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公开(公告)号：CN111433677A
公开(公告)日：2020-07-17
申请号：CN201880077791.4
申请日：2018-12-10
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 一种叠加计量系统包含粒子束计量工具，所述粒子束计量工具用粒子束跨包含第一层目标元件及第二层目标元件的样本上的叠加目标扫描。所述叠加计量系统可进一步包含控制器，所述控制器从所述粒子束计量工具接收扫描信号、就对称性度量来确定所述扫描信号的对称性测量，且基于所述对称性测量来产生所述第一层与所述第二层之间的叠加测量，其中所述扫描信号的不对称性指示所述第二层目标元件相对于所述第一层目标元件的未对准，且所述叠加测量的值基于所述对称性测量。
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公开(公告)号：CN113169012A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201980079627.1
申请日：2019-12-12
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01J37/153 , H01J37/244
Abstract: 本发明实施例可包含用于校正电子束工具的响应函数的方法、系统及设备。所述校正可包含：调制具有频率的电子束参数；基于所述电子束参数朝向样本发射电子束，由此将电子散射，其中所述电子束由具有源相位及着陆角度的源波函数描述；在电子检测器处检测所述经散射电子的一部分，由此产生包含具有电子相位及电子着陆角度的电子波函数的电子数据；使用处理器来确定所述源相位与所述电子相位之间的相位延迟，由此产生等待时间；及使用所述处理器，使用所述等待时间及所述源波函数与所述电子波函数之间的差来校正所述电子束工具的所述响应函数。
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公开(公告)号：CN111433676A
公开(公告)日：2020-07-17
申请号：CN201880077786.3
申请日：2018-12-06
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种叠加计量系统可测量样本上的叠加目标的第一层上的装置特征图案与参考特征图案之间的第一层图案放置距离。所述系统可进一步继制造至少包含所述装置特征图案及所述参考特征图案的第二层之后测量所述第二层上的所述装置特征图案与所述参考特征图案之间的第二层图案放置距离。所述系统可进一步基于所述第一层及所述第二层上的所述参考特征图案的相对位置测量参考叠加。所述系统可进一步通过用所述第一层图案放置距离与所述第二层图案放置距离之间的差调整所述参考叠加而确定所述装置级特征图案的装置相关叠加。
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公开(公告)号：CN118302663A
公开(公告)日：2024-07-05
申请号：CN202380014705.6
申请日：2023-03-30
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： S·艾林
IPC: G01N23/2251 , G01B15/02 , G01B15/04 , H01L21/66
Abstract: 依据设计数据以及进行测量的工具的工具性质而确定模拟工具信号。依据测量值而确定设计辅助复合信号。然后通过将所述模拟工具信号与所述设计辅助复合信号进行比较而确定边缘安置均匀性信号。可分析所述边缘安置均匀性信号的形状及/或区域。所述边缘安置均匀性信号使得能够相对于晶片随机指标来筛选结构而无需完全表征所有个别结构。
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公开(公告)号：CN115810529A
公开(公告)日：2023-03-17
申请号：CN202211656396.6
申请日：2019-12-12
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01J37/153 , H01J37/04 , H01J37/147 , H01J37/28 , H01J37/304 , H01J37/22 , H01J37/244 , G06N3/08 , G06N20/00 , G06N3/047 , G06N3/045 , G06N3/044 , G01N23/2251 , H01L21/66
Abstract: 本申请涉及系统响应的实时检测及校正。本发明实施例可包含用于校正电子束工具的响应函数的方法、系统及设备。所述校正可包含：调制具有频率的电子束参数；基于所述电子束参数朝向样本发射电子束，由此将电子散射，其中所述电子束由具有源相位及着陆角度的源波函数描述；在电子检测器处检测所述经散射电子的一部分，由此产生包含具有电子相位及电子着陆角度的电子波函数的电子数据；使用处理器来确定所述源相位与所述电子相位之间的相位延迟，由此产生等待时间；及使用所述处理器，使用所述等待时间及所述源波函数与所述电子波函数之间的差来校正所述电子束工具的所述响应函数。
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公开(公告)号：CN113169012B
公开(公告)日：2022-12-16
申请号：CN201980079627.1
申请日：2019-12-12
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01J37/153 , H01J37/244
Abstract: 本发明实施例可包含用于校正电子束工具的响应函数的方法、系统及设备。所述校正可包含：调制具有频率的电子束参数；基于所述电子束参数朝向样本发射电子束，由此将电子散射，其中所述电子束由具有源相位及着陆角度的源波函数描述；在电子检测器处检测所述经散射电子的一部分，由此产生包含具有电子相位及电子着陆角度的电子波函数的电子数据；使用处理器来确定所述源相位与所述电子相位之间的相位延迟，由此产生等待时间；及使用所述处理器，使用所述等待时间及所述源波函数与所述电子波函数之间的差来校正所述电子束工具的所述响应函数。
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公开(公告)号：CN111433676B
公开(公告)日：2022-08-05
申请号：CN201880077786.3
申请日：2018-12-06
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种叠加计量系统可测量样本上的叠加目标的第一层上的装置特征图案与参考特征图案之间的第一层图案放置距离。所述系统可进一步继制造至少包含所述装置特征图案及所述参考特征图案的第二层之后测量所述第二层上的所述装置特征图案与所述参考特征图案之间的第二层图案放置距离。所述系统可进一步基于所述第一层及所述第二层上的所述参考特征图案的相对位置测量参考叠加。所述系统可进一步通过用所述第一层图案放置距离与所述第二层图案放置距离之间的差调整所述参考叠加而确定所述装置级特征图案的装置相关叠加。
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公开(公告)号：CN119278354A
公开(公告)日：2025-01-07
申请号：CN202380043176.2
申请日：2023-09-06
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G01B11/27 , H01L23/544 , H01L23/00
Abstract: 本发明公开用于获取接合样本的结构的测量的系统及方法。此类系统及方法可包含在将第一样本及第二样本耦合在一起之前确定所述第一样本的第一配准结构与第一界面目标结构的第一配准测量及所述第二样本的第二配准测量。此类系统及方法可包含在所述样本的此耦合之后，至少部分通过穿过所述第一样本的顶面测量所述第一配准结构来确定所述耦合样本的第三配准测量。此类系统及方法可包含基于所述第一配准测量、所述第二配准测量及所述第三配准测量来获取叠加测量。此类系统及方法可包含基于所述叠加测量来调整样本间耦合配方，其中所述样本间耦合配方可包含最终接合配方。
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公开(公告)号：CN115398478B
公开(公告)日：2024-01-23
申请号：CN202180025970.5
申请日：2021-04-04
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： S·艾林
Abstract: 可配置经安置于样品上的第一目标的第一建模目标位置处的视场，这可包含使载物台相对于检测器移动。通过加总第一设计目标位置与由在线模型提供的导航误差来确定所述第一建模目标位置。使用所述检测器来抓取所述视场的第一图像。配置经安置于所述样品上的第二目标的第二建模目标位置处的所述视场。与配置所述第二建模目标位置处的所述视场并行地，使用处理器，使用所述第一图像来确定第一实际目标位置的位置。用所述第一设计目标位置与所述第一实际目标位置之间的差来更新所述在线模型。
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