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公开(公告)号：CN116964438B
公开(公告)日：2024-10-25
申请号：CN202180095179.1
申请日：2021-06-29
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： A·玛纳森 , A·V·希尔 , Y·瓦克宁 , Y·西蒙 , D·内格里 , V·莱温斯基 , Y·帕斯卡维尔 , A·戈洛塔斯万 , N·罗斯曼 , N·K·雷迪 , N·本大卫 , A·阿布拉莫夫 , D·雅科夫 , Y·于齐耶尔 , N·古特曼
IPC: G01N21/956 , G03F7/00 , H01L21/66 , G01N21/88 , G01N21/95
Abstract: 一种用于计量的方法包含引导至少一个照明射束照明半导体晶片，在所述半导体晶片上已相继沉积了至少第一经图案化层及第二经图案化层，包含所述第一经图案化层中的第一目标特征及所述第二经图案化层中的重叠在所述第一目标特征上的第二目标特征。在使一或多个成像参数变化的同时捕获所述第一目标特征及所述第二目标特征的一序列的图像，此变化是在整个所述序列期间发生。处理所述序列中的所述图像，以便识别所述图像中所述第一目标特征及所述第二目标特征的相应对称中心且测量所述对称中心随变化的图像参数的变化。在测量所述第一经图案化层与所述第二经图案化层之间的重叠误差时应用经测量变化。
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公开(公告)号：CN117980692A
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202380013730.2
申请日：2023-02-07
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本公开涉及一种叠加计量系统，其可包含：照明源，其经配置以产生一或多对相互相干照明光束；及照明光学器件，其用以将所述照明光束对以共同高度入射角及对称相对方位入射角引导到叠加目标，其中所述叠加目标包含沿着一或多个测量方向分布的两个或更多个光栅结构。所述系统可进一步包含用以在实施计量配方时使所述叠加目标成像到检测器上的成像光学器件，其中所述两个或更多个光栅结构中的特定者的图像专门用来自所述照明光束对的特定者内的所述照明光束中的每一者的单个非零衍射级的光来产生。所述系统可进一步包含用以基于所述叠加目标的图像来确定叠加测量的控制器。
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公开(公告)号：CN116964438A
公开(公告)日：2023-10-27
申请号：CN202180095179.1
申请日：2021-06-29
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： A·玛纳森 , A·V·希尔 , Y·瓦克宁 , Y·西蒙 , D·内格里 , V·莱温斯基 , Y·帕斯卡维尔 , A·戈洛塔斯万 , N·罗斯曼 , N·K·雷迪 , N·本大卫 , A·阿布拉莫夫 , D·雅科夫 , Y·于齐耶尔 , N·古特曼
IPC: G01N21/956
Abstract: 一种用于计量的方法包含引导至少一个照明射束照明半导体晶片，在所述半导体晶片上已相继沉积了至少第一经图案化层及第二经图案化层，包含所述第一经图案化层中的第一目标特征及所述第二经图案化层中的重叠在所述第一目标特征上的第二目标特征。在使一或多个成像参数变化的同时捕获所述第一目标特征及所述第二目标特征的一序列的图像，此变化是在整个所述序列期间发生。处理所述序列中的所述图像，以便识别所述图像中所述第一目标特征及所述第二目标特征的相应对称中心且测量所述对称中心随变化的图像参数的变化。在测量所述第一经图案化层与所述第二经图案化层之间的重叠误差时应用经测量变化。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119317877A
公开(公告)日：2025-01-14
申请号：CN202380042905.2
申请日：2023-11-07
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 一种叠加计量系统可包含物镜、用以照明叠加目标的照明光学器件，所述叠加目标包含在第一样本层上的具有第一节距的第一光栅及在第二样本层上的具有第二节距的第二光栅，其中所述第一样本层与所述第二样本层分离达大于所述物镜的景深的层分离距离。所述系统可进一步包含具有径向变化的散焦分布以补偿所述层分离距离使得所述第一光栅及所述第二光栅同时聚焦于检测器上的集光光学器件。
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公开(公告)号：CN117980693A
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202380013717.7
申请日：2023-02-22
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 一种叠对度量衡系统可包含：照明，用于产生照明光束的照明源；一或多个照明光学器件，其用于在沿着扫描方向相对于所述照明光束扫描样本时将所述照明光束引导到所述样本上的叠对目标，所述目标包含具有摩尔结构的一或多个单元。所述系统还可包含在光瞳平面的与来自所述摩尔结构的摩尔或重叠衍射阶相关联的位置处的两个光电检测器。所述系统可接着基于在扫描所述样本时由所述检测器捕获的时变干涉信号产生叠对测量。
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公开(公告)号：CN116897283A
公开(公告)日：2023-10-17
申请号：CN202280017626.6
申请日：2022-04-18
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G01N21/956
Abstract: 一种叠加计量系统可包含适合于测量样本上的叠加目标的叠加计量工具，所述叠加目标包含具有沿着一或多个测量方向分布的图案化特征的一或多个光栅结构。所述叠加计量工具可包含物镜及照明通路以用分布在一或多个照明分布当中的两个或更多个倾斜照明波瓣来照明所述叠加目标，使得对于所述测量方向中的每一者，所述叠加目标对由所述物镜收集的所述一或多个照明分布的衍射级排他地包含来自所述两个或更多个照明波瓣中的至少一者的0级衍射波瓣及单个一级衍射波瓣。所述叠加计量工具可进一步包含用以将所述样本成像的至少一个检测器以及用以基于所述图像来产生叠加测量的控制器。
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公开(公告)号：CN118339425A
公开(公告)日：2024-07-12
申请号：CN202380014759.2
申请日：2023-04-05
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 一种光学计量系统可包含用于特性化样本上的叠对目标的叠对计量工具，其中所述叠对目标包含在所述样本的第一组层中的第一方向周期性特征及在所述样本的第二组层中的第二方向周期性特征。所述叠对计量工具可使用第一照明光束及第二照明光束同时照明所述叠对目标且可进一步基于所述第一照明光束及所述第二照明光束通过所述叠对目标的衍射来产生所述叠对目标的图像，其中所述第一照明光束的衍射阶促成仅所述第一方向周期性特征的经解析图像形成，且其中所述第二照明光束的衍射阶促成仅所述第二方向周期性特征的经解析图像形成。所述系统可进一步基于所述图像产生沿着第一及第二测量方向的叠对测量。
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公开(公告)号：CN118311056A
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202410419802.X
申请日：2021-06-29
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： A·玛纳森 , A·V·希尔 , Y·瓦克宁 , Y·西蒙 , D·内格里 , V·莱温斯基 , Y·帕斯卡维尔 , A·戈洛塔斯万 , N·罗斯曼 , N·K·雷迪 , N·本大卫 , A·阿布拉莫夫 , D·雅科夫 , Y·于齐耶尔 , N·古特曼
IPC: G01N21/956 , H01L21/66 , G01N21/88 , G01N21/95 , G03F7/00
Abstract: 本申请涉及增强重叠计量的性能。一种用于计量的方法包含引导至少一个照明射束照明半导体晶片，在所述半导体晶片上已相继沉积了至少第一经图案化层及第二经图案化层，包含所述第一经图案化层中的第一目标特征及所述第二经图案化层中的重叠在所述第一目标特征上的第二目标特征。在使一或多个成像参数变化的同时捕获所述第一目标特征及所述第二目标特征的一序列的图像，此变化是在整个所述序列期间发生。处理所述序列中的所述图像，以便识别所述图像中所述第一目标特征及所述第二目标特征的相应对称中心且测量所述对称中心随变化的图像参数的变化。在测量所述第一经图案化层与所述第二经图案化层之间的重叠误差时应用经测量变化。
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