新化合物及其制备
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1129000A

    公开(公告)日:1996-08-14

    申请号:CN94193046.7

    申请日:1994-06-28

    CPC classification number: C07K5/0808 A61K38/00 C07K5/0207 C07K5/0827 Y02P20/55

    Abstract: 用作内皮素拮抗剂的式(1)化合物或其可药用盐,其中R4为酰基;R5为低级烷基;R6为任选取代的芳(低级)烷基或任选取代的杂环基(低级)烷基;R7为低级烷基或低级烷硫基(低级)烷基;R8为羧基或被保护的羧基;A为低级亚烷基;Z为式(2)基团,其中R1为氢、低级烷基、常见的氨基保护基或任选取代的芳(低级)烷基;R2为氢、低级烷基、任选取代的芳(低级)烷基、任选取代的杂环基(低级)烷基、任选取代的环(低级)烷基(低级)烷基、常见的氨基保护基、氨基(或被保护的氨基)(低级)烷基、任选取代的杂环基羰基或环(低级)烷基;和R3为任选取代的杂环基(低级)烷基,并且m为整数0-2。

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