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公开(公告)号:CN116917715A
公开(公告)日:2023-10-20
申请号:CN202280018258.7
申请日:2022-02-25
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor: A·玛纳森 , I·萨利布 , R·约哈南 , D·沙皮罗乌 , E·哈贾 , V·莱温斯基 , A·阿布拉莫夫 , M·申迪思 , A·希尔德斯海姆 , Y·格劳尔 , S·艾森巴赫 , E·拉维特 , I·尼尔
IPC: G01N21/35
Abstract: 一种光学计量工具可包含:一或多个照射源,其用以产生既具有短波红外线(SWIR)光谱范围内又具有所述SWIR光谱范围外的波长的照射;照射光学器件,其经配置以将所述照射引导到样本;第一成像通道,其包含经配置以基于包含所述SWIR光谱范围中的至少一些波长的第一波长范围将所述样本成像的第一检测器;第二成像通道,其包含经配置以基于包含所述SWIR光谱范围外的至少一些波长的第二波长范围将所述样本成像的第二检测器;及控制器。所述控制器可从所述第一检测器接收所述样本的第一图像,从所述第二检测器接收所述样本的第二图像,并基于所述第一图像及所述第二图像来产生所述样本的光学计量测量。
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公开(公告)号:CN116997863B
公开(公告)日:2024-05-24
申请号:CN202180094683.X
申请日:2021-08-10
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 一种产品,其包含:至少一个半导体衬底;多个薄膜层,其安置于所述至少一个衬底上;及叠加目标,其形成于所述薄膜层中的至少一者中。所述叠加目标包含:第一子目标,其具有第一对称中心且包含具有第一线宽的第一目标特征;及第二子目标,其具有与所述第一对称中心重合的第二对称中心且包含第二目标特征,所述第二目标特征具有大于所述第一线宽的第二线宽,且与所述第一目标特征邻近但不重叠。
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公开(公告)号:CN116997863A
公开(公告)日:2023-11-03
申请号:CN202180094683.X
申请日:2021-08-10
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种产品,其包含:至少一个半导体衬底;多个薄膜层,其安置于所述至少一个衬底上;及叠加目标,其形成于所述薄膜层中的至少一者中。所述叠加目标包含:第一子目标,其具有第一对称中心且包含具有第一线宽的第一目标特征;及第二子目标,其具有与所述第一对称中心重合的第二对称中心且包含第二目标特征,所述第二目标特征具有大于所述第一线宽的第二线宽,且与所述第一目标特征邻近但不重叠。
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公开(公告)号:CN119301421A
公开(公告)日:2025-01-10
申请号:CN202380042930.0
申请日:2023-07-21
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 公开用于产生体积数据的系统及方法。此类系统及方法能够包含在沿样本的深度方向定位的多个焦平面处扫描所述样本。此类系统及方法能够包含经由度量衡子系统的检测器在所述多个焦平面处产生所述样本的体积视场的多个图像。此类系统及方法能够包含聚集所述多个图像以产生所述样本的所述体积视场的体积数据。所述度量衡子系统能够包含林尼克干涉仪。
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