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公开(公告)号：CN106933047A
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201511025817.5
申请日：2015-12-30
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70425
Abstract: 本发明提供一种曝光方法，在掩膜版上的图形区域布置若干掩膜对准标记，在基底台上对应设置若干个掩模对准传感器，将掩膜版用栅格形式描述得到每个掩膜栅格的形变量，同样在基底上布置若干个基底对准标记，同时在整机框架上对应设置若干个基底对准传感器，用栅格形式描述得到每个基底栅格的形变量，控制系统根据每个基底栅格的形变量和其对应的掩膜栅格形变量计算得到投影物镜和/或基底台的用于补偿形变的运动轨迹，在经过仿真平台验证该运动轨迹的准确性后，进行曝光，并在曝光时根据验证过准确性的运动轨迹移动基底台和投影物镜，以减少曝光误差，这样能够显著减小曝光误差，提高曝光精准度。
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公开(公告)号：CN106159112A
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201510133861.1
申请日：2015-03-26
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: H01L51/56
Abstract: 本发明提供一种激光封装设备，包括：光源，用于产生封装用激光光束；光纤，用于传输所述激光光束；光强控制装置，用于调节进入所述光学成像模块的光强大小；光学成像模块，用于产生理想光强分布且具有远心特性的光斑；光路输运模块，包括至少一个光路输运单元，通过光斑辐射加热玻璃粉使待封装单元键合；基底承载台，用于承载待封装单元；所述光路输运单元包括：相位延迟为1/2波长的相位调制器，偏振分束棱镜，相位延迟为1/4波长的相位调制器和0度全反射镜；光源输出的激光，经过光纤入射到光强控制装置，经过光学成像模块，光路输运模块照射至玻璃粉上。
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公开(公告)号：CN102736431B
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：CN201110087433.1
申请日：2011-04-08
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种测量运动台运动精度的测量装置，包括沿光传播方向依次设置的照明系统、用于放置测试掩模板的掩模台、投影物镜、用于放置测试硅片的工件台、多数测试标记和套刻标记曝光控制结构，多数测试标记呈矩阵分布在测试掩模板，每个测试标记具有同心设置的第一套刻标记和第二套刻标记，套刻标记曝光控制结构设置于测试掩模板和照明系统之间，使得测试掩模板上的第一套刻标记和第二套刻标记经投影物镜依序曝光到测试硅片上形成两层套刻标记图形，依据两层套刻标记图形的套刻误差测算出运动台的运动精度。同时还公开一种测量运动台运动精度的测量方法。该测量装置及测量方法消除了多种测量误差影响因数，可以更加准确测量和评估运动台的运动精度。
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公开(公告)号：CN103365107B
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：CN201210104003.0
申请日：2012-04-11
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明公开一种多离轴对准系统匹配测校方法，其特征在于，包括以下步骤：（a）执行离线测量，分别获取该多离轴对准系统中的各对准子系统的参考位置，该对准子系统包括基准离轴对准系统和非基准离轴对准系统；（b）分别利用该对准子系统对准标准基板上的对准标记，并获取该标准基板上对准标记在工件台坐标系下的位置；（c）根据该工件台坐标系下的位置，计算标准基板相对于工件台的位置关系以及该位置关系的偏差值；（d）执行正常在线对准流程，分别用该对准子系统对准基板上的标记，并获取标记的在线对准位置；（e）根据该偏差值和该参考位置，将非基准离轴对准系统获取的在线对准位置转换为基准离轴对准系统的在线对准位置，完成在线补偿。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN103529650A
公开(公告)日：2014-01-22
申请号：CN201210222725.6
申请日：2012-07-02
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 一种高度测量装置及其测量方法，光源产生线偏振光，经过偏振分光器分为第一偏振光和第二偏振光；第二偏振光倾斜入射到被测物体表面形成偏振反射光，第一偏振光、偏振反射光分别通过第一、二四分之一波片入射到第一、二反射镜并沿原路返回，经过偏振分光器分别形成第一偏振出射光、第二偏振出射光；偏振反射光先后通过第一分束器和第二分束器分别形成第一光斑和第二光斑，根据第一光斑和第二光斑的位置信息计算被测物体表面的倾斜量；光束接收器接收第一偏振出射光和第二偏振出射光，获得被测物体运动产生的光程差；根据光程差计算出被测物体高度。本发明测量精度高，对硅片工艺衬底适应性强可用于表面形貌高低起伏变化的表面高度测量。
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公开(公告)号：CN101533231B
公开(公告)日：2011-09-28
申请号：CN200910048641.3
申请日：2009-03-31
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提供一种离轴对准系统，用于光刻装置确定硅片与工件台的位置关系。离轴对准系统包括：沿X向和Y向放置激光干涉仪，测量离轴光轴和工件台的位置；零位传感器，放置在工件台最大运动范围的边缘，提供激光干涉仪初始化信号；离轴光学系统和其侧面的两个离轴反射面，与X、Y向分别垂直；以及工件台侧面两个工件台反射面，与X、Y轴分别垂直，所述离轴反射面和所述工件台反射面用来反射所述激光干涉仪发出的测量光束。本发明提供的离轴对准系统中加入激光干涉仪，能够实时检测离轴对准系统中离轴光轴的偏移，保证了硅片对准的精度。
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公开(公告)号：CN101487991B
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：CN200910047027.5
申请日：2009-03-04
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明提供一种硅片对准系统，所述硅片对准系统包括照明光源系统、对准成像单元、采样模块以及硅片运动控制单元，所述照明光源系统为对准成像单元提供照明光源；所述对准成像单元为硅片对准提供准直的对准光束，并采集在所述硅片表面上反射形成的各级反射光强信号给所述采样模块；所述采样模块将各级反射光强信号转换为电信号，并进行处理得出硅片的位置信号；所述硅片运动控制单元用以控制硅片标记在对准光束下进行扫描运动，所述照明光源系统提供的照明光源为单波长的激光。本发明的硅片对准系统采用半导体激光器发射单波长光，降低了硅片对准系统的设计难度，也减小了激光器自身尺寸和重量，从而降低了光学模块设计的难度。
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