用于在基于图像的叠加计量中确定目标特征焦点的系统及方法

    公开(公告)号:CN116235042A

    公开(公告)日:2023-06-06

    申请号:CN202180064419.1

    申请日:2021-09-21

    Abstract: 一种计量系统包含通信地耦合到控制器的一或多个离焦成像计量子系统,所述控制器具有经配置以接收在一或多个焦点位置处捕获的多个训练图像的一或多个处理器。所述一或多个处理器可基于所述多个训练图像产生机器学习分类器。所述一或多个处理器可接收针对一或多个目标叠加测量的对应于一或多个目标特征的一或多个目标特征选择。所述一或多个处理器可使用所述机器学习分类器来基于所述一或多个目标特征选择确定一或多个目标焦点位置。所述一或多个处理器可:接收在所述一或多个目标焦点位置处捕获的一或多个目标图像,所述目标图像包含目标样品的所述一或多个目标特征;及基于所述一或多个目标图像确定叠加。

    用于原位载物台校正的有源光罩载体

    公开(公告)号:CN116057467A

    公开(公告)日:2023-05-02

    申请号:CN202180053904.9

    申请日:2021-09-01

    Abstract: 提供一种光罩检验系统及一种在光罩检验系统中处置光罩的方法。所述光罩检验系统包含有源光罩载体及检验工具。所述光罩安置在所述有源光罩载体上,并且所述检验工具经配置以当所述有源光罩载体安置在光罩载物台上时确定所述光罩的定向。所述有源光罩载体可在装载站与所述光罩载物台之间移动,并且经配置以当所述有源载体安置在所述光罩载物台上时,基于所述光罩的所述定向旋转所述光罩以重新定向所述光罩。

    高目标的单次抓取叠加测量
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119317877A

    公开(公告)日:2025-01-14

    申请号:CN202380042905.2

    申请日:2023-11-07

    Abstract: 一种叠加计量系统可包含物镜、用以照明叠加目标的照明光学器件,所述叠加目标包含在第一样本层上的具有第一节距的第一光栅及在第二样本层上的具有第二节距的第二光栅,其中所述第一样本层与所述第二样本层分离达大于所述物镜的景深的层分离距离。所述系统可进一步包含具有径向变化的散焦分布以补偿所述层分离距离使得所述第一光栅及所述第二光栅同时聚焦于检测器上的集光光学器件。

    生产及过程控制工具的衬底搬运的自动教导

    公开(公告)号:CN114342056A

    公开(公告)日:2022-04-12

    申请号:CN202080061550.8

    申请日:2020-09-08

    Abstract: 将教导衬底装载到制作或检验工具的装备前端模块(EFEM)的装载口中。所述EFEM包含衬底搬运机器人。所述教导衬底包含多个传感器及一或多个无线收发器。所述工具包含多个工作站。在所述教导衬底位于所述EFEM中的情况下,所述衬底搬运机器人沿着初始路线移动且从所述教导衬底无线地接收传感器数据。至少部分地基于所述传感器数据,确定不同于所述初始路线的经修改路线。所述衬底搬运机器人沿着所述经修改路线移动,从而搬运所述教导衬底。至少部分地基于所述传感器数据,确定所述多个工作站的位置。

    用于在基于图像的叠加计量中确定目标特征焦点的系统及方法

    公开(公告)号:CN116235042B

    公开(公告)日:2024-04-12

    申请号:CN202180064419.1

    申请日:2021-09-21

    Abstract: 一种计量系统包含通信地耦合到控制器的一或多个离焦成像计量子系统,所述控制器具有经配置以接收在一或多个焦点位置处捕获的多个训练图像的一或多个处理器。所述一或多个处理器可基于所述多个训练图像产生机器学习分类器。所述一或多个处理器可接收针对一或多个目标叠加测量的对应于一或多个目标特征的一或多个目标特征选择。所述一或多个处理器可使用所述机器学习分类器来基于所述一或多个目标特征选择确定一或多个目标焦点位置。所述一或多个处理器可:接收在所述一或多个目标焦点位置处捕获的一或多个目标图像,所述目标图像包含目标样品的所述一或多个目标特征;及基于所述一或多个目标图像确定叠加。

    用于经埋藏计量目标的成像系统

    公开(公告)号:CN115552195B

    公开(公告)日:2024-03-26

    申请号:CN202180032843.8

    申请日:2021-05-24

    Abstract: 一种计量系统可包含对埋藏于样本中的计量目标进行成像的成像子系统,其中所述样本是由在接口处具有计量目标的经接合的第一及第二衬底形成。所述计量系统可进一步包含具有照明场光阑及照明光瞳的照明子系统,其中所述照明场光阑包含孔径以使得所述场光阑孔径在对应于所述计量目标的测量平面上的经投影大小匹配检测器在所述测量平面处的视场,且其中所述照明光瞳包含中心视障以提供具有大于截止角的角度的所述计量目标的倾斜照明,所述截止角经选择以防止来自照明源的照明反射离开所述样本的底面且穿过所述检测器在所述测量平面处的所述视场。

    用于经埋藏计量目标的成像系统

    公开(公告)号:CN115552195A

    公开(公告)日:2022-12-30

    申请号:CN202180032843.8

    申请日:2021-05-24

    Abstract: 一种计量系统可包含对埋藏于样本中的计量目标进行成像的成像子系统,其中所述样本是由在接口处具有计量目标的经接合的第一及第二衬底形成。所述计量系统可进一步包含具有照明场光阑及照明光瞳的照明子系统,其中所述照明场光阑包含孔径以使得所述场光阑孔径在对应于所述计量目标的测量平面上的经投影大小匹配检测器在所述测量平面处的视场,且其中所述照明光瞳包含中心视障以提供具有大于截止角的角度的所述计量目标的倾斜照明,所述截止角经选择以防止来自照明源的照明反射离开所述样本的底面且穿过所述检测器在所述测量平面处的所述视场。

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