公开(公告)号：CN1030411A

公开(公告)日：1989-01-18

申请号：CN88103878

申请日：1988-06-21

Applicant: 藤泽药品工业株式会社

Inventor： 逸见惠次 ,  正博 ,  丸泽宏 ,  今井啟祐 ,  茅切奈津子 ,  桥本真志

IPC: C07D233/64

CPC classification number: C07D233/64 ,  C07D295/205 ,  Y02P20/55 ,  Y10S530/86

Abstract: 制备下式化合物和其盐的方法：式中R1是任意由选自酰基，羟基，低级烷氧基，芳基，低能烷硫基和式基(其中R5是氢或酰基和R6是氢或低级烷基)取代的低级烷基，芳基或任意由低级烷基和酰基取代的氨基，R2是氢或低级烷基，或R1和R2与相连接的氮原子一起组成一个任意由低级烷基，羟(低级)烷基，低级烷氧基(低级)烷基，酰基(低级)烷基，氧和酰基取代的杂环基，R3是氢或低级烷基，R4是低级烷基。