提高了生产效率。
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公开(公告)号：CN101477315A
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200910045594.7
申请日：2009-01-20
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Inventor： 江传亮
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种掩模台扫描倾斜的测量方法及装置，所述方法包括：1.在掩模台上放置一测试掩模，其上具有多列对准标记；2.移动掩模台，使测试掩模上的一列对准标记位于曝光光源系统的视场中心；3.开启曝光光源，使多个对准标记成像于投影物镜下方；4.水平及垂向移动像传感器系统，对一列对准标记的空间像进行扫描，以获取对准标记空间像垂向位置相对于投影物镜像方焦面的高度差Zf；5.将Zf转化为对准标记垂向位置相对于投影物镜物方焦面的高度差Zi；6.重复执行步骤2至5，以获取对应于不同列的对准标记的Zi，并根据掩模台的扫描倾斜偏差与Zi之间的关系，建立多个相应的扫描倾斜偏差模型；7.根据多个模型计算出掩模台的扫描倾斜偏差。
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公开(公告)号：CN105319858A
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201410366680.9
申请日：2014-07-29
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出了一种照明测试装置和照明均匀性、杂散光的测试方法，增加专用探测光路用于进行能量探测，解决了像面空间采样频率不足的问题，且可以同时实现对小视场照明均匀性和杂散光的高精度测量；试时间较传统的运动台带动点能量传感器的方案更短；对于杂散光可进行实时监控，无需加载掩模。
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