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发明公开
基板处理系统和微粒去除方法审中-实审

公开(公告)号：CN114664693A

公开(公告)日：2022-06-24

申请号：CN202111529780.5

申请日：2021-12-14

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 七崎玄一 , 原大辅 , 长田英之 , 二瓶光 , 森冈达也 , 松井旺大

IPC: H01L21/67 , H01J37/32

Abstract: 本发明提供一种基板处理系统和微粒去除方法，不在设为微粒的去除对象的收容室设置冷却机构地从收容室去除微粒的原因要素。微粒去除动作具有以下工序：工序(a)、将载置于至少1个基板冷却台上的至少1个基板假片冷却至第一温度，第一温度为5℃～20℃；以及工序(b)、在将冷却后的至少1个基板假片载置于至少1个末端执行器上的状态下，将至少1个末端执行器在真空搬送模块内或基板处理模块内的多个位置中的任一位置维持第一期间，第一期间为30秒以上。

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