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公开(公告)号：CN116235042A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202180064419.1
申请日：2021-09-21
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G01N21/88
Abstract: 一种计量系统包含通信地耦合到控制器的一或多个离焦成像计量子系统，所述控制器具有经配置以接收在一或多个焦点位置处捕获的多个训练图像的一或多个处理器。所述一或多个处理器可基于所述多个训练图像产生机器学习分类器。所述一或多个处理器可接收针对一或多个目标叠加测量的对应于一或多个目标特征的一或多个目标特征选择。所述一或多个处理器可使用所述机器学习分类器来基于所述一或多个目标特征选择确定一或多个目标焦点位置。所述一或多个处理器可：接收在所述一或多个目标焦点位置处捕获的一或多个目标图像，所述目标图像包含目标样品的所述一或多个目标特征；及基于所述一或多个目标图像确定叠加。
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公开(公告)号：CN116235042B
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN202180064419.1
申请日：2021-09-21
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G01N21/956 , G06T7/00 , G06N20/00 , G06N3/0464 , G03F7/20 , G01N21/88
Abstract: 一种计量系统包含通信地耦合到控制器的一或多个离焦成像计量子系统，所述控制器具有经配置以接收在一或多个焦点位置处捕获的多个训练图像的一或多个处理器。所述一或多个处理器可基于所述多个训练图像产生机器学习分类器。所述一或多个处理器可接收针对一或多个目标叠加测量的对应于一或多个目标特征的一或多个目标特征选择。所述一或多个处理器可使用所述机器学习分类器来基于所述一或多个目标特征选择确定一或多个目标焦点位置。所述一或多个处理器可：接收在所述一或多个目标焦点位置处捕获的一或多个目标图像，所述目标图像包含目标样品的所述一或多个目标特征；及基于所述一或多个目标图像确定叠加。
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公开(公告)号：CN116917715A
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN202280018258.7
申请日：2022-02-25
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： A·玛纳森 , I·萨利布 , R·约哈南 , D·沙皮罗乌 , E·哈贾 , V·莱温斯基 , A·阿布拉莫夫 , M·申迪思 , A·希尔德斯海姆 , Y·格劳尔 , S·艾森巴赫 , E·拉维特 , I·尼尔
IPC: G01N21/35
Abstract: 一种光学计量工具可包含：一或多个照射源，其用以产生既具有短波红外线(SWIR)光谱范围内又具有所述SWIR光谱范围外的波长的照射；照射光学器件，其经配置以将所述照射引导到样本；第一成像通道，其包含经配置以基于包含所述SWIR光谱范围中的至少一些波长的第一波长范围将所述样本成像的第一检测器；第二成像通道，其包含经配置以基于包含所述SWIR光谱范围外的至少一些波长的第二波长范围将所述样本成像的第二检测器；及控制器。所述控制器可从所述第一检测器接收所述样本的第一图像，从所述第二检测器接收所述样本的第二图像，并基于所述第一图像及所述第二图像来产生所述样本的光学计量测量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109791896A
公开(公告)日：2019-05-21
申请号：CN201780061450.3
申请日：2017-08-23
Applicant: 科磊股份有限公司
CPC classification number: G01N21/9501 , G01J3/453 , G01N21/31 , G01N21/55 , G01N21/956 , G02B21/0016 , G02B21/0056 , G02B21/06 , G02B21/082 , G02B21/18 , G02B21/365 , G03F7/70633 , H01L21/67259 , H01L22/12
Abstract: 本发明揭示一种用于在校准、叠对及配方创建期间通过白光照射的干涉光谱学而加快半导体装置制作期间的计量活动中的光谱测量的装置及方法。
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公开(公告)号：CN116868069B
公开(公告)日：2024-09-06
申请号：CN202180094001.5
申请日：2021-10-01
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G01R31/28
Abstract: 本发明涉及一种用于在半导体装置晶片(SDW)的制造期间产生其质量参数值的系统及方法，所述方法包含：指定所述SDW上的多个测量位点集(MSS)，所述MSS中的每一者包含第一测量定向位点(FMS)及第二测量定向位点(SMS)，所述FMS及所述SMS为所述SDW上的不同测量位点；通过在第一测量定向上测量形成于所述MSS中的至少一者的每一所述FMS内的特征来产生第一测量定向质量参数数据集(FMQPD)；通过在第二测量定向上测量形成于所述MSS中的所述至少一者的每一所述SMS内的特征来产生第二测量定向质量参数数据集(SMQPD)；及至少部分基于所述FMQPD及所述SMQPD来产生至少一个工具诱发偏移(TIS)改进的质量参数值(TAQPV)。
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公开(公告)号：CN118435024A
公开(公告)日：2024-08-02
申请号：CN202380015205.4
申请日：2023-03-28
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G01B11/27 , G01N21/88 , G01N21/956 , H01L21/66
Abstract: 一种计量系统包含成像系统。所述成像系统可包含物镜。所述计量系统可包含一或多个检测器。所述计量系统可包含结构上耦合到所述物镜且经配置以经由沿所述计量系统的光轴移动来调整所述一或多个检测器中的至少一者的焦平面的物镜定位载台。所述计量系统可包含经配置以当所述物镜定位载台沿所述光轴移动时测量载台元件的侧向位置的一或多个接近传感器。所述计量系统可经配置以当实施计量配方时使用所述载台元件的图像及侧向位置来确定与样本上的目标相关联的计量测量。
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公开(公告)号：CN118225804A
公开(公告)日：2024-06-21
申请号：CN202410326042.8
申请日：2021-09-21
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G01N21/956 , G03F7/20 , G01N21/88 , G06T7/00 , G06V10/764 , G06V10/40 , G06N20/00 , G06N3/0464
Abstract: 本公开涉及用于在基于图像的叠加计量中确定目标特征焦点的系统及方法。一种计量系统包含通信地耦合到控制器的一或多个离焦成像计量子系统，所述控制器具有经配置以接收在一或多个焦点位置处捕获的多个训练图像的一或多个处理器。所述一或多个处理器可基于所述多个训练图像产生机器学习分类器。所述一或多个处理器可接收针对一或多个目标叠加测量的对应于一或多个目标特征的一或多个目标特征选择。所述一或多个处理器可使用所述机器学习分类器来基于所述一或多个目标特征选择确定一或多个目标焦点位置。
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公开(公告)号：CN116868069A
公开(公告)日：2023-10-10
申请号：CN202180094001.5
申请日：2021-10-01
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G01R31/28
Abstract: 本发明涉及一种用于在半导体装置晶片(SDW)的制造期间产生其质量参数值的系统及方法，所述方法包含：指定所述SDW上的多个测量位点集(MSS)，所述MSS中的每一者包含第一测量定向位点(FMS)及第二测量定向位点(SMS)，所述FMS及所述SMS为所述SDW上的不同测量位点；通过在第一测量定向上测量形成于所述MSS中的至少一者的每一所述FMS内的特征来产生第一测量定向质量参数数据集(FMQPD)；通过在第二测量定向上测量形成于所述MSS中的所述至少一者的每一所述SMS内的特征来产生第二测量定向质量参数数据集(SMQPD)；及至少部分基于所述FMQPD及所述SMQPD来产生至少一个工具诱发偏移(TIS)改进的质量参数值(TAQPV)。
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