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公开(公告)号：CN111052328B
公开(公告)日：2021-08-03
申请号：CN201880052694.X
申请日：2018-04-05
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01L21/66
Abstract: 本发明提供计量模块及工具中可应用的方法，其实现相对于工艺变化调整计量测量参数而不重启计量配方设置。方法包括：在初始计量配方设置期间，记录计量过程窗且从其导出基线信息；及在操作期间，相对于所述基线信息量化所述工艺变化，且相对于所述经量化工艺变化调整所述计量过程窗内的所述计量测量参数。计量参数的快速调整避免计量相关过程延迟且释放与所述延迟相关的现有技术瓶颈。各种工艺变化因素对计量测量的效应的模型可用于增强所需计量调谐的导出且实现其以最小延迟应用于生产过程。
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公开(公告)号：CN111542784B
公开(公告)日：2025-05-06
申请号：CN201880085027.1
申请日：2018-11-29
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： F·约埃尔 , M·吉诺乌克 , A·斯维泽尔 , V·莱温斯基 , I·塔尔西斯-沙皮尔
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明揭示计量目标、其设计方法及测量方法，所述目标具备相对于光刻工具的正交产生轴X及Y倾斜的周期性结构，从而实现具有对角线(倾斜(oblique/tilted))元件的装置(例如DRAM装置)的更准确叠加测量。一或多个倾斜周期性结构可用于提供关于一或多个层的一维或二维信号，从而可能提供针对应用到一个层的多个步骤的叠加测量。所述倾斜周期性结构可用于修改当前计量目标设计(例如，成像目标及/或散射测量目标)或设计新的目标，且可分别调整测量算法以从所述倾斜周期性结构导出信号及/或提供其预处理图像。所揭示的目标是过程兼容的且更准确地反映关于各种过程步骤的装置叠加。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN115702321A
公开(公告)日：2023-02-14
申请号：CN202180043955.3
申请日：2021-07-21
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明公开一种计量系统及计量方法。所述计量系统包含照明子系统、集光子系统、检测器及控制器。所述控制器经配置以：接收样本上的叠加目标的图像；基于所述图像确定两个工作区之间沿着测量方向的表观叠加；及通过将所述表观叠加除以摩尔增益以补偿摩尔干涉而计算两个样本层之间的叠加。
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公开(公告)号：CN111542784A
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN201880085027.1
申请日：2018-11-29
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： F·约埃尔 , M·吉诺乌克 , A·斯维泽尔 , V·莱温斯基 , I·塔尔西斯-沙皮尔
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明揭示计量目标、其设计方法及测量方法，所述目标具备相对于光刻工具的正交产生轴X及Y倾斜的周期性结构，从而实现具有对角线(倾斜(oblique/tilted))元件的装置(例如DRAM装置)的更准确叠加测量。一或多个倾斜周期性结构可用于提供关于一或多个层的一维或二维信号，从而可能提供针对应用到一个层的多个步骤的叠加测量。所述倾斜周期性结构可用于修改当前计量目标设计(例如，成像目标及/或散射测量目标)或设计新的目标，且可分别调整测量算法以从所述倾斜周期性结构导出信号及/或提供其预处理图像。所揭示的目标是过程兼容的且更准确地反映关于各种过程步骤的装置叠加。
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公开(公告)号：CN111052328A
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：CN201880052694.X
申请日：2018-04-05
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01L21/66
Abstract: 本发明提供计量模块及工具中可应用的方法，其实现相对于工艺变化调整计量测量参数而不重启计量配方设置。方法包括：在初始计量配方设置期间，记录计量过程窗且从其导出基线信息；及在操作期间，相对于所述基线信息量化所述工艺变化，且相对于所述经量化工艺变化调整所述计量过程窗内的所述计量测量参数。计量参数的快速调整避免计量相关过程延迟且释放与所述延迟相关的现有技术瓶颈。各种工艺变化因素对计量测量的效应的模型可用于增强所需计量调谐的导出且实现其以最小延迟应用于生产过程。
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