公开(公告)号：CN117198973A

公开(公告)日：2023-12-08

申请号：CN202310623046.8

申请日：2023-05-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小原真智 ,  高田乐人 ,  长田英之 ,  七崎玄一 ,  东海林贤斗 ,  松本周平

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/683 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供能够减少基片贴附于载置机构的载置垫、载置机构和基片输送机构。载置垫用于载置对象物，包括：基座；和环状的外缘部，其设置于基座的一个面，以包围该面的外缘的方式向与该面的面方向交叉的方向突出，能够与对象物接触，其中，外缘部中的至少一个部分的外缘部的厚度与外缘部的其他部分的厚度不同。

公开(公告)号：CN118107983A

公开(公告)日：2024-05-31

申请号：CN202311582645.6

申请日：2023-11-23

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 东海林贤斗 ,  七崎玄一 ,  长田英之

IPC: B65G47/22 ,  B65G43/08 ,  B65G47/90 ,  B65G47/91

Abstract: 本发明提供能够使因被输送物的位置偏移而产生的用户的作业负担减少的输送系统、处理系统和输送方法。输送系统包括输送机器人、收纳部和控制装置。输送机器人具有用于检测被载置在收纳部的被输送物的位置的位置检测传感器。控制装置能够控制：由输送机器人输送被输送物并将被输送物载置在收纳部的步骤；在载置被输送物的步骤之后，基于状态检测传感器的检测结果，判断是否能够回收发生了位置偏移的被输送物的步骤；在能够回收发生了位置偏移的被输送物的情况下，使输送机器人动作，利用位置检测传感器探查被输送物的位置的步骤；和基于检测出的被输送物的位置使输送机器人移动，利用该输送机器人回收发生了位置偏移的被输送物的步骤。

公开(公告)号：CN116779526A

公开(公告)日：2023-09-19

申请号：CN202310248492.5

申请日：2023-03-15

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 东海林贤斗

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/67 ,  H01L21/68 ,  H01L21/66

Abstract: 提供一种基板处理系统、位置对准装置及基板形状监视方法。基板处理系统包括基板的载置台、旋转机构部、在旋转期间对基板的外形位置进行检测的传感器、控制装置。控制装置进行以下工序：(a)在最初使基板旋转时，使载置台以第一速度和第一加速度旋转；(b)参照使载置台从旋转开始点到旋转结束点旋转一周时的由传感器检测出的基板的外形位置的信息，对旋转开始点和旋转结束点处的基板的外形位置的偏离量是否为阈值以上进行判定；以及(c)在判定为基板的外形位置的偏离量为阈值以上的情况下，使载置台以比第一速度低的第二速度和/或比第一加速度低的第二加速度旋转，进行(b)的判定的重试动作。