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公开(公告)号：CN1089356C
公开(公告)日：2002-08-21
申请号：CN96193045.4
申请日：1996-03-27
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: C09J163/00 , C09J7/02 , B32B7/12
CPC classification number: B32B15/08 , B32B7/12 , C08L2666/02 , C09J163/00 , H05K3/386 , Y10S525/93 , Y10T428/31511 , Y10T428/31529
Abstract: 一种粘合剂，所述粘合剂系由(1)重均分子量为5，000以下的环氧树脂及其固化剂100重量份、(2)具有与环氧树脂为相溶性、且其重均分子量为30.000以上的高分子量成分10～40重量份、(3)与环氧树脂为非相溶性的、且其重均分子量为30.000以上的高分子量成分20～100重量份及(4)固化促进剂0.1～5重量份组成。所述粘合剂具有优异的耐湿性、耐热性、高温下的粘接强度、散热性、电绝缘可靠性、抗龟裂性及抗挠曲性。本发明的粘合剂也具有优异的线路填充性能、密接性，具有适当的流动性。
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公开(公告)号：CN1235699A
公开(公告)日：1999-11-17
申请号：CN97199379.3
申请日：1997-11-04
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: H01L21/60
CPC classification number: H05K1/0271 , H01L21/563 , H01L23/145 , H01L23/5383 , H01L2224/16225 , H01L2224/2929 , H01L2224/293 , H01L2224/32225 , H01L2224/45144 , H01L2224/73203 , H01L2224/73204 , H01L2224/83851 , H01L2924/01046 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/01087 , H01L2924/07811 , H01L2924/1301 , H01L2924/13034 , H05K3/323 , H05K3/4626 , H05K3/4652 , H05K3/4655 , H05K2201/0133 , H05K2201/068 , H05K2201/10674 , H01L2924/00 , H01L2924/00014
Abstract: 在把半导体芯片10装配到装配基板20上的装置中,对玻璃环氧树脂两面贴铜层压板21的表面,施行电路加工32和内层粘接处理,接着,把带铜箔的环氧树脂粘接膜冲压叠层粘接到上述内层电路表面上,在它上面开贯通孔,施行无电解镀铜,用去掉(subtract)法进行的外层电路加工31和33,及涂敷焊锡,得到装配基板20。用粘接剂膜40把半导体芯片的突出电极11和装配基板连接起来。
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公开(公告)号：CN1180368A
公开(公告)日：1998-04-29
申请号：CN96193045.4
申请日：1996-03-27
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: C09J163/00 , C09J7/02 , B32B7/12
CPC classification number: B32B15/08 , B32B7/12 , C08L2666/02 , C09J163/00 , H05K3/386 , Y10S525/93 , Y10T428/31511 , Y10T428/31529
Abstract: 一种粘合剂,所述粘合剂系由(1)重均分子量为5,000以下的环氧树脂及其固化剂100重量份、(2)具有与环氧树脂为相溶性、且其重均分子量为30.000以上的高分子量成分10～40重量份、(3)与环氧树脂为非相溶性的、且其重均分子量为30.000以上的高分子量成分20～100重量份及(4)固化促进剂0.1～5重量份组成。所述粘合剂具有优异的耐湿性、耐热性、高温下的粘接强度、散热性、电绝缘可靠性、抗龟裂性及抗挠曲性。本发明的粘合剂也具有优异的线路填充性能、密接性,具有适当的流动性。
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公开(公告)号：CN102498238B
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN201080041044.9
申请日：2010-09-13
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: B22F9/26 , B22F1/02 , B22F9/22 , B22F9/24 , B22F2201/01 , B22F2301/10 , B22F2302/25 , B22F2999/00 , B32B15/01 , C22C5/04 , C22C9/00 , H01B1/026 , H05K1/097 , H05K3/105 , H05K3/1283 , H05K2201/0224 , H05K2201/0272 , H05K2203/0315 , H05K2203/1131 , H05K2203/1157 , Y10T156/10 , Y10T428/12903 , B22F2201/013 , B22F2202/13
Abstract: 本发明提供基板粘附性、低体积电阻率、深部金属性优良的金属铜膜、及能够在不损伤基板的情况下还原至深部来制造该金属铜膜的金属铜膜的制造方法。该金属铜膜的特征在于，其是通过将铜系粒子堆积层用加热到120℃以上的气体状的甲酸和/或甲醛进行处理而形成的，所述铜系粒子堆积层同时含有铜氧化物、和金属状的过渡金属或合金或者包含金属元素的过渡金属配合物。作为所述铜氧化物，优选为氧化亚铜和/或氧化铜；作为所述过渡金属、合金、或金属配合物，分别优选为选自由Cu、Pd、Pt、Ni、Ag、Au及Rh组成的组中的金属、或包含该金属的合金、或包含该金属元素的配合物。
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公开(公告)号：CN101416103B
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN200780012417.8
申请日：2007-03-28
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: G02F1/1339
CPC classification number: G02F1/13394 , G02F2001/13398
Abstract: 本发明目的在于提供能够将通过喷墨印刷法形成的液晶间隔物的点的直径充分地小径化的液晶间隔物形成用油墨，提供25℃下的表面张力为28mN/m以上、且25℃下的粘度为50mPa·s以下的液晶间隔物形成用油墨。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102498238A
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN201080041044.9
申请日：2010-09-13
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: B22F9/26 , B22F1/02 , B22F9/22 , B22F9/24 , B22F2201/01 , B22F2301/10 , B22F2302/25 , B22F2999/00 , B32B15/01 , C22C5/04 , C22C9/00 , H01B1/026 , H05K1/097 , H05K3/105 , H05K3/1283 , H05K2201/0224 , H05K2201/0272 , H05K2203/0315 , H05K2203/1131 , H05K2203/1157 , Y10T156/10 , Y10T428/12903 , B22F2201/013 , B22F2202/13
Abstract: 本发明提供基板粘附性、低体积电阻率、深部金属性优良的金属铜膜、及能够在不损伤基板的情况下还原至深部来制造该金属铜膜的金属铜膜的制造方法。该金属铜膜的特征在于，其是通过将铜系粒子堆积层用加热到120℃以上的气体状的甲酸和/或甲醛进行处理而形成的，所述铜系粒子堆积层同时含有铜氧化物、和金属状的过渡金属或合金或者包含金属元素的过渡金属配合物。作为所述铜氧化物，优选为氧化亚铜和/或氧化铜；作为所述过渡金属、合金、或金属配合物，分别优选为选自由Cu、Pd、Pt、Ni、Ag、Au及Rh组成的组中的金属、或包含该金属的合金、或包含该金属元素的配合物。
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公开(公告)号：CN101836268A
公开(公告)日：2010-09-15
申请号：CN200880112547.3
申请日：2008-10-20
Applicant: 日立化成工业株式会社
IPC: H01B13/00 , H01B1/00 , H01B1/22 , H01L21/28 , H01L21/288 , H01L21/3205 , H01L23/52 , H05K3/10
CPC classification number: H05K3/102 , H01B1/026 , H01B1/22 , H01L21/4867 , H01L23/49866 , H01L2924/0002 , H01L2924/09701 , H05K3/105 , H05K2203/0315 , H05K2203/1131 , H05K2203/1157 , Y10T428/12181 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种低电阻的铜配线图案形成方法以及用于其中的氧化铜粒子分散液，其在几乎不使用铜粒子的耐氧化、分散所必须的表面处理剂的情况下，使用电迁移少、材料自身的单价便宜的铜粒子，能够抑制断裂发生。该铜配线图案形成方法的特征在于，其包含下述工序：使用分散有铜系粒子的分散液在基板上形成任意图案的工序，所述铜系粒子具有氧化铜表面；以及利用原子状氢将所述图案中的铜系粒子表面的氧化铜还原成铜，并使还原而生成的铜金属粒子彼此烧结在一起的工序。
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公开(公告)号：CN1212657C
公开(公告)日：2005-07-27
申请号：CN02157498.7
申请日：1997-11-04
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: H05K1/0271 , H01L21/563 , H01L23/145 , H01L23/5383 , H01L2224/16225 , H01L2224/2929 , H01L2224/293 , H01L2224/32225 , H01L2224/45144 , H01L2224/73203 , H01L2224/73204 , H01L2224/83851 , H01L2924/01046 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/01087 , H01L2924/07811 , H01L2924/1301 , H01L2924/13034 , H05K3/323 , H05K3/4626 , H05K3/4652 , H05K3/4655 , H05K2201/0133 , H05K2201/068 , H05K2201/10674 , H01L2924/00 , H01L2924/00014
Abstract: 在把半导体芯片10装配到装配基板20上的装置中，对玻璃环氧树脂两面贴铜层压板21的表面，施行电路加工32和内层粘接处理，接着，把带铜箔的环氧树脂粘接膜冲压叠层粘接到上述内层电路表面上，在它上面开贯通孔，施行无电解镀铜，用去掉(subtract)法进行的外层电路加工31和33，及涂敷焊锡，得到装配基板20。用粘接剂膜40把半导体芯片的突出电极11和装配基板连接起来。其中在与粘接后的阶段相当的硬化后的40℃下，粘接剂的存储弹性模量为100～4000MPa。
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公开(公告)号：CN1551315A
公开(公告)日：2004-12-01
申请号：CN200410062123.4
申请日：1997-10-08
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: H01L23/49827 , C09J163/00 , H01L23/13 , H01L23/3128 , H01L23/49816 , H01L24/29 , H01L24/32 , H01L24/45 , H01L24/48 , H01L24/50 , H01L24/73 , H01L24/83 , H01L2224/2919 , H01L2224/32225 , H01L2224/45124 , H01L2224/45144 , H01L2224/48091 , H01L2224/48227 , H01L2224/73265 , H01L2224/83101 , H01L2224/83192 , H01L2224/83856 , H01L2224/92247 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/01012 , H01L2924/01013 , H01L2924/01014 , H01L2924/01015 , H01L2924/01019 , H01L2924/0102 , H01L2924/01023 , H01L2924/01027 , H01L2924/01029 , H01L2924/01033 , H01L2924/01039 , H01L2924/01045 , H01L2924/01047 , H01L2924/0105 , H01L2924/01051 , H01L2924/01077 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/01082 , H01L2924/01087 , H01L2924/014 , H01L2924/0665 , H01L2924/07802 , H01L2924/10253 , H01L2924/12041 , H01L2924/12044 , H01L2924/15159 , H01L2924/15184 , H01L2924/15311 , H01L2924/15787 , H01L2924/181 , H01L2924/351 , Y10T428/28 , Y10T428/2848 , Y10T428/2852 , Y10T428/287 , Y10T428/31511 , Y10T428/31515 , H01L2924/00014 , H01L2924/00 , H01L2924/3512 , H01L2924/00012
Abstract: 本发明以提高半导体装置装配后的耐温度循环性，同时提高耐吸湿回流性为目的，提供一种粘合剂、使用该粘合剂的双面粘合膜和半导体装置，所说的粘合剂是在把半导体芯片装载到有机系支持基板上时使用的粘合剂，其用动态粘弹性测定装置测定的25℃的储存弹性模量为10～2000MPa且在260℃时的储存弹性模量为3～50MPa。
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公开(公告)号：CN1441473A
公开(公告)日：2003-09-10
申请号：CN02157498.7
申请日：1997-11-04
Applicant: 日立化成工业株式会社
CPC classification number: H05K1/0271 , H01L21/563 , H01L23/145 , H01L23/5383 , H01L2224/16225 , H01L2224/2929 , H01L2224/293 , H01L2224/32225 , H01L2224/45144 , H01L2224/73203 , H01L2224/73204 , H01L2224/83851 , H01L2924/01046 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/01087 , H01L2924/07811 , H01L2924/1301 , H01L2924/13034 , H05K3/323 , H05K3/4626 , H05K3/4652 , H05K3/4655 , H05K2201/0133 , H05K2201/068 , H05K2201/10674 , H01L2924/00 , H01L2924/00014
Abstract: 在把半导体芯片10装配到装配基板20上的装置中，对玻璃环氧树脂两面贴铜层压板21的表面，施行电路加工32和内层粘接处理，接着，把带铜箔的环氧树脂粘接膜冲压叠层粘接到上述内层电路表面上，在它上面开贯通孔，施行无电解镀铜，用去掉(subtract)法进行的外层电路加工31和33，及涂敷焊锡，得到装配基板20。用粘接剂膜40把半导体芯片的突出电极11和装配基板连接起来。其中在与粘接后的阶段相当的硬化后的40℃下，粘接剂的存储弹性模量为100～4000MPa。
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